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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板处理装置-CN202310758041.6在审
发明人：玄宰一;朴奇洪;朱宰成 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-07-10 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，可以包括：基板输送单元，将第一基板及第二基板一个一个依次输送；基板传送单元，将一个一个依次输送的第一基板及第二基板同时传送；以及基板处理单元，对通过基板输送单元、基板传送单元或者基板输送单元和基板传送单元输送或传送的第一基板及第二基板进行预定处理。
处理装置

[发明专利]基板处理装置及方法-CN201910649637.6有效
发明人：河旻贞;李正洙;具世薰;吴英圭;洪忠吾;金慧智;朴奇洪 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-07-18 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置及方法。包括：悬浮台，用于使基板悬浮；流量器，检测在所述悬浮台形成的真空孔的流量；控制部，参照所述检测的流量，判断在所述真空孔是否存在异物；及警报器部，根据所述判断结果，通知是否存在异物。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置-CN201910621709.6有效
发明人：玄宰一;朴奇洪;朱宰成 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-07-10 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，可以包括：基板输送单元，将第一基板及第二基板一个一个依次输送；基板传送单元，将一个一个依次输送的第一基板及第二基板同时传送；以及基板处理单元，对通过基板输送单元、基板传送单元或者基板输送单元和基板传送单元输送或传送的第一基板及第二基板进行预定处理。
处理装置

[发明专利]冷却单元、用于处理基板的设备和处理基板的方法-CN202211677558.4在审
发明人：玄宰一;朴奇洪;朱宰成;李柱荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的设备，其可以包括：加热板，构造成加热置于其上的基板；冷却传送器，包括传送器和第一冷却部件，传送器构造成传送加热的基板，第一冷却部件构造成在加热的基板在传送器上被传送的同时冷却加热的基板，并且构造成在传送器上方相对于加热的基板提供冷却气氛；以及转移部件，其构造成将加热的基板从加热板传送到传送器上。
冷却单元用于处理设备方法

[发明专利]集成板及包括其的基板处理装置-CN201810364435.2有效
发明人：金基哲;朴奇洪;李昌镛;崔峰满;俞阿敏 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-04-20 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种集成板及包括其的基板处理装置。基板处理装置可包括集成板、超声波提供部件及温度调节部件等。所述集成板可包括彼此相邻地配置的至少两个分割板及能够吸收超声波引起的振动且能够填充位于所述分割板之间的间隙的盖部件。因此，本发明的基板处理装置能够防止由于相邻的分割板之间的间隙引起的基板的温度偏差而发生的基板上的斑点之类的不良。
集成包括处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN202010547855.1在审
发明人：玄宰一;朴奇洪;朱宰成 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-06-16 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：根据本发明的实施例的基板处理装置可以包括：第一曝光装置以及第二曝光置，构成为对基板以不同图案执行曝光；以及基板输送装置，构成为向第一曝光装置以及第二曝光装置输送基板并从第一曝光装置以及第二曝光装置输送基板，基板输送装置包括：第一传送机，构成为对第一曝光装置送入及送出基板；第二传送机，构成为对第二曝光装置送入及送出基板；第三传送机以及第四传送机，布置于第一传送机与第二传送机之间并构成为向第一传送机以及第二传送机依次输送基板；以及多层移送机，布置于第三传送机与第四传送机之间并构成为以至少2层移送多个基板。
处理装置

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202010511392.3在审
发明人：玄宰一;朴奇洪;朱宰成 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-06-08 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：单一的基板处理装置可包括用于清洗一个第一板或多个第二板的清洗腔、用于干燥所述一个第一板或所述多个第二板的干燥腔、用于向所述一个第一板或所述多个第二板上涂布药液的涂布腔、用于对被涂布药液的所述一个第一板或被涂布药液的所述多个第二板曝光的曝光腔、用于对被涂布药液的所述一个第一板或被涂布药液的所述多个第二板显影的显影腔、以及用于整齐排列所述一个第一板或所述多个第二板的整齐排列装置。
处理装置方法

