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[发明专利]氧化铈系复合微粒分散液、其制造方法及包含氧化铈系复合微粒分散液的研磨用磨粒分散液-CN201880026476.9有效
发明人： 小松通郎;西田广泰;俵迫祐二;碓田真也;中山和洋 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C01B33/12 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供即使对于二氧化硅膜、Si晶片、难加工材料也能够高速地进行研磨、同时能够实现高面精度的氧化铈系复合粒子分散液。通过氧化铈系复合微粒分散液，从而解决了上述课题，所述氧化铈系复合微粒分散液包含具备下述特征的平均粒径为50～350nm的氧化铈系复合微粒。氧化铈系复合微粒具有母粒、含有铈的二氧化硅层、子粒和包含易溶解性二氧化硅的层，母粒以非晶质二氧化硅作为主成分，子粒以结晶性氧化铈作为主成分。包含易溶解性二氧化硅的层的质量相对于氧化铈系复合微粒的质量而言的比例在特定范围内。就氧化铈系复合微粒而言，二氧化硅与氧化铈的质量比在特定范围内。氧化铈系复合微粒供于X射线衍射时，仅检测到氧化铈的结晶相。氧化铈系复合微粒供于X射线衍射而测得的结晶性氧化铈的平均微晶直径为10～25nm。
氧化复合微粒分散制造方法包含研磨用磨粒

[发明专利]氧化铈系复合微粒分散液、其制造方法和包含氧化铈系复合微粒分散液的研磨用磨粒分散液-CN201780069811.9有效
发明人： 小松通郎;俵迫祐二;碓田真也;中山和洋;川上翔大 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2017-10-06 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： C01B33/14 文献下载
摘要：课题在于，提供一种二氧化硅系复合颗粒分散液，其对二氧化硅膜、Si晶片或难加工材料也能够以高速进行研磨，同时能够实现高面精度。该课题通过一种氧化铈系复合微粒分散液而解决，其包含具有下述特征的平均粒径50～350nm的氧化铈系复合微粒；氧化铈系复合微粒具有母粒、其表面上的含铈的二氧化硅层、和在含铈的二氧化硅层的内部分散的子粒，母粒以非晶质二氧化硅为主要成分，子粒以结晶性氧化铈为主要成分；子粒的粒径分布中的变异系数(CV值)为14～40％；氧化铈系复合微粒中二氧化硅与氧化铈的质量比为100:11～316；氧化铈系复合微粒在供于X射线衍射时仅检测到氧化铈的结晶相；氧化铈系复合微粒供于X射线衍射而测定的结晶性氧化铈的平均晶粒粒径为10～25nm。
氧化复合微粒分散制造方法包含研磨用磨粒

[发明专利]研磨组合物-CN201780083133.1有效
发明人： 小松通郎;岩崎幸博;西田广泰;俵迫祐二;中山和洋 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2017-12-28 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明的课题为提供研磨组合物，通过针对形成有二氧化硅等覆膜的衬底使用不产生缺陷的磨粒而增加机械性摩擦效果，从而能够以高速进行研磨，同时能够实现低擦伤等高面精度。解决手段为研磨组合物，其包含磨粒、纤维素单元的C6位的羟基的至少一部分被氧化为羧基而得到的改性微纤维纤维素、以及分散介质，并且Na及K的各含量相对于固态成分重量而言为100ppm以下。
研磨组合

[发明专利]二氧化硅系复合微粒分散液、其制造方法以及包含二氧化硅系复合微粒分散液的研磨用浆料-CN201680019610.3有效
发明人：俵迫祐二;若宫義宪;柏田真吾;井上一昭;中山和洋;小松通郎 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2016-03-30 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： C01B33/146 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种即便是二氧化硅膜、Si晶片、难以加工的材料也可以高速研磨，同时可以实现高表面精度(低划痕等)，进而由于不含杂质，因此能够在半导体基板、布线基板等的半导体器件的表面的研磨中优选使用的二氧化硅系复合微粒分散液。本发明通过一种二氧化硅系复合微粒分散液来解决上述课题，其包含二氧化硅系复合微粒，该二氧化硅系复合微粒在以无定形二氧化硅为主要成分的母颗粒的表面上结合有以结晶性二氧化铈为主要成分的子颗粒，进而具有覆盖这些颗粒的二氧化硅覆膜，且具备下述特征。母颗粒与子颗粒的质量比为特定范围。当供于X射线衍射时，仅检测到二氧化铈的结晶相。结晶性二氧化铈的(111)面(2θ＝28度附近)的微晶直径为特定范围。Na等的含有率低。二氧化硅覆膜的Si原子数％相对于Ce原子数％的比为特定范围。
二氧化硅复合微粒分散制造方法以及包含研磨浆料

