[发明专利]电荷发生半导体基板用凸起形成装置、电荷发生半导体基板的除静电方法、电荷发生半导体基板用除静电装置、及电荷发生半导体基板无效
申请号: | 00809896.4 | 申请日: | 2000-06-29 |
公开(公告)号: | CN1359534A | 公开(公告)日: | 2002-07-17 |
发明(设计)人: | 成田正力;坪井保孝;池谷雅彦;前贵晴;金山真司 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L41/22 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的目的是提供可以防止对电荷发生半导体基板(201、202)的热电破坏及物理破损的凸起形成装置(101、501)、利用该凸起形成装置实施的电荷发生半导体基板的除静电方法、电荷发生半导体基板用除静电装置、及电荷发生半导体基板。采用以下所述构成即,至少在向晶片(202)焊接凸起后冷却该晶片时,使该晶片直接接触后热装置(170),除去由于该冷却而蓄积在该晶片中的电荷,或者,通过可在非接触状态下除去静电的温度下降控制来除去静电。因此,与以往相比可以降低所述晶片的带电量,所以,可以防止所述晶片的热电破坏,而且可以防止晶片自身的断裂等损伤的发生。 | ||
搜索关键词: | 电荷 发生 半导体 基板用 凸起 形成 装置 静电 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电荷发生半导体基板用凸起形成装置,包括:在将伴随温度变化而产生电荷的电荷发生半导体基板(201、202)加热到形成凸起所必要的凸起焊接用温度的状态下,在形成在所述电荷发生半导体基板上的电路中的电极上,形成所述凸起的凸起形成头(120);其特征在于:包括:在向所述加热的所述电荷发生半导体基板上焊接凸起之后,在冷却所述电荷发生半导体基板时,利用由于该冷却而产生的温度下降,除去在该电荷发生半导体基板上产生的电荷的加热冷却装置(110、160、170);对所述加热冷却装置进行用于在所述焊接之后,冷却所述电荷发生半导体基板的温度下降控制的控制装置(180)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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