[发明专利]化学增强型正光刻胶组合物和锍盐无效
申请号: | 01129511.2 | 申请日: | 2001-06-22 |
公开(公告)号: | CN1330289A | 公开(公告)日: | 2002-01-09 |
发明(设计)人: | 上谷保则;大桥贤治;釜渊明 | 申请(专利权)人: | 住友化学工业股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039 |
代理公司: | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人: | 王学强 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种化学增强型正光刻胶组合物,其提供了具有显著改善了线边缘粗糙度的光刻胶图案,并且其各种光刻胶性能如耐干蚀刻性、灵敏度和分辨力均优良,其包括(A)一种酸发生剂,含有锍盐和至少一种鎓盐;(B)一种树脂,该树脂包括具有对酸不稳定的基团的聚合单元,并且其本身不溶或微溶于碱,但通过酸的作用变为可溶于碱。该组合物适宜于KrF受激准分子激光、ArF受激准分子激光下的平版印刷,从而可得到高性能的光刻胶图案。 | ||
搜索关键词: | 化学 增强 光刻 组合 | ||
【主权项】:
1.一种化学增强型正光刻胶树脂组合物,其特征为:包括:(A)一种酸发生剂,含有(a)由下式(I)表示的锍盐,其中每一个Q1和Q2独立表示1至6个碳原子的直链或支链烷基或3至10个碳原子的环烷基,或Q1和Q2与相邻的硫原子一起形成可含有一个氧原子或硫原子的杂环基;Q3表示氢原子,Q4表示1至6个碳原子的直链或支链烷基或3至10个碳原子的环烷基,或Q3和Q4与其相邻的CHC(O)基一起形成2-氧代环烷基;Q5SO3-表示有机磺酸根离子,条件是当Q5表示具有1至8个碳原子的全氟烷基时,排除Q1表示1至6个碳原子的直链或支链烷基,Q2表示1至6个碳原子的直链或支链烷基或3至10个碳原子的环烷基,和Q3和Q4与其相邻的CHC(O)基一起形成2-氧代环烷基的情形;和(b)至少一种鎓盐,选自:由下式(IIa)表示的三苯基锍盐和由下式(IIb)表示的二苯基碘鎓盐其中P1-P5各自独立表示氢原子、羟基、1至6个碳原子的烷基或1至6个碳原子的烷氧基,P6SO3-和P7SO3-各自表示有机磺酸根离子,p和q表示1至8的整数;和(B)一种树脂,该树脂包括具有对酸不稳定的基团的聚合单元,并且其本身不溶或微溶于碱,但通过酸的作用变为可溶于碱。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学工业股份有限公司,未经住友化学工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/01129511.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:交联聚合物及其制备方法和用途
- 下一篇:门的开闭装置