[发明专利]钎料印刷用掩模、布线基板及其制造方法、及其它们的应用有效
| 申请号： | 03157092.5 | 申请日： | 2003-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN1487359A | 公开（公告）日： | 2004-04-07 |
| 发明（设计）人： | 芦田刚士 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/16 | 分类号： | G03F1/16;G02F1/1345;G02F1/136;H01L21/52;H01L21/60 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 陈海红;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在基板上形成的多个端子上边印制钎料时，要做到总能充分确保钎料与端子之间的接触面积。本发明是基板33上形成的与IC封装具备的多个端子对应的多个端子39上印制钎料64时使用的掩模62。该掩模62具有使钎料64通过的开口63，该开口63变成大于端子39。钎料64也许覆盖与端子39邻接的布线38a，但是对其施加回流焊处理，就会分离为一部分64a和另一部分64b，防止布线38a与端子39短路。 | ||
| 搜索关键词： | 印刷 用掩模 布线 及其 制造 方法 它们 应用 | ||
【主权项】：
1.一种掩模，是在与IC封装上具备的多个端子对应地在基板上形成的多个端子上印制钎料时使用的掩模，其特征在于具有使钎料通过的开口，该开口大于所述基板上的端子。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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