[发明专利]含纳米气泡的无机氧化物微粒及包含其的研磨剂-CN201880030025.2有效
发明人： 小松通郎;西田広泰;中山和洋 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2018-05-21 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供在作为研磨剂使用的工序中浓缩稳定性优异的含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液。通过一种含纳米气泡的无机氧化物微粒分散液来解决上述课题，所述含纳米气泡的无机氧化物微粒包含：无机氧化物微粒，其平均粒径为1～500nm，且包含含有Ce的微粒；和纳米气泡，其平均气泡直径为50～500nm，且为非氧化性气体，所述非氧化性气体为选自N2及H2中的至少一者。
纳米气泡无机氧化物微粒包含研磨剂

[发明专利]覆膜形成用涂布液和其制造方法、和带覆膜的基材的制造方法-CN201610202193.8有效
发明人：荒金宏忠;江上美纪;村口良;小松通郎;熊泽光章 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2016-03-31 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： C09D1/00 文献下载
摘要：本发明涉及覆膜形成用涂布液和其制造方法、和带覆膜的基材的制造方法。对于本发明的透明覆膜形成用涂布液，在包含水和有机溶剂的混合溶剂中溶解或分散有能够与金属醇盐形成螯合物的有机化合物(A成分)、式(2)所示的3官能以上的硅烷化合物和其水解缩合物中的至少一者(B成分)以及式(3)所示的金属醇盐和其水解缩合物中的至少一者(C成分)。此时，A成分的摩尔数(M1)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M1/M3)处于0.25以上且小于2.0的范围，B成分的摩尔数(M2)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M2/M3)处于0.1以上且9.0以下的范围。(R3)(4‑m)Si(R4)m(2)M(OR5)n(3)。
形成用涂布液制造方法带覆膜基材

[发明专利]覆膜形成用涂布液、覆膜形成用涂布液的制造方法、及带覆膜的基材-CN201610799355.0有效
发明人：荒金宏忠;江上美纪;村口良;平井俊晴;小松通郎 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： C09D183/04 文献下载
摘要：本发明涉及覆膜形成用涂布液、覆膜形成用涂布液的制造方法、及带覆膜的基材。本发明的覆膜形成用涂布液的特征在于，其是在包含水和有机溶剂的混合溶剂中溶解或分散有能够与金属醇盐形成螯合物的有机化合物(A成分)、下述式(2)所示的6官能硅烷化合物及其水解缩合物中的至少任一者(B成分)和下述式(3)所示的金属醇盐及其水解缩合物中的至少任一者(C成分)而成的，A成分的摩尔数(M1)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M1/M3)处于0.25以上且小于2的范围，B成分的摩尔数(M2)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M2/M3)处于0.5以上且8以下的范围。;M(OR10)n (3)。
形成用涂布液制造方法带覆膜基材

[发明专利]碎解二氧化硅粒子的制造方法及包含该微粒的树脂组合物-CN201480042492.9有效
发明人：村口良;江上美纪;熊泽光章;谷口正展;小柳嗣雄;小松通郎;江上和孝 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2014-08-01 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： C01B33/12 文献下载
摘要：向通过导入碎解用容器内的气体而产生的旋流中供给煅烧工序中经煅烧的二氧化硅粒子，进行碎解。由此，实现可容易地碎解、兼顾低吸湿性和高树脂分散性的碎解二氧化硅粒子。另外，如果碎解时导入除湿空气(气体)，则吸湿性低，在树脂中的分散性大幅提高。另外，如果碎解后再次进行加热处理(煅烧)，碎解二氧化硅粒子的表面被改性，吸湿性和在树脂中的分散性大幅提高。包含由此而得的碎解二氧化硅粒子的树脂组合物在用于半导体的底部填充材料、液晶显示装置的面内用间隔物或密封用间隔物时的注入性、过滤性良好。
二氧化硅粒子制造方法包含微粒树脂组合

