[发明专利]制备吡唑化合物的方法无效

专利信息
申请号: 200380102010.6 申请日: 2003-10-22
公开(公告)号: CN1708483A 公开(公告)日: 2005-12-14
发明(设计)人: 间濑俊明;饭田刚彦;门胁千惠;川崎雅史;浅川坚一;羽下裕二 申请(专利权)人: 万有制药株式会社
主分类号: C07D231/38 分类号: C07D231/38
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 樊卫民;杨青
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及制备式I的吡唑化合物的方法。
搜索关键词: 制备 吡唑 化合物 方法
【主权项】:
1.制备式I′的化合物、或其盐、水合物或多晶型物的方法,其中R1和R2都独立地选自:(1)    氢,(2)    卤素,(3)    硝基,(4)    低级烷基,(5)    卤代(低级)烷基,(6)    羟基(低级)烷基,(7)    环(低级)烷基,(8)    低级链烯基,(9)    低级烷氧基,(10)   卤代(低级)烷氧基,(11)   低级烷硫基,(12)   羧基,(13)   低级烷酰基,(14)   低级烷氧基羰基,(15)   选择性地被氧代取代的低级亚烷基,和(16)   -Q-Ar2,其中Q选自单键和羰基,和其中Ar2选自:(1)    芳基,和(2)    杂芳基,其中Ar2为未取代的或被选自以下的取代基取代:(a)    卤素,(b)    氰基,(c)    低级烷基,(d)    卤代(低级)烷基,(e)    羟基(低级)烷基,(f)    羟基,(g)    低级烷氧基,(h)    卤代(低级)烷氧基,(i)    低级烷基氨基,(j)    (二低级烷基)氨基,(k)    低级烷酰基,和(l)    芳基;所述方法包括步骤:(a)形成肼溶液;(b)向步骤(a)的肼溶液中加入式V的化合物形成混合物;和其中R3选自(1)  低级烷基,(2)  芳基,和(3)  -CH2芳基,(c)  加热步骤(b)的混合物到约50℃到约100℃的温度;以得到化合物I’、或其盐、水合物或多晶型物。
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