[发明专利]制备非线性光学有机结晶膜的方法无效
| 申请号： | 01815823.4 | 申请日： | 2001-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN1459047A | 公开（公告）日： | 2003-11-26 |
| 发明（设计）人： | 许将军;方佈生 | 申请（专利权）人： | 瑞威欧公司 |
| 主分类号： | G02F1/361 | 分类号： | G02F1/361;G02F1/065 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了用于制备非线性光学(NLO)膜以及由此制备的NLO膜结构的方法。该方法包括在一个基片的至少一个表面上沉积一种定向层材料，以基本上单轴方向排列该定向层的分子，以及在该定向层材料上沉积一个NLO膜。这些方法是有利的，因为它们生产具有相对较强NLO特性的NLO膜。这些方法可能是更有利的，因为它们相对简单且可应用于许多有机NLO材料。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 非线性 光学 有机 结晶 方法 | ||
【主权项】：
1、一种用于制备结晶的非线性光学膜的方法，所述方法包括：提供一个基片、一种包括长形聚合分子的定向层材料和至少一种非线性光学材料；沉积一个薄层的所述定向层材料于所述基片的至少一个表面上；以基本上单轴方向排列所述定向材料的分子；以及在所述定向层材料上沉积一层的所述至少一种非线性光学材料。
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，
，
，α＝γ＝90°，β＝110.119(2)°，z＝4，单胞体积为
。采用溶剂热反应法制备。该材料用于制备非线性光学器件。该非线性光学器件的入射电磁辐射的波长范围为1.4～40μm，该非线性光学器件能产生波长长至10μm的红外光输出。
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- 许将军;方佈生 - 瑞威欧公司
- 2001-07-13 - 2003-11-26 -
- 提供了用于制备非线性光学(NLO)膜以及由此制备的NLO膜结构的方法。该方法包括在一个基片的至少一个表面上沉积一种定向层材料，以基本上单轴方向排列该定向层的分子，以及在该定向层材料上沉积一个NLO膜。这些方法是有利的，因为它们生产具有相对较强NLO特性的NLO膜。这些方法可能是更有利的，因为它们相对简单且可应用于许多有机NLO材料。
- 专利分类
