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[发明专利]水处理方法以及水处理装置-CN202280020285.8在审
发明人： 佐佐木庆介;阿部真弓;须藤史生;山田博史;近藤司 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2022-02-03 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C02F1/469 文献下载
摘要：去除被处理水中的溶解氧的水处理装置，具备阳极(11)、阴极(12)、以及配置于阳极(11)与阴极(12)之间且填充有离子交换体的溶解氧去除室(23)。填充于溶解氧去除室(23)的离子交换体的至少一部分为担载有金属催化剂的离子交换体，例如为担载钯的阴离子交换树脂(Pd AER)，担载有金属催化剂的离子交换体以单床方式填充于溶解氧去除室(23)的至少一部分。边在阳极与阴极之间施加直流电流边通过设置有阴极(12)的阴极室(25)，由此将含有氢的被处理水供给至溶解氧去除室(23)。
水处理方法以及装置

[发明专利]基板处理系统和基板处理方法-CN202310071299.9在审
发明人：平瀬圭太;田中幸二;齐藤幸良;佐佐木庆介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-02-07 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理系统和基板处理方法。提供一种能够使基板处理系统的生产率提高的技术。本公开的一技术方案的基板处理系统具有：送入送出部，相对于该送入送出部将收纳多张基板的盒送入送出；批量处理部，其成批地处理包括多张所述基板的批次；单张处理部，其逐张地处理所述批次的所述基板；以及接口部，其在所述批量处理部与所述单张处理部之间交接所述基板，所述批量处理部具有：处理槽，其浸渍并处理所述批次；以及第1输送装置，其向所述处理槽输送所述批次，所述接口部具有：浸渍槽，其配置于所述第1输送装置的移动范围外，该浸渍槽浸渍所述批次；以及第2输送装置，其在所述第1输送装置与所述浸渍槽之间交接所述批次。
处理系统方法

[发明专利]水处理系统和超纯水制造系统以及水处理方法-CN202080071959.8有效
发明人： 佐佐木庆介;中村勇规;高桥一重 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2020-07-29 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C02F1/469 文献下载
摘要：本发明提供一种水处理系统，能够以简单的结构提高EDI的除硼效率。水处理系统(2)具有：EDI(25)，具备对含硼的被处理水进行脱盐的脱盐室(43)和供浓缩水流通的浓缩室(42、44)；和冷却单元(24)，对向脱盐室(43)供给的被处理水或向浓缩室(42、44)供给的浓缩水进行冷却。或者，水处理系统(2)具有：EDI(25)，具备对含硼的被处理水进行脱盐的脱盐室(43)、供浓缩水流通的浓缩室(42、44)和供电极水流通的电极室(41、45)；冷却单元(24)，对被处理水或向浓缩室(42、44)供给的浓缩水的温度进行调整；和控制单元(27)，基于被处理水、EDI(25)的处理水、浓缩水或电极水的温度来控制冷却单元(24)，使得将向脱盐室(43)供给的被处理水或向浓缩室(42、44)供给的浓缩水的温度调整为10～23℃的范围。
水处理系统超纯水制造以及方法

[发明专利]电去离子水制造装置以及去离子水的制造方法-CN202180081520.8在审
发明人：中村友绮;高桥悠介;佐佐木庆介 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B01D61/48 文献下载
摘要：提高硼等弱酸成分的去除性能的电去离子水制造装置(EDI装置)在阳极和阴极之间具有由一对离子交换膜划分的脱盐室。将0.1mm以上且0.4mm以下的粒径设为小粒径，并将超过0.4mm的粒径设为大粒径，在脱盐室内，沿被处理水的流向而配置有由大粒径的离子交换树脂构成的大粒径层以及混合有大粒径的离子交换树脂与小粒径的离子交换树脂的混合粒径层。
离子水制造装置以及方法

[发明专利]三相线部的防水结构及三相线连接装置-CN202111071806.6有效
发明人：伊藤勇人;佐佐木庆介 -专利权人：矢崎总业株式会社
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01R13/52 文献下载
摘要：一种三相线部的防水结构，包括：三相线部，其具有并排布置的三个母线结构体；第一端子块，其设置在所述三相线部的一端侧；第二端子块，其设置在所述三相线部的另一端侧；以及管状外部构件，其覆盖所述三相线部的中部。在所述管状外部构件覆盖所述三相线部的状态下，所述管状外部构件的一端防水地固定到所述第一端子块的第一壳，并且所述管状外部构件的另一端防水地固定到所述第二端子块的第二壳。
三相防水结构连接装置

