专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]二维通孔柱结构及其制造方法-CN202211079128.2在审
  • 顾钧尧;陈文豪;余明道 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2018-11-14 - 2022-11-22 - H01L23/522
  • 本发明的实施例提供了一种通孔柱结构,包括:第一导体在所述半导体堆叠件的第一互连层内横越第一方向和第二方向;第二导体在所述半导体堆叠件的第二互连层内横越第一方向和第二方向;以及多个通孔结构,包括包括第一通孔至第四通孔,连接第一导体和第二导体,其中,第一导体包括第一多个互连片段,第二导体包括第二多个互连片段,其中,第一多个互连片段包括第一段至第四段,第四段包括向在所述第一方向延伸的多个第一部分和在第二方向延伸的多个第二部分。第二多个互连片段被配置为沿第一方向或第二方向以直线距离连接相邻通孔。本发明的实施例还提供了一种制造通孔柱的方法。
  • 二维通孔柱结构及其制造方法
  • [发明专利]产生布局设计的方法-CN202110126234.0在审
  • 顾钧尧;陈文豪;余明道 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2021-01-29 - 2021-08-20 - G06F30/392
  • 一种产生集成电路的布局设计的方法。方法包括形成第一区域,此第一区域具有在第一方向上延伸的至少两个第一类型单元行。第一类型单元行的每一者具有沿着垂直于第一方向的第二方向量测的第一行高度。方法亦包括形成第二区域,此第二区域具有在第一方向上延伸的至少两个第二类型单元行。第二类型单元行的每一者具有沿着第二方向量测的第二行高度。第一区域邻接第二区域,并且第一类型单元行的第一行高度与第二类型单元行的第二行高度不同。
  • 产生布局设计方法
  • [发明专利]集成电路的形成方法-CN202110124222.4在审
  • 顾钧尧;陈文豪;陈冠廷;余明道;张钧皓 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2021-01-29 - 2021-08-17 - H01L21/8234
  • 一种集成电路的形成方法包括产生第一标准单元布局设计及邻近的第二标准单元布局设计,及基于至少第一或第二标准单元布局设计来制造集成电路。第一标准单元布局设计具有第一高度。第二标准单元布局设计具有不同于第一高度的第二高度。产生第一标准单元布局设计包括产生第一接脚布局图案的集合,第一接脚布局图案的集合在第一方向上延伸,处于第一布局层上,且具有第一宽度。产生第二标准单元布局设计包括产生第二接脚布局图案的集合,第二接脚布局图案的集合在第一方向上延伸,处于第一布局层上,且具有不同于第一宽度的第二宽度。
  • 集成电路形成方法
  • [发明专利]混合行高系统-CN202011278849.7在审
  • 欧纮誌;陈文豪;顾钧尧 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2020-11-16 - 2021-07-20 - H01L27/092
  • 一种混合行高系统,揭示了带有具有至少两个不同行高的多个行的混合行高系统中的离散的多行高单元。离散的多行高单元包括:部署在具有第一行高的第一行上的第一子单元;部署在具有第二行高的第二行上的第二子单元,其中第一行与第二行通过具有第三行高的第三行分隔开,其中第三行高与第一行高不同,其中第一子单元与第二子单元通过至少一引线电连接。
  • 混合系统

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