|
钻瓜专利网为您找到相关结果 8个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]去疵层形成装置和加工装置-CN202310331596.2在审
-
田篠文照;青木昌史;邱晓明
-
株式会社迪思科
-
2023-03-30
-
2023-10-17
-
B24B1/04
- 本发明提供去疵层形成装置和加工装置,短时间且高效地在磨削后的晶片的背面上形成去疵层。去疵层形成装置包含:旋转工作台,其具有对晶片进行吸引保持的旋转保持面和配置于该旋转保持面的径向外侧的环状的载置面;圆环部,其载置于载置面,围绕晶片而形成水槽;移动机构,其将该圆环部载置于载置面或使该圆环部远离载置面;磨粒喷嘴,其向水槽投入游离磨粒;水喷嘴,其向水槽提供水而使晶片淹没;超声波变幅器,其向游离磨粒传播超声波振动;以及水平移动机构,其使该超声波变幅器和旋转工作台在与旋转保持面平行的方向上相对地移动。
- 去疵层形成装置加工
- [发明专利]晶片加工方法-CN200410087419.1有效
-
永井祐介;青木昌史;星野仁志
-
株式会社迪斯科
-
2004-09-10
-
2005-03-16
-
H01L21/78
- 一种晶片加工方法,用于沿着分割线分割该晶片,该晶片具有形成在由分割线截取的多个区域中的光学器件,分割线在前表面上以晶格图案形成,该方法包括:激光光束施加步骤,将激光光束沿着分割线从晶片的后表面的一侧施加到晶片上,从而在后表面上形成具有预定深度的槽;防护板粘贴步骤,将防护板粘贴到在后表面中具有槽的晶片的前表面上;分割步骤,对具有粘贴到前表面的防护板的晶片沿着槽进行分割;以及研磨步骤,在防护板粘贴到晶片上的状态下对沿着槽被分割的晶片的后表面进行研磨,从而去掉槽。
- 晶片加工方法
|