[发明专利]纯水制造系统以及纯水制造方法-CN202180064366.3在审
发明人：中村勇规;佐佐木庆介;须藤史生 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-09-02 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B01D61/12 文献下载
摘要：提供一种纯水制造系统以及纯水制造方法，能在实现处理水的水质的高纯度化的同时抑制制造成本的上升。纯水制造系统(1)包含反渗透膜装置(4)、配置于反渗透膜装置(4)的后级的电去离子水制造装置(5)以及对反渗透膜装置(4)的处理条件进行控制的控制装置(8)。控制装置(8)对反渗透膜装置(4)的处理条件进行控制，以使电去离子水制造装置(5)的特定的物质的去除率为阈值以下、且电去离子水制造装置(5)的处理水的特定的物质的浓度为规定值以下而电阻率为规定值以上。
纯水制造系统以及方法

[发明专利]基片输送装置和基片输送方法-CN202211579231.3在审
发明人：下青木刚;佐佐木庆介;松下一也;中野雄介;中野响 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供能够抑制基片输送装置中的颗粒向外部放出的基片输送装置和基片输送方法。基片输送装置包括：第1壳体，其形成有第1贯通口，在内部设置有第1驱动机构；基片保持部；第2壳体，其形成有第2贯通口，在内部设置有第2驱动机构；排气路径，其从第1壳体内形成至第2壳体内，并以第2壳体侧为下游侧；设置在第1壳体中并且位于排气路径上的第1排气机构，其能够将从第1贯通口吸引的气体以第1排气流量向排气路径的下游侧进行排气；和在排气路径中在第1排气机构的下游侧设置在第2壳体中的第2排气机构，其能够将从第2贯通口吸引的气体和从排气路径的上游侧供给的气体以比第1排气流量大的第2排气流量向排气路径的下游侧进行排气。
输送装置方法

[发明专利]水处理系统、纯水制造方法以及水处理方法-CN202180053366.3在审
发明人：高桥悠介;佐佐木庆介;高桥一重 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： C02F1/76 文献下载
摘要：本发明提供一种更高效地去除难分解性有机物的水处理系统。纯水制造装置(1A)(水处理系统)具有：卤素含氧酸添加单元(21)，其向含有有机物的被处理水添加卤素含氧酸；以及离子交换体填充装置(14)，其位于卤素含氧酸添加单元(21)的下游，至少填充有阴离子交换体。将添加卤素含氧酸后的被处理水向离子交换体填充装置(14)通水。
水处理系统纯水制造方法以及

[发明专利]过氧化氢的去除方法和去除装置以及纯水制造装置-CN202180039335.2在审
发明人： 佐佐木庆介;须藤史生;高橋一重;近藤司;柴崎贤治;阿部真弓 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-05-24 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： C02F1/461 文献下载
摘要：本发明的过氧化氢去除装置去除被处理水中含有的过氧化氢，具有阳极(11)和阴极(12)、以及设置于阳极(11)与阴极(12)之间且至少一部分填充有具有过氧化氢分解能力的金属催化剂的过氧化氢去除室(23)，在阳极(11)和阴极(12)之间施加直流电压。
过氧化氢去除方法装置以及纯水制造

[发明专利]水处理装置、超纯水制造装置以及水处理方法-CN202180040719.6在审
发明人：高桥悠介;佐佐木庆介;高桥一重;须藤史生 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-05-24 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C02F1/42 文献下载
摘要：本发明提供能提高过氧化氢的去除效率的水处理装置。水处理装置(纯水制造装置)(2A)具有：阴离子去除单元(16)，其从包含过氧化氢和阴离子的被处理水中去除阴离子；以及铂族催化剂载体(催化剂塔20)，其位于阴离子去除单元(16)的下游侧。
水处理装置超纯水制造以及方法

[发明专利]水处理装置以及水处理方法-CN202180033803.5在审
发明人：高桥悠介;桃谷尚宪;佐佐木庆介;高桥一重;须藤史生 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-05-24 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： C02F1/76 文献下载
摘要：本发明提供一种更高效地去除难分解性有机物的水处理装置。水处理装置(1A)具有：次卤酸添加单元(21)，其向包含有机物的被处理水添加次卤酸；以及紫外线照射装置(15)，其位于次卤酸添加单元(21)的下游，向添加有次卤酸的被处理水照射紫外线。
水处理装置以及方法

