[发明专利]移送装置和半导体处理系统无效

专利信息
申请号: 200480000334.3 申请日: 2004-02-20
公开(公告)号: CN1698191A 公开(公告)日: 2005-11-16
发明(设计)人: 广木勤 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68;B65G49/07
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 半导体处理系统中的移送装置(17)包括能够分别在相互平行的有第一和第二垂直平面上移动的第一和第二支持部的第一和第二动作机构(9A、9B)。按照通过第一和第二动作机构以水平状态移动的方式由第一和第二支持部支持第一和第二移动台(18A、18B)。在第一和第二移动台上,分别配置着接收被处理基板(W)的能够伸缩的第一和第二搬运机构(19A、19B)。控制部(20)使第一和第二移动台互不干涉地控制第一和第二动作机构的动作。
搜索关键词: 移送 装置 半导体 处理 系统
【主权项】:
1.一种装置,用于半导体处理系统中,其特征在于,具备:有分别能够在公共空间内相互平行的第一和第二垂直平面上移动的第一和第二支持部的第一和第二动作机构;在所述公共空间中,靠所述第一和第二动作机构以水平状态移动地支持于所述第一和第二支持部的第一和第二移动台,所述第一和第二移动台分别从所述第一和第二支持部跨越所述第一和第二垂直平面间的中心的垂直平面向所述第二和第一垂直平面延伸设置;分别设在所述第一和第二移动台上的、受理被处理基板的能够伸缩的第一和第二搬运机构;以及在所述公共空间内,使所述第一和第二移动台互不干涉地控制所述第一和第二动作机构的动作的控制部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480000334.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top