专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体加工用带-CN201680025557.8有效
  • 青山真沙美;佐野透 - 古河电气工业株式会社
  • 2016-10-05 - 2021-10-26 - H01L21/683
  • 本发明提供一种能够防止在向半导体晶圆贴合时金属层产生褶皱的半导体加工用带。本发明的半导体加工用带(10)的特征在于,具有:具有基材膜(11)和粘合剂层(12)的切割带(13)、设置于所述粘合剂层(12)上且用于保护半导体芯片的背面的金属层(14)、以及设置于所述金属层(14)上且用于将所述金属层(14)粘接于半导体芯片的背面的粘接剂层(15),所述切割带(13)的环刚度为20mN以上且低于200mN。
  • 半导体工用
  • [发明专利]半导体加工用带-CN201680032247.9有效
  • 青山真沙美;佐野透 - 古河电气工业株式会社
  • 2016-10-05 - 2021-07-09 - C09J7/30
  • 本发明提供在切割时能够将半导体晶圆良好地单片化、在封装时能够防止封装裂纹的产生的半导体加工用带。本发明的半导体加工用带(10)的特征在于,其具有:含有基材膜(11)和粘合剂层(12)的切割带(13)、设置在上述粘合剂层(12)上且用于保护半导体芯片的背面的金属层(14)、和设置在上述金属层(14)上且用于将上述金属层(14)粘接到半导体芯片的背面上的粘接剂层(15),上述金属层(14)的基于十点平均粗糙度的表面粗糙度RzJIS为0.5μm以上且低于10.0μm。
  • 半导体工用
  • [发明专利]电子器件封装用带-CN201680083866.0有效
  • 青山真沙美;杉山二朗;石黑邦彦;佐野透 - 古河电气工业株式会社
  • 2016-11-28 - 2021-02-12 - C09J11/06
  • 本发明提供一种电子器件封装用带,其能抑制在从粘合带拾取带粘接剂层的金属层时因拾取装置的顶针的顶起使金属层变形而产生顶针的痕迹,能抑制在粘接剂层与被粘物之间产生空隙。本发明的电子器件封装用带(1)具有:粘合带(5),其具有基材膜(51)和粘合剂层(52);粘接剂层(4),其被设置为层叠于粘合剂层(52)的与基材膜(51)相反的一侧;以及金属层(3),其被设置为层叠于粘接剂层(4)的与粘合剂层(52)相反的一侧,金属层(3)的厚度为5μm以上且小于200μm,从粘合带(5)拾取粘接剂层(4)和金属层(3)的状态下的粘合带(5)与粘接剂层(4)的粘合力为0.03~0.5N/25mm。
  • 电子器件封装
  • [发明专利]电子器件封装用带-CN201680056349.4有效
  • 佐野透;杉山二朗;青山真沙美;石黑邦彦 - 古河电气工业株式会社
  • 2016-11-14 - 2021-01-15 - H01L23/29
  • 本发明提供一种电子器件封装用带,其能够抑制在对粘接剂层进行预固化时半导体、粘接剂层及半导体芯片的层叠体发生翘曲,并且能够抑制在倒装片连接时粘接剂层产生空隙。本发明的电子器件封装用带,其特征在于,具有:具有基材膜和粘合剂层的粘合带、层叠地设置于粘合剂层的与基材膜相反的一侧的金属层、以及设置于金属层的与粘合剂层相反的一侧且用于将金属层粘接于电子器件的背面的粘接剂层,粘接剂层在100℃加热3小时后的25℃下的储能模量为10GPa以下,在100℃加热3小时时的固化率为10~100%。
  • 电子器件封装
  • [发明专利]电子器件封装用带-CN201680083857.1有效
  • 佐野透;丸山弘光;杉山二朗;青山真沙美 - 古河电气工业株式会社
  • 2016-11-22 - 2020-11-10 - C09J7/30
