[发明专利]半导体制造装置

摘要

本发明涉及半导体制造装置。向各个处理室(3)内导入可以控制流量的不活泼气体时，利用流量计(6)测量不活泼气体的流量，同时可以用运算器20计算流向处理室(3)内的气体流量和处理室(3)的压力值并设定使气氛稳定、排出漂浮异物所需要的适当处理时间(净化时间)，因此可以通过在整个过程中经常进行时间、流量、压力的控制，从而防止异物在被处理的基板上附着。

主权项

1.一种半导体制造装置，其特征在于，具有具备一边调整气体流量一边使气体流过用的第1流量计以及测量压力用的第1压力计，对半导体基板进行处理的1个以上的处理室；具备一边调整气体流量一边使气体流过用的第2流量计以及测量压力用的第2压力计，可以将半导体基板搬入搬出这些处理室的公共输送室；具备一边调整气体流量一边使气体流过用的第3流量计以及测量压力用的第3压力计，与所述公共输送室连接，在其与外部之间搬入搬出半导体基板用的装载锁定室；以及根据所述气体流量和所述压力计算出处理时间的运算器，通过调整所述气体流量、各室内的压力以及处理时间，防止异物在被处理基板上附着。