[发明专利]硼去除装置及方法、纯水制造装置以及纯水制造方法-CN202180034472.7在审
发明人：高桥一重;须藤史生;中村勇规;柴崎贤治;佐佐木庆介 -专利权人：奥加诺株式会社
申请日： 2021-03-30 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C02F1/469 文献下载
摘要：本发明提供一种降低被处理水中的硼浓度的硼去除装置及硼去除方法、降低了硼浓度的纯水的制造装置以及制造方法。本发明使用硼去除装置和使用该装置的硼去除方法，所述硼去除装置具有：第一电再生式去离子装置，其被供给被处理水；紫外线氧化装置，其被供给由所述第一电再生式去离子装置处理后的水；氧化物去除装置，其被供给由所述紫外线氧化装置处理后的水；以及第二电再生式去离子装置，其被供给由所述氧化物去除装置处理后的水。所述氧化物去除装置优选具备铂族金属催化剂，由所述氧化物去除装置处理后的水的过氧化氢浓度小于1ppb。
去除装置方法纯水制造以及

[发明专利]连接器以及带连接器的电线-CN202210664650.0在审
发明人：伊藤勇人;佐佐木庆介 -专利权人：矢崎总业株式会社
申请日： 2022-06-13 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： H01R13/52 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种提高防水性的连接器以及带连接器的电线。具备：与电线的末端连接的端子配件；壳体，具有容纳它们的容纳室和电线引出口；能弹性变形的第一防水部件，在容纳室中填埋壳体的内周面与电线的覆皮的外周面之间的空间，在与电线引出口之间形成第一密闭空间部；能弹性变形的第二防水部件，具有一端部、另一端部和将一端部与另一端部相连的筒状部，一端部的内周面与壳体的电线引出口侧的端部的外周面紧贴，另一端部的内周面与从电线引出口引出的电线的外周侧紧贴，在筒状部设有经电线引出口与第一密闭空间部连通的第二密闭空间部；和通气组件，组装于壳体，使气体能在第一密闭空间部与壳体的外部之间流动而使液体不能在其间流动。
连接器以及电线

[发明专利]连接器以及带连接器的电线-CN202210664990.3在审
发明人：伊藤勇人;佐佐木庆介 -专利权人：矢崎总业株式会社
申请日： 2022-06-13 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： H01R13/52 文献下载
摘要：本发明提供一种连接器和带连接器的电线，能提高防水性。连接器具备：端子配件，其与电线连接；壳体，其具有容纳电线和端子配件的容纳室、电线引出口、使容纳室与外部连通的连通孔和与配对侧端子配件之间形成的间隙被第一密封部件填埋的配对侧嵌合室；盖部件，其堵塞连通孔；第二密封部件，其填埋盖部件与连通孔之间的间隙且与第一密封部件配合而在壳体中形成第一密闭空间部；能够弹性变形的防水部件，其具有紧贴于壳体的端部的一端部、紧贴于从电线引出口引出的电线的另一端部和将它们相连的筒状部，在筒状部设置有经由电线引出口与第一密闭空间部连通的第二密闭空间部；以及通气组件，组装于盖部件，用于使气体能流动但使液体无法流动。
连接器以及电线

[发明专利]直线运动机构和颗粒的飞散抑制方法-CN202080082981.2在审
发明人：饱本正巳;饭田成昭;中岛常长;佐佐木庆介;安武孝洋;松下一也;井手康盛;大关雅人 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-12-07 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种直线运动机构，其包括：内部移动体，设置在内部可被排气的壳体内，进行直线移动并且使与从上述开口部向该壳体的外部伸出的连接部连接的壳体外部的外部移动体移动；密封带，其在上述直线方向上延伸，以封闭上述开口部的方式设置在壳体内，并且宽度方向上的两端部的一面侧的部位与该开口部的开口边缘部隔开间隔地相对；和变形抑制部，其为了抑制与所述内部移动体连接成随该内部移动体的移动而移动的上述密封带的变形，与该密封带的宽度方向上的两端部的另一面侧的部位相对地设置。
直线运动机构颗粒飞散抑制方法

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