[发明专利]辐射敏感树脂组合物,形成有图案绝缘膜的形成方法,装配有该膜的有源矩阵板和平板显示设备,和生产平板显示设备的方法有效

专利信息
申请号: 03152470.2 申请日: 2003-04-15
公开(公告)号: CN1479173A 公开(公告)日: 2004-03-03
发明(设计)人: 小林和树;迫野郁夫;白木真司;佐佐木宽文;丹羽一明 申请(专利权)人: 夏普株式会社;JSR株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/11;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王健
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供辐射敏感树脂组合物,用该组合物容易高精度形成防水性变化的有图案绝缘膜,使用此组合物形成有图案绝缘膜的方法,使用此组合物的显示单元和平板显示设备,和生产平板显示设备的方法。所述树脂组合物包括特定比例的(A)碱溶性共聚物,(B)1,2-醌二叠氮化物化合物和(C)防水硅氧烷树脂。在有图案绝缘膜的生产方法中,在由树脂组合物形成的涂层上进行形成图案曝光和显影。显示单元和平板显示设备装配有由树脂组合物形成的间层绝缘膜。平板显示设备的生产方法包括间层绝缘膜形成步骤,该步骤包括在曝光中曝光导体层形成区域的形成图案曝光处理,在导体层形成区域的一部分中仅固化表面层部分,和在其它部分中固化在它的厚度方向上的整体,和采用液体材料在间层绝缘膜表面上形成导体层的导体层形成步骤。
搜索关键词: 辐射 敏感 树脂 组合 形成 图案 绝缘 方法 装配 有源 矩阵 平板 显示 设备 生产
【主权项】:
1.一种辐射敏感树脂组合物,包括:(A)100重量份由如下组分(a),(b),和(c)获得的碱溶性共聚物:(a)不饱和羧酸,(b)包含环氧基团的可自由基聚合的化合物,和(c)不是组分(a)和(b)的任何其它可自由基聚合的化合物,(B)5-100重量份1,2-醌二叠氮化物化合物,和(C)至少0.1重量份防水硅氧烷树脂。
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