|
钻瓜专利网为您找到相关结果 10个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]用于高频集成电路的衬底-CN98806113.9无效
-
A·利特温;A·瑟德贝格
-
艾利森电话股份有限公司
-
1998-06-17
-
2003-12-24
-
H01L21/20
- 一种硅基硅衬底材料具有使体衬底料与顶层(7)绝缘的半绝缘内部层(5),其中集成电路要设置在顶层中。该半绝缘层是这样形成的,即通过形成具有肖特基势垒或pn异质结势垒的亚微米颗粒,并且使颗粒分布得使所形成的围绕相邻颗粒的耗尽区互相重叠。这种颗粒将通过电荷载流子耗尽硅材料。随后可以使用标准硅处理方法处理衬底材料,并允许制造适于高频应用的集成电路。通过在硅晶片(1)中溅射金属如钴,然后借助退火处理使溅射的钴原子硅化,由此制成硅衬底。然后将在其底表面具有二氧化硅层(13)的顶部硅晶片(11)键合到该溅射的层上。最后将顶部晶片(11)薄化以提供适于在元件制造中所需处理步骤的层厚度。
- 用于高频集成电路衬底
- [发明专利]击穿电压增加的双极绝缘体上硅晶体管-CN96193285.6无效
-
A·利特温;T·阿恩博格
-
艾利森电话股份有限公司
-
1996-04-09
-
2002-04-17
-
H01L29/73
- 一种双极绝缘体上硅晶体管,包括具有主表面的衬底(1),所述主表面上的氧化层(2),所述氧化层(2)上具有第一导电类型的硅层(3),延伸进入所述硅层(3)具有第二导电类型的基区(4),延伸进入所述基区(4)具有第一导电类型的发射区(5),以及距所述基区(4)一段横向距离延伸进入所述硅层(3)具有所述第一导电类型的集电区(6),所述第二导电类型的插入区(8)延伸进入所述硅层(3)到达临近所述集电区(6)的所述发射区(5)相对侧的所述氧化层(2),所述插入区(8)的部分(8’)在至少部分发射区(5)下距基区(4)的下表面一段距离沿氧化层(2)的表面横向地向集电区(6)延伸,并且所述插入区电连接到所述基区(4)。
- 击穿电压增加绝缘体晶体管
|