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- [发明专利]锗硅沟道的形成方法-CN202310615127.3在审
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岳双强;汪韬;李妍;辻直树
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上海华力集成电路制造有限公司
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2023-05-29
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2023-08-11
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H01L21/8234
- 本发明提供一种锗硅沟道的形成方法,提供绝缘体上硅衬底,绝缘体上硅衬底由自下而上的硅层、绝缘体层和薄半导体层组成,在绝缘体上硅衬底上形成垫氧化层以及位于垫氧化层上的硬掩膜层,在硬掩膜层上形成光刻胶层,之后光刻打开光刻胶层使得PMOS区域的硬掩膜层裸露;去除裸露的硬掩膜层及其下方的垫氧化层,使得PMOS区域的绝缘体上硅衬底裸露;在裸露的绝缘体上硅衬底上形成锗硅外延层;利用快速退火使得锗离子扩散至薄半导体层的底部形成锗硅沟道,锗硅外延层的表面形成第一氧化层,锗硅沟道的厚度均匀性位于设置范围内;刻蚀去除硬掩膜层以及所需厚度的第一氧化层。本发明能够解决目前锗硅沟道厚度均匀性极差的问题。
- 沟道形成方法
- [发明专利]降低外延电阻的方法-CN202310150236.2在审
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岳双强;汪韬;李妍;辻直树
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上海华力集成电路制造有限公司
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2023-02-21
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2023-06-02
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H01L21/8238
- 本发明提供一种降低外延电阻的方法,提供半导体结构,在半导体结构至少包括:NMOS区域的源漏区和栅极叠层;PMOS区域的源漏区和栅极叠层;源漏区以及栅极上覆盖有第一保护层;利用光刻和刻蚀打开PMOS区域上的第一保护层,形成位于栅极叠层侧壁的第一侧墙;在PMOS区域的源漏区上形成第一包含离子掺杂的第一外延层和位于第一外延层上的第一帽层;对PMOS区域的源漏区进行快速热退火处理,使得第一外延层中的掺杂离子扩散至侧墙底部的区域第一外延层;去除剩余的第一保护层,之后形成覆盖NMOS区域和PMOS区域的第二保护层。本发明降低了PMOS源漏区到栅极边缘的沟道电阻,改善了器件的Idsat(饱和电流)、Ioff(关态电流)性能。
- 降低外延电阻方法
- [发明专利]供电系统、供电装置及供电方法-CN202180016781.1在审
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藤井正明;辻直树
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美蓓亚三美株式会社
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2021-01-06
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2022-09-30
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H02J50/90
- 提供一种能以简单的结构即可进行无线供电的供电系统、供电装置及供电方法。供电系统包括:第1红外线输出部,设置在第1物体上,具有向与所述第1物体相对移动的第2物体出现的第1方向输出第1红外线的第1方向性,并输出所述第1红外线;反射体,设置在所述第2物体上,并以回射的方式对所述第1红外线进行反射;第2红外线输出部,设置在所述第2物体上,具有向相对移动的所述第1物体存在的第2方向输出第2红外线的第2方向性,并通过藉由无线供电而接收到的电力输出所述第2红外线;及供电部,设置在所述第1物体上,接收到所述反射体对所述第1红外线进行反射的反射红外线、或所述第2红外线后,沿所述反射红外线或所述第2红外线的到达方向输出光束。
- 供电系统供电装置方法
- [实用新型]卫生间楼板预制件-CN202123233602.6有效
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陆荣秀;徐松林;林意;辻直树;滨口真一;姚定宇;伊凡
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深圳万前建筑技术有限公司
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2021-12-20
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2022-05-24
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E04B5/02
- 本实用新型提供了一种卫生间楼板预制件,包括预制件主体,预制件主体包括呈平面状的楼板部、位于楼板部的上表面的反坎部和位于楼板部的下表面的横梁部,每一反坎部的下方设置有一个横梁部,并通过横梁部提供支撑;楼板部、反坎部及横梁部通过钢筋混凝土材料一体浇筑成型,以消除每一反坎部与楼板部及横梁部之间的渗水空隙;楼板部的多个侧面分别构成浇筑面,每一浇筑面分别具有多个突出设置的第一连接筋,且预制件主体通过楼板部的多个浇筑面与楼体的卫生间部分的承重结构浇筑在一起。本实用新型的预制件主体的楼板部、反坎部及横梁部一体浇筑成型,可有效简化建造工序,且产生的建筑垃圾少,防水性能好,还保证了预制件主体的整体结构强度。
- 卫生间楼板预制件
- [发明专利]隐形眼镜及其制造方法-CN201680085426.9有效
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泽田洋平;中岛隆治;辻直树
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HOYA株式会社
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2016-11-25
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2021-03-23
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G02C7/04
- 一种隐形眼镜及其制造方法,该隐形眼镜具有凸形的前表面和凹形的后表面,在前表面划定有光学部、边缘、配置于光学部的外周的第一平滑部、配置于第一平滑部的外周的周边部、以及连接周边部和边缘的第二平滑部,前表面具有镜像对称性,周边部包括具有在水平子午线上成为最大壁厚的形状的第一周边部、具有使隐形眼镜在垂直子午线上成为最小壁厚的形状的第二周边部、是与第一周边部相邻的部分且具有壁厚恒定的面形状的第一周边部辅助部以及是连接第一周边部辅助部和第二周边部而作为连续面的部分且具有使壁厚变化的面形状的倾斜部。
- 隐形眼镜及其制造方法
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