[发明专利]抛光剂及其制造方法以及抛光方法有效
| 申请号： | 01801018.0 | 申请日： | 2001-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN1366549A | 公开（公告）日： | 2002-08-28 |
| 发明（设计）人： | 谷泰弘;卢毅申 | 申请（专利权）人： | 日本微涂料株式会社;谷泰弘 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B24B37/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 魏金玺,杨丽琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供在不损伤抛光表面的情况下进行抛光的抛光剂及抛光方法。抛光被抛光体表面的抛光剂是由基体粒子和被保持在其表面上的超微细磨料构成的。超微细磨料在抛光过程中被保持在基体粒子上。另外,还具有如下特征在抛光过程中,超微细磨料即使从基体粒子表面的一部分剥离,也会再次附着于基体粒子的表面上。制造抛光剂的方法是由在超微细磨料中添加基体粒子并进行搅拌的工序构成。进一步地,使用抛光剂进行抛光的方法由如下工序组成即,将抛光剂以恒定量供给承台的工序和一边以所定的旋转速度使承台旋转,一边将被抛光体抛光加工的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 及其 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
1.一种抛光剂，它是抛光被抛光体表面的抛光剂，其特征是：由基体粒子及保持于其表面上的超微细磨料构成。
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