[发明专利]二氧化硅系复合微粒分散液及其制造方法-CN201780024719.0在审
发明人：俵迫祐二;小松通郎;中山和洋;岩崎幸博;若宫義宪;川上翔大;碓田真也 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2017-04-05 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供即使是二氧化硅膜、Si晶圆、难加工材料也可以以高速进行研磨，同时可以达成高面精度(低擦痕等)，可以优选用于半导体基板、布线基板等半导体装置的表面的研磨的二氧化硅系复合微粒分散液。通过含有二氧化硅系复合微粒的二氧化硅系复合微粒分散液来解决上述问题，所述二氧化硅系复合微粒在将非晶质二氧化硅作为主要成分的母颗粒的表面上具有将结晶性二氧化铈作为主要成分的子颗粒、且具备下述特征。前述二氧化硅系复合微粒的二氧化硅与二氧化铈的质量比为100:11～316。前述二氧化硅系复合微粒供于X射线衍射时，仅检出二氧化铈的结晶相。前述二氧化硅系复合微粒供于X射线衍射进行测定得到的前述结晶性二氧化铈的微晶粒径为10～25nm。
二氧化硅复合微粒二氧化铈分散液研磨结晶性非晶质二氧化硅半导体基板半导体装置二氧化硅膜难加工材料布线基板微晶粒径结晶相母颗粒质量比子颗粒擦痕高面检出晶圆优选制造

[发明专利]多孔二氧化硅系颗粒和清洁用化妆品-CN201580055639.2有效
发明人：渡边慧;榎本直幸;三好康敬;小松通郎 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2015-11-05 - 公布日： 2017-11-03 - 主分类号： C01B33/157 文献下载
摘要：本发明对在清洁用化妆品中用作磨砂剂的多孔二氧化硅系颗粒进行最优化。本发明的多孔二氧化硅系颗粒的平均圆度为0.1～0.5，微孔容积(Pv)为1.0～2.0ml/g，众数直径(Dm)为50～600μm，最大粒径(D100)与众数直径(Dm)之比(D100/Dm)为3.0以下，用1.0～1.4KPa的负荷涂擦30秒钟后的中位径(DR50)为0.5～25μm，最大粒径(DR100)为1～100μm。按照使用所述颗粒的清洁用化妆品，利用涂擦中与皮肤的摩擦产生的摩擦力摩擦皮肤，能够得到柔和的角质层剥脱效果，并且能够防止皮肤的损伤和对角质层造成的微小损伤。
多孔二氧化硅颗粒清洁化妆品

[发明专利]带防反射膜的基材的制造方法及光电池-CN201310256586.3有效
发明人：箱嶋夕子;松田政幸;村口良;小松通郎 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2013-06-25 - 公布日： 2017-08-25 - 主分类号： H01L31/0216 文献下载
摘要：本发明涉及带防反射膜的基材的制造方法及光电池。本发明提供硬度高且裂纹、擦伤等的发生得到抑制的带防反射膜的基材的制造方法。该带防反射膜的基材由形成于基材上的高折射率层、和形成于该高折射率层上的低折射率层构成，所述制造方法包括下述的工序(a)～(e)(a)在基材上涂布分散液，该分散液是包含1～1000ppm的碱性氮化合物、且折射率在1.50～2.40的范围内的高折射率金属氧化物粒子的分散液；(b)在低于碱性氮化合物的沸点的温度下除去分散介质；(c)涂布低折射率层形成成分分散液；(d)在除去分散介质后，(e)在120～700℃下进行加热处理。
反射基材制造方法光电池

