[发明专利]电荷发生半导体基板用凸起形成装置、电荷发生半导体基板的除静电方法、电荷发生半导体基板用除静电装置、及电荷发生半导体基板无效

专利信息
申请号: 00809896.4 申请日: 2000-06-29
公开(公告)号: CN1359534A 公开(公告)日: 2002-07-17
发明(设计)人: 成田正力;坪井保孝;池谷雅彦;前贵晴;金山真司 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L41/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的是提供可以防止对电荷发生半导体基板(201、202)的热电破坏及物理破损的凸起形成装置(101、501)、利用该凸起形成装置实施的电荷发生半导体基板的除静电方法、电荷发生半导体基板用除静电装置、及电荷发生半导体基板。采用以下所述构成即,至少在向晶片(202)焊接凸起后冷却该晶片时,使该晶片直接接触后热装置(170),除去由于该冷却而蓄积在该晶片中的电荷,或者,通过可在非接触状态下除去静电的温度下降控制来除去静电。因此,与以往相比可以降低所述晶片的带电量,所以,可以防止所述晶片的热电破坏,而且可以防止晶片自身的断裂等损伤的发生。
搜索关键词: 电荷 发生 半导体 基板用 凸起 形成 装置 静电 方法
【主权项】:
1.一种电荷发生半导体基板用凸起形成装置,包括:在将伴随温度变化而产生电荷的电荷发生半导体基板(201、202)加热到形成凸起所必要的凸起焊接用温度的状态下,在形成在所述电荷发生半导体基板上的电路中的电极上,形成所述凸起的凸起形成头(120);其特征在于:包括:在向所述加热的所述电荷发生半导体基板上焊接凸起之后,在冷却所述电荷发生半导体基板时,利用由于该冷却而产生的温度下降,除去在该电荷发生半导体基板上产生的电荷的加热冷却装置(110、160、170);对所述加热冷却装置进行用于在所述焊接之后,冷却所述电荷发生半导体基板的温度下降控制的控制装置(180)。
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