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- [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202111295785.6在审
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饱本正巳;北野淳一;田中幸二;大塚贵久;南田纯也
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东京毅力科创株式会社
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2021-11-03
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2022-05-27
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H01L21/67
- 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。一边控制基板周围的气氛一边进行批量式的液处理。基板处理装置包括：处理容器，其具有储存处理液的储存部和封闭储存部的上部的开口的盖部；基板保持部，其将多个基板以铅垂姿势在水平方向上空开间隔地保持；第1旋转轴，其自基板保持部贯穿处理容器的第1侧壁向外侧水平延伸；旋转驱动部，其设于处理容器的外部，使基板保持部旋转；处理流体喷嘴，其设于盖部，自比处理液的液位高的位置向基板或其周围的空间供给处理流体。当盖部位于封闭位置时，处理容器的内部形成密闭的内部空间。当盖部位于开放位置时，能够相对于基板保持部送入送出基板。以各基板的仅下侧部分浸渍于处理液的状态进行液处理。
- 处理装置方法
- [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202111289481.9在审
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南田纯也;饱本正巳;北野淳一;田中幸二;大塚贵久
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东京毅力科创株式会社
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2021-11-02
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2022-05-27
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H01L21/677
- 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。对于具备间距变换机构的基板处理装置削减基板的交接次数。基板处理装置包括：基板保持部，其将多个基板互相平行地以第1等间距保持；基板输送装置，其自基板收纳容器将以第2等间距收纳的多个基板一起取出；以及移载机构，其自基板输送装置接收以第2等间距排列的基板，并将间距转换成第1等间距，将间距转换完成的基板向基板保持部传递。移载机构具有：间距转换单元，其具有多个卡盘和将卡盘彼此之间的间隔在第1等间距与第2等间距之间变更的间距变换机构；以及移动机构，其使间距转换单元在基板输送装置与间距转换单元之间的基板交接位置和间距转换单元与基板保持部之间的基板交接位置之间移动。
- 处理装置方法
- [发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN202111211452.0在审
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立花康三;森川胜洋;水永耕市;饱本正巳;根岸康介
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东京毅力科创株式会社
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2021-10-18
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2022-05-13
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H01L21/683
- 本发明提供基板处理方法和基板处理装置。在使基板吸附于利用加热器加热的基板台并进行基板处理时，降低基板的吸附时产生于基板的背面的损伤。基板处理方法为在基板处理装置中对基板进行液处理的方法，该基板处理装置包括：基板台，其吸附所述基板；加热器，其加热所述基板台；以及处理液喷嘴，其向吸附于所述基板台的所述基板供给处理液，其中，该基板处理方法包括：吸附工序，在该吸附工序中，在所述基板与所述基板台之间没有温度差或温度差在预先确定的范围内时，利用所述基板台吸附所述基板；以及所述吸附工序之后的处理液供给工序，在该处理液供给工序中，自所述处理液喷嘴向吸附于利用所述加热器加热的所述基板台的所述基板供给处理液。
- 处理方法装置
- [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202010202728.8在审
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森川胜洋;饱本正巳
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东京毅力科创株式会社
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2020-03-20
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2020-10-09
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H01L21/67
- 效率良好地执行的基板的液处理的基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备：具有基板的输入输出口并内装有第1液处理部和设置于比第1液处理部远离输入输出口的位置的第2液处理部的液处理模块和相对于液处理模块输入输出基板的输送装置。第1液处理部对由第1保持部保持的基板实施第1液处理，第2液处理部在第1液处理之前或之后对由第2保持部保持的基板实施第2液处理。输送装置具有可沿第1水平方向进退的基板保持部，使由基板保持部保持的基板沿第1水平方向进退，可将应在第1液处理部和第2液处理部处理的基板经由输入输出口向第1液处理部输入、将在第1液处理部和第2液处理部处理后的基板经由输入输出口从第1液处理部输出。
- 处理装置方法
- [发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201910915803.2在审
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守田聪;饱本正巳;森川胜洋;水永耕市
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东京毅力科创株式会社
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2019-09-26