  • 本发明提供一种电子器件封装用带,其在预切割加工时能够将金属层保持于基材带,并且在使用时能够良好地剥离基材带。本发明的电子器件封装用带(1)具有:基材带(2),其具有粘合面;金属层(3),其设置在基材带(2)的粘合面上,具有给定的平面形状;粘接剂层(4),其与金属层(3)层叠地设置于金属层(3)的与基材带(2)侧相反的一侧,并具有给定的平面形状;以及粘合带(5),其覆盖粘接剂层(4),并具有给定的平面形状的标签部(5a),标签部(5a)被设置为在粘接剂层(4)的周围与基材带(2)接触。基材带(2)与金属层(3)的粘合力(P1)为0.01~0.5N/25mm,基材带(2)与粘合带(5)的粘合力(P2)为0.01~0.5N/25mm,P1/P2为0.1~10。
  • 电子器件封装
  • [发明专利]半导体加工用带-CN201680016498.8有效
  • 佐野透;杉山二朗;青山真沙美 - 古河电气工业株式会社
  • 2016-03-24 - 2020-09-11 - H01L21/67
  • 本发明提供一种热收缩率低、因不论带的方向都能均匀收缩而不起褶皱、而且芯片位置不偏移、切口宽度均匀扩张的半导体加工用带。该半导体加工用带的特征在于,在100℃加热了10秒时的带的长度方向的热收缩率以及宽度方向的热收缩率这两者均为0%以上且20%以下,且在长度方向的热收缩率以及宽度方向的热收缩率中的任意一个为0.1%以上时,长度方向的热收缩率/宽度方向的热收缩率﹦0.01以上且100以下,(将收缩率设为:收缩率﹦(加热前的尺寸-加热后的尺寸)/加热前的尺寸×100(%))。
  • 半导体工用
  • [发明专利]马来酰亚胺膜-CN201580045116.X有效
  • 青山真沙美;切替德之 - 古河电气工业株式会社
  • 2015-08-10 - 2020-08-07 - C09J7/10
  • 本发明提供使用了对热历史耐受性高、可靠性高的马来酰亚胺树脂的马来酰亚胺膜、和将其层叠于切割胶带而形成的带切割胶带的粘接膜。具体而言,是一种马来酰亚胺粘接膜,其特征在于,含有马来酰亚胺树脂、和1小时的半衰期温度为140℃以上的自由基引发剂。优选一种马来酰亚胺粘接膜,其特征在于,马来酰亚胺树脂具有特定的结构。以及一种带切割胶带的粘接膜,其将这样的马来酰亚胺粘接膜层叠于切割胶带而成。
  • 马来亚胺
  • [发明专利]导电性粘接膜-CN201580045111.7有效
  • 三原尚明;切替德之;杉山二郎;青山真沙美 - 古河电气工业株式会社
  • 2015-08-10 - 2020-06-09 - C09J7/30
  • 本发明提供一种粘接膜和使用了该粘接膜的半导体加工方法,所述粘接膜耐热性优异且应力缓和性也优异,并且无需使用银等昂贵的贵金属即可获得还可适用于功率半导体背面电极的这样的高导电性,不会从元件中溢出,可获得足够的粘接强度。具体而言,提供一种导电性粘接膜,所述导电性粘接膜包含至少含Cu的两种以上的金属颗粒和具有聚二甲基硅氧烷骨架的高分子。另外,还提供一种在该导电性接合膜上层叠切割胶带而形成的切割芯片粘接膜、以及使用了该粘接膜、切割芯片粘接膜的半导体晶片的加工方法。
  • 导电性粘接膜
  • [发明专利]粘接膜-CN201580033222.6有效
  • 青山真沙美;切替德之 - 古河电气工业株式会社
  • 2015-08-10 - 2019-09-24 - C09J7/30
  • 本发明目的在于,提供能够不对被粘体给予大的应力而缓和由被粘体间的线性膨胀系数之差引起的翘曲且可靠性更高的粘接膜。具体而言,一种粘接膜,其特征在于,包含:(A)固化性树脂,具有碳原子数为5~8的脂环烃被至少4个碳原子数为4~12的烷基取代的结构,进一步具有至少一个固化性部分;以及(B)聚合引发剂,1小时的半衰期温度为140℃以上。另外,一种带有切割胶带的粘接膜,将这样的粘接膜层压于切割胶带而成。
  • 粘接膜

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