专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]水分减少辊式输送机系统和方法-CN202280017861.3在审
  • K·C·威廉姆斯;C·A·惠勒;M·卡尔;B·陈;J·郭 - 纽卡斯尔大学
  • 2022-02-10 - 2023-10-20 - B06B1/16
  • 本发明提供了一种水分减少辊式传输机系统(100,200,301)和方法,该水分减少辊式传输机系统包括运载散装材料的连续运载带(105,205,308)和振荡运动组件(110,210,320),该振荡运动组件可操作地连接并且被配置为引发该运载带的传输到该散装材料的振荡运动。该振荡运动组件(110)可操作地连接到该框架以引发该振荡运动。替代地,该振荡运动组件具有彼此偏移或偏心的惰辊(210a,210b,210c)以引发该振荡运动。不同的振荡运动组件包括用于支撑该带(308)的滑架主体(325)和用于接合导轨轨道(302)的轮(340,345)。该轮(340,345)被配置为优选地通过在该滑架移动时周期性地将该滑架主体的一端(360)从该导轨轨道提升来引发该振荡运动。
  • 水分减少输送系统方法
  • [发明专利]自动化的自修复数据库系统及实现其的方法-CN201880013123.5有效
  • B·陈;D·谭;J·柯林斯;S·乔;T·刘;于容进 - 硕动力公司
  • 2018-02-22 - 2023-08-08 - G06F11/16
  • 提供了一种自动化的自修复数据库系统,包括主数据库、在主数据库可用时向主数据库写入数据以及从主数据库读取数据的应用程序服务器、是主数据库的副本的备用数据库和自修复模块(SHM)。SHM可以自动地检测主数据库的不可用性,并且如果备用数据库是可用的,SHM可以自动地启用备用数据库为可读和可写,在主站点上为备用数据库分配主数据库的角色,以开始将数据复制到其他备用数据库,以及使用应用程序服务器和备用数据库之间预建立的的连接,以允许应用程序服务器从备用数据库读取数据并将数据写入备用数据库,从而导致备用数据库在主站点上充当主数据库的角色。
  • 自动化修复数据库系统实现方法
  • [发明专利]具有多材料齿状结构的集成电路接合焊盘-CN202180030150.5在审
  • J·萨托;B·陈;冷耀俭;G·马尔西科;J·科瓦茨 - 微芯片技术股份有限公司
  • 2021-02-16 - 2022-12-23 - H01L21/60
  • 一种集成电路器件可以包括多材料齿状接合焊盘(306、406、770、940、1102、1202),该多材料齿状接合焊盘包括:(a)由第一材料形成的竖直延伸的齿状物(320、420、720、904、1110、1204)的阵列;以及(b)第二材料(填充材料)(322、422、760、930、1112、1206),其至少部分地填充该齿状物(320、420、720、904、1110、1204)的阵列之间的空隙(724、906、1206)。该齿状物(320、420、720、904、1110、1204)可以通过沉积和蚀刻该第一材料来形成,并且该填充材料(322、422、760、930、1112、1206)可以沉积在该齿状物(320、420、720、904、1110、1204)的阵列上,并向下延伸到该齿状物(320、420、720、904、1110、1204)之间的该空隙(724、906、1206)中,并对其进行蚀刻以暴露该齿状物(320、420、720、904、1110、1204)的顶部表面。该齿状物(320、420、720、904、1110、1204)的阵列可以共同限定研磨结构。该多材料齿状接合焊盘(306、406、770、940、1102、1202)可以例如使用超声或热超声键合过程键合到另一接合焊盘(304、404、1142、1222),在此期间研磨齿状物(320、420、720)可以使形成在相应接合焊盘(304、306、404、406、770)表面上的非期望原生氧化物层磨损、断裂或去除,从而形成该接合焊盘(304、306、404、406、770)之间的直接键合和/或共晶键合。该齿状物(320、420、720)可以包括氧化齿状物(324、424、754),该氧化齿状物包括形成在每个齿状物(320、420、720)上的氧化物层(312、412、764),其中在每个齿状物(320、420、720)上形成的该氧化物层(312、412、764)可以限定该研磨结构。该齿状物(720)可以包括在该齿状物(720)的暴露表面处的硅节结。可以执行粗糙化过程以增加该齿状物(320、324、420、424、720、754)的表面粗糙度。该集成电路器件可以包括内插器(203、402、700、900、1100、1200)和/或集成电路裸片(300、400a、400b、1140a、1140b、1220)。该第一材料可以包含铝,并且该第二材料(322、422、760、930、1112、1206)可以包含银。另选地,该第一材料可以包含硅。被配置为与齿状接合焊盘(1102)键合的接合焊盘(1142)可以具有被设计成进一步改进与该齿状接合焊盘(1102)的键合的三维形状,例如,包括被配置为接纳该齿状接合焊盘(1102)的该齿状物(1110)的凹槽或其他几何形状的三维形状;特别地,每个接合焊盘(1142)可以包括多个凸起(1144),其限定被配置为接纳该齿状物(1110)的开口或空隙(1146),其中该凸起(1144)可以是锥形的、圆形的或以其他方式被配置为促进每个接合焊盘(1142)与对应接合焊盘(1102)的自对准。金属凸块(例如,金柱头凸块(1230))可以施加到与该多材料齿状接合焊盘(1202)接合的该接合焊盘(1222),其中该多材料齿状接合焊盘(1202)可以由底填充区域(1210)(例如,包含环氧树脂)完全覆盖。
  • 具有材料齿状结构集成电路接合
  • [发明专利]集成电路封装内插器的背面互连-CN202180006872.7在审
  • J·萨托;冷耀俭;B·陈;C·桑达尔 - 微芯片技术股份有限公司
  • 2021-01-12 - 2022-07-12 - H01L23/498
  • 提供了用于形成被配置用于背面附接的集成电路(IC)封装内插器的方法。多孔硅双层形成在体硅晶片上,例如,使用受控阳极化,该多孔硅双层包括具有不同孔隙率的两个多孔硅层。内插器形成在该多孔硅双层上方,该内插器包括背面触点、正面触点和延伸穿过该内插器的导电结构(例如,通孔和金属互连件),以连接所选背面触点与所选正面触点。然后将该结构在该硅双层的第一多孔硅层与第二多孔硅层之间的界面处分割,并且将包括该第二多孔硅层的内插器倒置并蚀刻,以去除该第二硅层并露出该背面触点,使得所露出的背面触点可用于背面附接该内插器与封装基板或其它结构。
  • 集成电路封装内插背面互连

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