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2020-04-03
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H01L21/67
- 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在以将基板保持于旋转台的状态进行基板的处理的基板处理中提高基板温度的控制精度。具备：旋转驱动机构，其使保持着基板的旋转台旋转；电加热器，其与旋转台一起旋转地设于旋转台，并加热基板；受电电极，其与旋转台一起旋转地设于旋转台，与电加热器电连接；供电电极，其与受电电极接触而经由它向电加热器供给驱动电力；电极移动机构，其使供电电极和受电电极相对接触、分离；供电部，其向供电电极供给驱动电力；处理杯，其包围旋转台的周围；至少1个处理液喷嘴，其向基板供给处理液；处理液供给机构，其向处理液喷嘴供给处理液；控制部，其控制电极移动机构、供电部、旋转驱动机构以及处理液供给机构。
- 处理装置方法
- [发明专利]基板处理装置-CN201910915822.5在审
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森川胜洋;饱本正巳;守田聪;水永耕市
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东京毅力科创株式会社
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2019-09-26
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2020-04-03
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H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理装置。相对于基板周围的腐蚀性的环境来保护用于向加热器的供电和加热器的控制的电气部件。基板处理装置具备：旋转驱动机构，其使保持着基板的旋转台绕旋转轴线旋转；处理液喷嘴，其向保持于旋转台的基板的上表面供给处理液；电加热器，其设置于顶板，隔着顶板对基板进行加热；电气部件，其设置于顶板的下表面侧，接收或发送用于向电加热器的供电和电加热器的控制的信号；以及周缘罩体，其与顶板的周缘部连接，与顶板一起旋转。在顶板的下方形成有收纳电气部件的收纳空间，收纳空间被包括顶板和周缘罩体的包围构造物包围，顶板的周缘部与周缘罩体之间被密封。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201910915946.3在审
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水永耕市;饱本正巳;守田聪;森川胜洋
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东京毅力科创株式会社
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2019-09-26
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2020-04-03
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H01L21/687
- 本发明提供一种基板处理装置。能够在以将基板吸附于旋转台的状态进行基板的处理的基板处理装置中，容易地更换旋转台中的、与基板接触的部分。基板处理装置具备：旋转台，其具备：底座，其具有设置有至少1个抽吸口的表面；和吸附板，其具有：表面，其与基板的非处理面接触而吸附基板；背面，其与底座的表面接触；以及至少1个贯通孔，其将表面和背面连接；旋转驱动机构，其使旋转台绕旋转轴线旋转；以及抽吸部，其使抽吸力作用于底座的抽吸口，通过使抽吸力作用于所述底座与所述吸附板之间，从而使底座与吸附板密合，且通过使抽吸力经由至少1个贯通孔作用于吸附板与基板之间，从而使吸附板与基板密合。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201910915948.2在审
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守田聪;饱本正巳;森川胜洋;水永耕市;川原幸三
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东京毅力科创株式会社
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2019-09-26
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2020-04-03
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H01L21/67
- 本发明提供基板处理装置。不给旋转台的旋转带来不良影响就能进行相对于与旋转台一起旋转的电气部件的供电、信号的收发等。具备：旋转台，保持基板并使它旋转；电气部件，设于旋转台并与它一起旋转；第1电极部，设于旋转台并与它一起旋转，第1电极部包括多个第1电极，多个第1电极经由多个第1导电线与电气部件电连接，并以分布于旋转轴线的周围的方式配置；电气设备，进行相对于电气部件的供电、信号的收发等；第2电极部，包括多个第2电极，多个第2电极经由多个第2导电线与电气设备电连接，并设置于分别能够与多个第1电极接触的位置；和电极移动机构，使第1电极部和第2电极部沿着旋转轴线的方向相对移动，而使上述电极部接触、分离。
- 处理装置
- [发明专利]加热装置以及加热方法-CN201110182985.0无效
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饱本正巳;林伸一;饭田成昭;稻富弘朗
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东京毅力科创株式会社
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2007-01-05
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2011-10-05
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G03F7/38
- 具有冷却板和热板的加热装置中，利用气体使基板从冷却板和热板上浮起，通过使基板在水平方向上移动使基板在冷却板与热板之间移动，实现加热装置的薄型化。加热装置(2)中，在冷却板(3)和热板(6)上沿晶片W的移动通路形成喷出孔(3a、6a)，其朝向晶片W的移动通路的冷却板(3)侧斜向上方喷出使基板浮起的气体，利用推压部件(51)推压晶片W移动时的后方侧，抵抗从喷出孔(3a、6a)喷出的气体产生的试图使晶片W移动的推压力，使晶片W向与气体喷出方向相反侧的热板(6)侧移动，或在利用喷出孔(3a、6a)喷出的气体使晶片W移动时的前方侧推压推压部件(51)的状态下，使该推压部件(51)向与气体的喷出方向相同的方向的冷却板(3)侧移动。
- 加热装置以及方法
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