[发明专利]用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂料

摘要

本发明涉及一种新型抗反射涂料组合物及其在光刻中应用的方法。该抗反射涂料溶液包含一种新型聚合物和一种有机溶剂或溶剂的混合物,其中所述新型聚合物包含含有可吸收约180nm到约450nm的染料的单元且不含交联基团。

主权项

1.一种用于光刻的涂料组合物，包含：a)具有下式结构的聚合物，其中，R1-R3独立地为H、(C1-C10)烷基或(C1-C10)烷氧基，R5-R8不含交联基团并独立地为H、(C1-C10)烷基、(C1-C10)烷氧基、羟烷基、硝基、卤素、氰基、芳基、烷芳基、亚烷基、二氰基乙烯基、SO2CF3、COOZ、SO3Z、COZ、OZ、NZ2、SZ、SO2Z、NHCOZ、SO2NZ2，其中Z为H或(C1-C10)烷基、羟(C1-C10)烷基、(C1-C10)烷基OCOCH2COCH3，或R7和R8结合形成环状基团，X1为C＝O、OCO、CONH、O、芳基、(C1-C10)烷基、环己基、吡啶或pyrollidone，X2为S、S(C1-C10)烷基、O、O(C1-C10)烷基、NH、N(C1-C10)烷基、烷基、或羟烷基(C1-C10)，n独立为0-2，A为吸电子基团，Y为共轭部分，例如N＝N、CW＝CW、CW＝N、或N＝CW，其中W为H、(C1-C10)烷基或(C1-C10)烷氧基，x＞0，且y≥0，且B选自5-10元芳族基团、多芳族基团或杂环芳族基团；和b)一种合适的溶剂。