[发明专利]等离子体脉冲注入的装置

摘要

等离子体脉冲注入的装置，它涉及的是等离子体注入的装置。等离子体发生器(7)设置在真空室(1)的壁上；转动屏蔽片(2)上开有通孔或缺口，转动屏蔽片(2)的转轴(2－1)下端中部与(1)下底端上的轴孔(1－1)转动连接，(2－1)下端与电动机(6)的转轴输出端相连接，(2－1)的一侧设置有屏蔽筒(3)，(3)的上端口与(2)的下端面之间有气隙(δ)，(3)的下端口连接在(1)的下底上，(3)的内部设置有靶台(4)，电极(4－1)的中部通过绝缘套(4－2)与孔(1－2)相套接，(4－1)的底端与直流负偏压电源(5)的电源输出端相连接，工件(7)设置在靶台(4)的上端面上。本发明能把等离子体以脉冲形式注入到材料表面，并对脉冲的占空比、脉宽、频率进行调节，其设备制造成本低、结构简单、易维护。

主权项

1.等离子体脉冲注入的装置，它由真空室(1)、转动屏蔽片(2)、屏蔽筒(3)、靶台(4)、直流负偏压电源(5)、电动机(6)、等离子体发生器(7)组成；等离子体发生器(7)设置在真空室(1)的壁上；其特征在于转动屏蔽片(2)上开有通孔或缺口，转动屏蔽片(2)的转轴(2-1)下端中部与真空室(1)下底端上的轴孔(1-1)转动连接，转动屏蔽片(2)的转轴(2-1)下端与电动机(6)的转轴输出端相连接，转动屏蔽片(2)的转轴(2-1)的一侧设置有屏蔽筒(3)，屏蔽筒(3)的上端口与转动屏蔽片(2)的下端面之间有气隙(δ)，屏蔽筒(3)的下端口连接在真空室(1)的下底上，屏蔽筒(3)的内部设置有靶台(4)，靶台(4)的下端电极(4-1)的中部通过绝缘套(4-2)与真空室(1)底端上的孔(1-2)相套接，靶台(4)的下端电极(4-1)的底端与直流负偏压电源(5)的电源输出端相连接。