[发明专利]基板移送装置-CN201710669589.8有效
发明人：金基哲;李昌镛;朴奇洪 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2017-08-07 - 公布日： 2020-10-16 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本发明的基板移送装置包括由以基板的移送方向为基准配置于后方的第一辅助板及配置于前方的第二辅助板构成的主板及通过所述主板向所述基板提供超声波使得能够在将所述基板浮起的状态下进行移送的超声波提供部，可以调节使得向所述第二辅助板提供的超声波的强度小于向所述第一辅助板提供的超声波的强度。本发明的基板移送装置利用超声波浮起基板，能够利用超声波的强度差移送基板，因此能够省略移送引导部。由于本发明的基板移送装置能够去除与基板接触的部分，从而能够防止摩擦引发的碎粒。
移送装置

[发明专利]基板移送装置及基板处理装置-CN201910610848.9在审
发明人：任世珍;朴奇洪;姜声根;金基雄;孙硕皓 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-07-08 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板移送装置和基板处理装置。该基板移送装置可包括具有多个第一辊的多个第一轴、具有多个第二辊的多个第二轴、连接邻接的多个第一辊的多个第一连接部件及连接邻接的多个第二辊的多个第二连接部件。沿着基板的移送方向，所述邻接的多个第一辊可配置成实质上彼此相对，所述邻接的多个第二辊可配置成实质上彼此相对，所述多个第一轴及所述多个第二轴可交替配置。
邻接基板移送装置彼此相对连接部件第二轴第一轴可配置基板处理装置交替配置基板

[发明专利]移送引导组件及基板移送装置-CN201810582048.6在审
发明人：金基哲;朴奇洪;李昌镛;崔峰满;俞阿敏 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：公开一种包括移送引导组件及驱动部件的用于移送浮在板上部的基板的移送装置。所述移送引导组件可包括实质上具有平坦的板形状的本体及与所述基板的一侧棱角接触且设置于所述本体的一侧的接触部。所述移送引导组件在移送所述基板期间能够与所述基板一起浮起。所述驱动部件通过沿着移送方向驱动所述移送引导组件，能够沿着所述移送方向移送所述基板。根据本发明，不仅能够防止工程不良，还能够有效地用于平板显示装置之类的显示装置的制造工程。
引导组件基板驱动部件基板移送装置平板显示装置方向驱动显示装置移送装置板形状有效地棱角浮起平坦制造

[发明专利]基板处理装置以及方法、包括该装置的基板处理系统-CN201410437517.7有效
发明人： 朴奇洪;玄宰一 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2014-08-29 - 公布日： 2017-09-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置以及方法、包括该装置的基板处理系统。其中，公开了一种能够提高显影处理效率的基板处理装置。基板处理装置包括工作腔室；基板移送部件，其配置于上述工作腔室内，且向一方向移送基板；第一显影液供给部件，其提供于上述基板的移送路径的上方，向移送的上述基板第一次供给显影液；流体供给部件，其沿着上述基板的移送方向位于上述第一显影液供给部件的后方，向第一次涂敷显影液的基板供给显影液去除流体；以及第二显影液供给部件，其沿着上述基板的移送方向位于上述流体供给部件的后方，向供给上述显影液去除流体的基板第二次供给显影液。
处理装置以及方法包括系统

[发明专利]用于处理衬底的装置-CN200810176806.0有效
发明人： 朴奇洪 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2008-11-21 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种用于处理衬底的装置，包括提供用于处理衬底的空间的腔；设置在所述腔内且沿着第一方向延伸的至少一个第一供给线路，该第一供给线路允许进入所述第一供给线路的两端部的处理液体由此流过；与所述第一供给线路连通的喷洒器，该喷洒器朝所述衬底延伸，并所述处理液体提供至所述衬底上；以及驱动单元，该驱动单元利用非接触方式摆动所述第一供给线路，以在大体垂直于所述第一方向的第二方向摆动所述喷洒器。因此，所述装置可以均匀地将所述处理液体提供至所述衬底。
用于处理衬底装置

[发明专利]用于供给处理流体的装置和具有该装置的处理衬底用装置-CN200810176805.6有效
发明人：李正洙;朴奇洪 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2008-11-21 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：在一种用于将处理流体供给至衬底上的装置和一种具有该装置的用于处理衬底的装置中，处理流体刀在平行于该衬底的表面的方向延伸，并具有缝喷嘴以供给该处理流体。杆在该刀的延伸方向延伸穿过该刀，并且在该刀的延伸方向将张紧力施加刀该杆，从而防止该刀下垂。因此，可以减小或防止由于刀的下垂可能引起的对衬底的损伤，而且进一步处理流体可被均匀地供给至衬底上。
用于供给处理流体装置具有衬底

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