[发明专利]核壳型复合氧化物微粒的分散液、该分散液的制造方法及含该微粒的涂料组合物-CN201080035839.9有效
发明人：石原庸一;平井俊晴;小松通郎 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2010-07-26 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： C01B13/14 文献下载
摘要：将作为主成分不含硅及/或铝的氧化物微粒或复合氧化物微粒作为核粒子，将其表面用由含有硅和铝作为主成分的复合氧化物形成的壳进行被覆的核壳型复合氧化物微粒，其中，所述壳所含的硅和铝的含量以氧化物换算基准的重量比计在SiO2/Al2O3＝2.0～30.0的范围内，藉此能够得到表面负电荷量及壳对核的被覆率高、超稳定的核壳型复合氧化物微粒的分散液。
核壳型复合氧化物微粒分散制造方法涂料组合

[发明专利]透明被膜形成用涂布液以及带透明被膜的基材-CN201110212725.3有效
发明人：村口良;松田政幸;平井俊晴;小松通郎;箱嶋夕子 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2011-07-19 - 公布日： 2012-04-11 - 主分类号： C09D133/00 文献下载
摘要：本发明提供导电性无机氧化物微粒的掺入量少的情况下也能够具有高导电性，透明性高，着色以及干涉条纹被抑制，经济性也良好的可形成带透明被膜的基材的透明被膜形成用涂布液。本发明的透明被膜形成用涂布液含有导电性无机氧化物微粒、基质形成成分以及分散介质，所述导电性无机氧化物微粒经以下述式(1)表示的有机硅化合物表面处理而形成，分散介质含有酮类，总固体成分的浓度在1-60质量％的范围内，表面处理了的导电性无机氧化物微粒为非凝聚且高分散，其作为固体成分的浓度在0.01-6质量％的范围内，基质形成成分的固体成分的浓度在0.1-59.4质量％的范围内，获得的透明被膜中导电性无机氧化物微粒能形成为链状结构，Rn-SiX4-n (1)其中，R为碳数1-10的非取代或取代的烃基，相互相同或不同，X：碳数1-4的烷氧基、羟基、卤素、氢、n：0-3的整数。
透明形成用涂布液以及基材

[发明专利]含高折射率金属氧化物微粒的涂料组合物及将该涂料组合物涂布于基材上而得的固化性涂膜-CN200980152910.9有效
发明人：石原庸一;村井幸雄;平井俊晴;小松通郎 -专利权人：日挥触媒化成株式会社
申请日： 2009-08-12 - 公布日： 2011-11-30 - 主分类号： C09D201/00 文献下载
摘要：本发明涉及包含具有高折射率和低光催化活性的金属氧化物微粒的涂料组合物及将该涂料组合物涂布于基材上而得的固化性涂膜。具备金红石型晶体结构的特定的钛类微粒的表面至少用二氧化硅类氧化物或二氧化硅类复合氧化物被覆而得的含高折射率金属氧化物微粒的涂料组合物，以及将该涂料组合物涂布于基材上而得的固化性涂膜。所述金属氧化物微粒不仅具备高折射率还具备低光催化活性，因此可在基材上形成耐候性和耐光性良好的涂膜。
折射率金属氧化物微粒涂料组合物涂布基材固化性涂膜

[发明专利]低介电常数无定形二氧化硅类被膜的形成方法及由该方法得到的低介电常数无定形二氧化硅类被膜-CN200380102612.1有效
发明人：中岛昭;江上美纪;小松通郎;中田义弘;矢野映;铃木克己 -专利权人：触媒化成工业株式会社;富士通株式会社
申请日： 2003-10-27 - 公布日： 2005-12-14 - 主分类号： H01L21/312 文献下载
摘要：本发明提供一种具有低至2.5或2.5以下的介电常数、杨氏模量为6.0GPa或6.0GPa以上、且疏水性优良的低介电常数无定形二氧化硅类被膜及其形成方法。使原硅酸四烷基酯(TAOS)及特定烷氧基硅烷(AS)在氢氧化四烷基铵(TAAOH)的存在下水解而得到硅化合物，配制含有所得硅化合物的液态组合物。然后，将该液态组合物涂布在基板上，进行加热处理及烧制处理，得到被膜。以上述方法得到的被膜表面平滑，且其内部具有特定的微孔。
介电常数无定形二氧化硅类被膜形成方法得到

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