专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]原子层沉积设备-CN201910813222.8有效
  • 李相烨;延国贤;池正根 - 三星电子株式会社
  • 2019-08-30 - 2023-09-08 - C23C16/455
  • 提供了一种原子层沉积(ALD)设备,所述ALD设备包括:第一工艺室,被构造为供应第一源气体并诱导第一材料膜的吸附。第二工艺室被构造为供应第二源气体并诱导第二材料膜的吸附。第三工艺室被构造为供应第三源气体并诱导第三材料膜的吸附。表面处理室被构造为对第一材料膜至第三材料膜中的每个执行表面处理工艺并去除反应副产物。热处理室被构造为对在其上以预定顺序吸附有第一材料膜至第三材料膜的基底执行热处理工艺并且使第一材料膜至第三材料膜转换为单一化合物薄膜。
  • 原子沉积设备
  • [发明专利]用于设计并制造喷头的设备、方法和系统-CN201910034623.3有效
  • 李相烨;池正根;郑盛允;崔在铭 - 三星电子株式会社
  • 2019-01-15 - 2022-11-25 - C23C16/455
  • 提供了一种用于生成喷头的3D形状数据的设备、一种制造喷头的方法和一种用于制造喷头的系统。所述设备包括:数据处理器,生成包括指示晶圆的上表面与喷头之间的第一距离的值的信息、指示晶圆上的位置的信息以及关于流体流动物理量值的信息的数据集,并且确定表示各个信息之间的关系的函数;输入单元,接收状况数据和每个位置的目标流体流动物理量值;以及数据库,存储关于所述函数的信息。数据处理器获得关于每个位置处的晶圆的上表面与喷头之间的具有目标流体流动物理量值的第二距离的信息,提取喷头的下表面的空间坐标信息,并且利用空间坐标信息生成喷头的3D形状数据。
  • 用于设计制造喷头设备方法系统

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