[发明专利]半导体表面处理和其中所用的混合物有效
| 申请号： | 200380102813.1 | 申请日： | 2003-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN1711349A | 公开（公告）日： | 2005-12-21 |
| 发明（设计）人： | M·伯尔纳;G·基利安;R·莱茵;L·阿尔诺德;M·舒斯特;A·利奥波德 | 申请（专利权）人： | 巴斯福股份公司 |
| 主分类号： | C11D7/06 | 分类号： | C11D7/06;C11D7/32;C11D3/39;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及表面处理组合物和用其处理底物表面的方法。更具体地，本发明涉及主要组分为液体介质的表面处理组合物，其防止底物表面被表面处理组合物中的金属杂质污染并且稳定地提供极其洁净的底物表面，还涉及使用该组合物处理底物表面的方法。该组合物包括水、过氧化氢、碱性化合物和2，2－双(羟乙基)－(亚氨基三)－(羟甲基)甲烷和/或氨三乙酸。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 表面 处理 其中 所用 混合物 | ||
【主权项】：
1.一种用于金属杂质污染在其中成为麻烦的表面处理操作的清洁溶液，其含有碱性化合物、过氧化氢、水和作为螯合添加剂的2，2-双(羟乙基)-(亚氨基三)-(羟甲基)甲烷[Bis Tris]和/或氨三乙酸[NTA；CAS 139-13-9；Titrplex I]。
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