专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]使用可光固化的有机硅组合物的3D印刷方法-CN201580050175.6有效
  • J·A·肯尼;朱弼忠 - 美国陶氏有机硅公司
  • 2015-09-17 - 2020-11-27 - C08L83/04
  • 本发明公开了一种形成三维(3D)制品的方法,所述方法包括以下步骤:I)用3D印刷机印刷第一可光固化的有机硅组合物以形成层,II)用能量源照射所述层以形成至少部分固化的层,III)用所述3D印刷机将第二可光固化的有机硅组合物印刷在所述至少部分固化的层上以形成后续层,以及IV)用所述能量源照射所述后续层以形成至少部分固化的后续层。任选地,步骤III)和IV)可通过独立选择的用于任何附加层的可光固化的有机硅组合物来重复以形成所述3D制品。所述第一可光固化的有机硅组合物和所述第二可光固化的有机硅组合物彼此相同或不同。各种可光固化的有机硅组合物可用于本发明的方法,包括本文所述的本发明的可光固化的有机硅组合物。
  • 使用光固化有机硅组合印刷方法
  • [发明专利]减少聚合物沉积的设备和方法-CN201911226343.9在审
  • A·恩古耶;X·常;S·劳夫;J·A·肯尼 - 应用材料公司
  • 2019-12-04 - 2020-06-16 - H01J37/32
  • 本发明涉及一种减少聚合物沉积的设备和方法。本公开的实现方式提供了一种用于静电吸盘的工艺配件。在一个实现方式中,提供了一种衬底支撑组件。所述衬底支撑组件包括静电吸盘,所述静电吸盘具有形成在所述静电吸盘的上部分中的第一凹陷。工艺配件包围所述静电吸盘。所述工艺配件包括内环和设置在所述内环的径向外侧的外环。所述外环包括形成在上环的上部分中的第二凹陷。所述内环定位在所述第一凹陷和所述第二凹陷内并由所述第一凹陷和所述第二凹陷支撑。所述内环的上表面和所述外环的上表面是共面的。
  • 减少聚合物沉积设备方法
  • [实用新型]减少聚合物沉积的设备-CN201922202771.X有效
  • A·恩古耶;X·常;S·劳夫;J·A·肯尼 - 应用材料公司
  • 2019-12-04 - 2020-06-09 - H01J37/32
  • 本公开的实现方式提供了一种衬底支撑组件。本公开的实现方式提供了一种用于静电吸盘的工艺配件。在一个实现方式中,提供了一种衬底支撑组件。所述衬底支撑组件包括静电吸盘,所述静电吸盘具有形成在所述静电吸盘的上部分中的第一凹陷。工艺配件包围所述静电吸盘。所述工艺配件包括内环和设置在所述内环的径向外侧的外环。所述外环包括形成在上环的上部分中的第二凹陷。所述内环定位在所述第一凹陷和所述第二凹陷内并由所述第一凹陷和所述第二凹陷支撑。所述内环的上表面和所述外环的上表面是共面的。
  • 减少聚合物沉积设备
  • [发明专利]等离子体处理系统-CN201810048710.X有效
  • 小林悟;K·H·弗劳德;塙广二;S·朴;D·卢博米尔斯基;J·A·肯尼 - 应用材料公司
  • 2014-09-09 - 2020-03-13 - H01J37/32
  • 本公开涉及等离子体处理系统。一种基板支撑组件包括:轴组件;耦接至该轴组件的一部分的底座;以及耦接至该轴组件的第一旋转连接器,其中该第一旋转连接器包括:围绕可旋转的轴构件的第一线圈构件,该可旋转的轴构件与该轴组件电耦合,该第一线圈构件可与该可旋转的轴一起旋转;以及第二线圈构件,该第二线圈构件围绕该第一线圈构件,该第二线圈构件相对于该第一线圈构件是固定的,其中该第一线圈构件在旋转的射频施加器被激励时与第二线圈构件电耦合并且通过轴组件向底座提供射频信号/功率。
  • 等离子体处理系统

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