[发明专利]铜双镶嵌内连线的焊垫及其制造方法无效

专利信息
申请号: 02146724.2 申请日: 2002-11-04
公开(公告)号: CN1499625A 公开(公告)日: 2004-05-26
发明(设计)人: 李世达;徐震球;颜聪富;王清帆 申请(专利权)人: 矽统科技股份有限公司
主分类号: H01L23/522 分类号: H01L23/522;H01L23/48;H01L21/768;H01L21/28
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 刘朝华
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种铜双镶嵌内连线的焊垫及其制造方法,它包括具有一平坦表面的第一堆叠绝缘结构设置于基底上;多数第一铜插塞是镶嵌于第一堆叠绝缘结构中;第一层至第n-1层的铜导线层是镶嵌于第一堆叠绝缘结构中,每一铜导线层是通过第一铜插塞电性连接;第二绝缘层是设置于第一堆叠绝缘结构和n-1层铜导线层上;多数第二铜插塞是镶嵌于第二绝缘层中,第二铜插塞是连接至第n-1层铜导线层;第n层AlCu导线层是设置于第一绝缘层和第二铜插塞上,且连接至第二铜插塞,第n层AlCu导线层包括一焊垫和一内连线;保护层是设置于第n层AlCu层和第二绝缘层上,保护层具有一开口暴露出该焊垫。具有降低制造成本和焊垫制程的复杂度的功效。
搜索关键词: 镶嵌 连线 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种铜双镶嵌内连线的焊垫,其特征是:它包括有基底;具有一平坦表面的第一堆叠绝缘结构设置于该基底上;多数第一铜插塞是镶嵌于该第一堆叠绝缘结构中;第一层至第n-1层的铜导线层是镶嵌于该第一堆叠绝缘结构中,该第n-1层铜导线层的表面和该第一堆叠绝缘结构的表面是共平面;其中该n为大于3的整数,其中每一铜导线层是通过该第一铜插塞电性连接;第二绝缘层是设置于该第一堆叠绝缘结构和该第n-1层铜导线层上;多数第二铜插塞是镶嵌于该第二绝缘层中,该第二铜插塞是连接至该第n-1层铜导线层;第n层AlCu导线层是设置于该第一绝缘层和第二铜插塞上,且连接至该第二铜插塞,该第n层AlCu导线层包括一焊垫和一内连线;保护层是设置于该第n层AlCu层和该第二绝缘层上,该保护层具有一开口暴露出该焊垫。
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