[发明专利]低介电常数无定形二氧化硅类被膜形成用涂布液及该涂布液的配制方法有效
| 申请号： | 200380102613.6 | 申请日： | 2003-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN1708563A | 公开（公告）日： | 2005-12-14 |
| 发明（设计）人： | 中岛昭;江上美纪;小松通郎;中田义弘;矢野映;铃木克己 | 申请（专利权）人： | 触媒化成工业株式会社;富士通株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/04 | 分类号： | C09D183/04;C09D183/02;C09D5/25;//C01B33/12 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于形成具有2.5或2.5以下较小的介电常数、杨氏模量为6.0GPa或6.0GPa以上、且疏水性优良的低介电常数无定形二氧化硅类被膜的涂布液及其配制方法。该涂布液为含有以如下方法获得的硅化合物的溶液：将原硅酸四烷基酯(TAOS)及特定烷氧基硅烷(AS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解而得到硅化合物；或使原硅酸四烷基酯(TAOS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解或部分水解后，与特定烷氧基硅烷(AS)或其水解产物或部分水解产物混合，再根据需要使其部分或全部水解而得到硅化合物。另外，该涂布液是将上述成分按特定比例混合，并在特定的操作条件下进行配制的。 | ||
| 搜索关键词： | 介电常数 无定形 二氧化硅 类被膜 形成 用涂布液 涂布液 配制 方法 | ||
【主权项】：
1.一种低介电常数无定形二氧化硅类被膜形成用涂布液，该涂布液用于形成具有较高膜强度、并具有优良疏水性的平滑的低介电常数无定形二氧化硅类被膜，其特征为，含有通过以下方法得到的硅化合物：将原硅酸四烷基酯TAOS及由下述通式(I)表示的烷氧基硅烷AS，在氢氧化四烷基铵TAAOH的存在下水解而得到硅化合物，XnSi(OR)4-n (I)式中，X表示氢原子、氟原子、或碳原子数为1～8的烷基、氟取代烷基、芳基、或乙烯基，R表示氢原子、或碳原子数为1～8的烷基、芳基或乙烯基，另外，n为0～3的整数。
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C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
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