[发明专利]反射式金属光栅的制作方法无效

专利信息
申请号: 200410009488.0 申请日: 2004-08-27
公开(公告)号: CN1740827A 公开(公告)日: 2006-03-01
发明(设计)人: 周翠花;余光清;李代学;代冬军;岳永坚 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G02B5/00;G03F7/20
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 代理人: 刘秀娟;成金玉
地址: 610209*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 反射式金属光栅的制作方法,其特征在于用光化学方法直接对精密加工的金属基板进行腐蚀,腐蚀后形成的无光泽线条作为光栅暗条纹,未被腐蚀的金属基板作为光栅亮条纹,具体制作步骤为:先对金属基板光栅面进行精密加工,然后在精密加工后的表面上涂上均匀厚度的光刻胶,前烘去除光刻胶中的稀释剂后在基板上放置光栅母板并进行曝光,再用显影液进行离心显影,烘烤坚膜后在FeCl3腐蚀液中腐蚀成形,最后清洁光栅表面(去胶)。用该方法制作的反射式金属光栅,结构简单、成本低、强度高、线条牢固度好。
搜索关键词: 反射 金属 光栅 制作方法
【主权项】:
1、一种反射式金属光栅的制作方法,包括长、圆光栅,其特征在于:用光化学方法直接对精密加工的金属基板进行腐蚀,腐蚀后形成的无光泽线条作为光栅暗条纹,未被腐蚀的金属基板作为光栅亮条纹,具体制作方法如下:先对金属基板光栅面进行精密加工,然后在精密加工后的表面上涂上均匀厚度的光刻胶,前烘去除光刻胶中的稀释剂后在基板上放置光栅母板并进行曝光,再用显影液液进行离心显影,坚膜后在FeCl3腐蚀液中腐蚀,最后清洁基板表面。
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