专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件及用于制造其的方法-CN201810192341.1有效
  • 梁正吉;宋昇珉;金成玟;朴雨锡;裴金钟;裴东一 - 三星电子株式会社
  • 2018-03-08 - 2023-08-15 - H01L21/8238
  • 提供了一种制造半导体器件的方法。形成包括一个或多个牺牲层和堆叠在衬底上的一个或多个半导体层的堆叠结构。在所述堆叠结构上形成包括虚设栅极和虚设间隔件的虚设栅极结构。使用虚设栅极结构蚀刻堆叠结构以形成第一凹部。蚀刻一个或多个牺牲层。去除虚设间隔件。间隔件膜形成在所述虚设栅极、所述一个或多个半导体层和所述一个或多个牺牲层上。使用虚设栅极和间隔件膜来蚀刻半导体层和间隔件膜以形成第二凹部。形成形成在虚设栅极上的外部间隔件和形成在一个或多个牺牲层上的内部间隔件。在所述第二凹部中形成源极/漏极区。
  • 半导体器件用于制造方法
  • [发明专利]具有沟道区的半导体器件-CN201710780704.9有效
  • 宋升珉;朴雨锡;裴金钟;裴东一;梁正吉 - 三星电子株式会社
  • 2017-09-01 - 2022-06-14 - H01L29/78
  • 本发明提供了具有沟道区的半导体器件。一种半导体器件包括:衬底;多个凸出部,所述多个凸出部在所述衬底上彼此平行地延伸;多条纳米线,所述多条纳米线设于所述多个凸出部上并且彼此分开;多个栅电极,所述多个栅电极设于所述衬底上并且围绕所述多条纳米线;多个源/漏区,所述多个源/漏区设于所述多个凸出部上并且位于所述多个栅电极中的每一个栅电极的侧部,所述多个源/漏区与所述多条纳米线接触;以及多个第一空隙,所述多个第一空隙设于所述多个源/漏区与所述多个凸出部之间。
  • 具有沟道半导体器件
  • [发明专利]半导体器件-CN202110911116.0在审
  • 卢昶佑;姜明吉;金兑映;裴金钟;赵槿汇 - 三星电子株式会社
  • 2021-08-09 - 2022-03-11 - H01L21/8234
  • 一种半导体器件,包括:基板;第一纳米线至第六纳米线,在第一方向上延伸并彼此间隔开;第一栅电极至第三栅电极,在第二方向上延伸并分别在基板的第一区域至第三区域上;第一界面层,在第一栅电极与第二纳米线之间,该第一界面层具有第一厚度;第二界面层,在第三栅电极与第六纳米线之间,该第二界面层具有第二厚度。第一栅电极至第三栅电极可以分别围绕第一纳米线和第二纳米线、第三纳米线和第四纳米线以及第五纳米线和第六纳米线。第一内部间隔部可以在第一栅电极至第三栅电极中的至少一个的侧壁上。在第一方向上,第一纳米线的第一长度可以小于第三纳米线的第二长度。
  • 半导体器件
  • [发明专利]半导体器件-CN201910534783.4在审
  • 卢昶佑;姜明吉;裴金钟;裴东一;梁正吉;李相勋 - 三星电子株式会社
  • 2019-06-19 - 2020-03-27 - H01L21/8234
  • 提供了一种半导体器件。半导体器件可以包括:第一布线图案,在衬底上沿第一方向延伸;以及第二布线图案,在所述第一布线图案上。第二布线图案可以与第一布线图案间隔开并沿第一方向延伸。半导体器件还可以包括:第一栅极结构,至少部分地围绕所述第一布线图案和所述第二布线图案;第二栅极结构,沿第一方向与所述第一栅极结构间隔开;第一源/漏区,在所述第一栅极结构和所述第二栅极结构之间;第一间隔部,在所述第一源/漏区的底表面和所述衬底之间;第一源/漏接触,在所述第一源/漏区上;以及第二间隔部,在所述第一源/漏接触和所述第一栅极结构之间。
  • 半导体器件
  • [发明专利]半导体器件-CN201910850259.8在审
  • 姜明吉;金洞院;裴金钟;千宽永 - 三星电子株式会社
  • 2019-09-09 - 2020-03-24 - H01L29/10
  • 提供了一种半导体器件。该半导体器件包括:第一线图案,设置在衬底上并沿第一方向延伸;第一栅电极,围绕第一线图案并沿第二方向延伸,第一方向与第二方向垂直相交;第一晶体管,包括第一线图案和第一栅电极;第二线图案,设置在衬底上并沿第一方向延伸;第二栅电极,围绕第二线图案并沿第二方向延伸;以及第二晶体管,包括第二线图案和第二栅电极,其中第一线图案在第二方向上的宽度不同于第二线图案在第二方向上的宽度。
  • 半导体器件
  • [发明专利]键组件、旋转输入装置及电子装置-CN201210330095.4有效
  • 裴金钟 - 三星电子株式会社
  • 2012-09-07 - 2013-03-27 - H01H25/06
  • 本发明公开了一种键组件、旋转输入装置及电子装置,该键组件包括:底座;中央按钮部分,设置在底座上,以相对于底座在远程位置和邻近位置之间运动,并包括突起,所述突起沿着中央按钮部分的边缘向外突出;旋转按钮部分,与底座结合,并包括孔,所述孔使中央按钮部分的侧部的至少一部分暴露到外部,旋转按钮部分可旋转地设置在中央按钮部分的外侧上,并包括抑制部分,所述抑制部分形成在所述孔的内侧上,以对应于所述突起,从而抑制中央按钮部分沿着远离底座的方向运动。旋转输入装置包括键组件,电子装置包括旋转输入装置。
  • 组件旋转输入装置电子

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