[发明专利]在衬底上形成微图形的方法无效
| 申请号： | 00806300.1 | 申请日： | 2000-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN1347518A | 公开（公告）日： | 2002-05-01 |
| 发明（设计）人： | 姜达荣;李弘熙 | 申请（专利权）人： | 米卢塔技术株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;H01L21/027 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 刘兴鹏 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在衬底(200)上形成微图形的方法,将具有溶剂的聚合物材料涂敷在衬底上,从而在衬底上形成一个聚合物薄膜。然后,通过应用预定的压缩工艺,将具有一预定形状的模型(204)压入衬底上的聚合物薄膜(202)中,使得聚合物薄膜发生塑性变形,从而在聚合物薄膜上构造出图形。在例如大约10℃－30℃的室温下进行压入步骤。在本发明中,在模型(204)被压入聚合物薄膜(202)之前,首先增加聚合物薄膜的自由体积,以便减小施加在聚合物材料上的、用于使聚合物薄膜产生塑性变形的压力。随后,通过将图形化的聚合物薄膜用作蚀刻掩模,以便在衬底上进行蚀刻,因此在衬底上形成微图形。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 形成 图形 方法 | ||
【主权项】：
1、一种在衬底上形成微图形的方法，所述方法包括以下步骤：(a)将具有溶剂的聚合物材料涂敷在衬底上，从而在衬底上形成一个聚合物薄膜；(b)通过应用预定的压缩工艺，将具有一预定形状的模型压入聚合物薄膜中，使得聚合物薄膜发生塑性变形，从而在聚合物薄膜上构造出图形；以及(c)通过将图形化的聚合物薄膜用作蚀刻掩模，对衬底进行蚀刻，从而在衬底上形成一个微图形。
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