[发明专利]在衬底上形成微图形的方法

权利要求书

1、一种在衬底上形成微图形的方法，所述方法包括以下步骤：

(a)将具有溶剂的聚合物材料涂敷在衬底上，从而在衬底上形成一个聚合物薄膜；

(b)通过应用预定的压缩工艺，将具有一预定形状的模型压入聚合物薄膜中，使得聚合物薄膜发生塑性变形，从而在聚合物薄膜上构造出图形；以及

(c)通过将图形化的聚合物薄膜用作蚀刻掩模，对衬底进行蚀刻，从而在衬底上形成一个微图形。

2、如权利要求1所述的方法，进一步包括以下步骤：

(b1)在所述步骤(b)之前，增加聚合物薄膜的自由体积，以便减小施加在聚合物材料上的、使聚合物薄膜发生塑性变形所需的压力。

3、如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步骤(c)中，所述蚀刻或者是等离子蚀刻或者是化学蚀刻。

4、如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步骤(b)之前，聚合物薄膜已经被制成具有孔状结构的薄膜。

5、如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述步骤(b1)包括以下步骤：

(b11)将具有聚合物薄膜的衬底安装在一个包括一容器的反应器中，其中容器内具有溶剂；

(b12)在一预定温度范围内对容器进行加热，使得容器内的溶剂蒸发，从而使得蒸发的溶剂进入聚合物薄膜内；以及

(b13)对聚合物薄膜进行真空干燥或者敞开式干燥，从而增加聚合物薄膜内的自由体积。

6、如权利要求1所述的方法，其特征在于，在步骤(b)之前，进一步包括：

(b11)将具有聚合物薄膜的衬底安装在具有容器的反应器中，其中容器内具有溶剂；以及

(b12)在一预定温度范围内加热容器，使得容器内的溶剂蒸发，从而使得所蒸发的溶剂进入聚合物薄膜中，因此将进入的溶剂保留在聚合物薄膜中。

7、如权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述步骤(b1)中，将溶剂直接喷洒到聚合物薄膜上以后，对聚合物薄膜进行或者真空干燥或者敞开式干燥，使得自由体积增加。

8、如权利要求1所述的方法，其特征在于，在低于聚合物材料的璃态转变温度下进行所述步骤(b)。

9、如权利要求8所述的方法，其特征在于，在大约10℃-30℃的温度范围内进行所述步骤(b)。

10、如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶剂为三氯乙烯。

11、一种在衬底上形成微图形的方法，所述方法包括以下步骤：

(a)将具有溶剂的聚合物材料涂敷在衬底上，从而在衬底上形成一个聚合物薄膜；

(b)应用预定的压缩工艺，将具有第一预定形状的第一模型压入衬底上的聚合物薄膜中，以便形成第一图形化聚合物薄膜，然后将具有第二预定形状的第二模型压入第一图形化聚合物薄膜中，从而形成一个图形化聚合物薄膜；以及

(c)通过将图形化的聚合物薄膜用作一个蚀刻掩模，在衬底上进行蚀刻，从而在衬底上形成一个微图形。

12、如权利要求11所述的方法，进一步包括以下步骤：

(b1)在所述步骤(b)之前，增加聚合物薄膜的自由体积，以便减小施加在聚合物材料上的、使聚合物薄膜发生塑性变形所需的压力。

13、如权利要求11所述的方法，其特征在于，在所述步骤(c)中，所述蚀刻或者是等离子蚀刻或者是化学蚀刻。

14、如权利要求11所述的方法，其特征在于，在所述步骤(b)之前，聚合物薄膜已经被制成具有孔状结构的薄膜。

15、如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述步骤(b1)包括以下步骤：

(b11)将具有聚合物薄膜的衬底安装在一个包括容器的反应器上，其中容器内具有溶剂；

(b12)在一预定温度范围内对容器进行加热，使得容器内的溶剂蒸发，从而使得蒸发的溶剂进入聚合物薄膜内；以及

(b13)对聚合物薄膜进行真空干燥或者敞开式干燥，从而增加聚合物薄膜的自由体积。