专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202011596138.4有效
  • 朱一明;王晓光 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-12-29 - 2023-10-13 - H10B12/00
  • 本发明涉及一种半导体结构及其形成方法。所述半导体结构包括:衬底;第一晶体管,包括位于所述衬底内的第一沟道区域、以及位于所述衬底表面的第一端,所述第一端用于与第一类型存储单元连接;第二晶体管,包括位于所述衬底内的第二沟道区域、以及位于所述衬底表面的第二端,所述第二端用于与第二类型存储单元连接,所述第一沟道区域与所述第二沟道区域的面积不同。本发明能够达到将所述第一晶体管的制造工艺与所述第二晶体管的制造工艺兼容的效果,简化了半导体结构的制造方法,有助于提高存储器中具有所述第一晶体管和/或所述第二晶体管的存储单元的集成密度,并缩小存储单元的尺寸,提高了存储器的性能。
  • 半导体结构及其形成方法
  • [发明专利]半导体结构及其形成方法、存储器及其形成方法-CN202010344169.4有效
  • 朱一明;平尔萱 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-04-27 - 2023-09-29 - H01L27/088
  • 本发明涉及一种半导体结构及其形成方法,一种存储器及其形成方法,所述半导体结构的形成方法包括:提供衬底,所述衬底上形成有牺牲层和位于牺牲层上的有源层;刻蚀有源层和所述牺牲层形成沿第一方向延伸的有源线;形成填充各有源线之间间距的第一隔离层;刻蚀所述有源线端部形成开口,且所述开口侧壁暴露出所述牺牲层;沿所述开口去除所述牺牲层,在所述有源线底部与所述衬底之间形成间隙;在所述间隙内填充导电材料,形成沿第一方向延伸的位线。所述半导体结构的形成方法有利于提高晶体管的集成度及性能,从而提高存储器的存储密度。
  • 半导体结构及其形成方法存储器
  • [发明专利]一种手持移液器-CN202210304302.2有效
  • 朱一明;李星火;兰省科 - 上海科进生物技术有限公司
  • 2022-03-25 - 2023-09-26 - B01L3/02
  • 一种手持移液器,包括上壳体、中间壳体,在所述上壳体的内侧套设有液量调节套筒,从动套筒插入所述液量调节套筒的另一端,从动套筒的底部内壁设置有内螺纹,在所述中间壳体内设置有速度调节单元,所述速度调节单元包括设置在上控制腔的内部容积顶部的节流装置,该节流装置可相对所述上控制腔旋转,改变排出通道连通于上控制腔内的第一上开口的截面积。
  • 一种手持移液器
  • [发明专利]一种半导体结构及其制备方法-CN202010428538.8有效
  • 朱一明;应战;张强 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-05-20 - 2023-09-26 - H10B12/00
  • 本发明提供一种半导体结构的制备方法,其特征是,包括:提供具有若干第一沟槽的衬底,相邻所述第一沟槽之间形成有第一图案;形成第一介质层,所述第一介质层至少覆盖所述第一图案的侧壁;隔断所述第一图案形成第二图案。其优点是:通过至少在第一图案的侧壁上形成第一介质层作为保护层,这样当对第一图案进行刻蚀形成第二图案时,由于第一图案的侧壁始终受到第一介质层的保护层的保护,由隔断形成的第二图案所构成的有源区的末端在刻蚀过程中就不容易遭到破坏。
  • 一种半导体结构及其制备方法
  • [发明专利]半导体结构及其形成方法、存储器及其形成方法-CN202010343511.9有效
  • 朱一明;平尔萱 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-04-27 - 2023-09-12 - H01L27/088
  • 本发明涉及一种半导体结构及其形成方法,一种存储器及其形成方法。所述半导体结构的形成方法包括:提供衬底,所述衬底上形成有牺牲层和位于所述牺牲层上的有源层;对所述有源层和所述牺牲层进行图形化,形成凹槽,所述凹槽将所述有源层和所述牺牲层分割为若干有源区;在所述凹槽内形成包围所述有源区的第一隔离层;对所述有源区内的有源层进行图形化,形成若干分立的有源图形,所述有源图形至少有一侧壁或端部与所述第一隔离层连接;沿相邻所述有源图形之间的开口去除所述牺牲层,形成位于所述有源图形底部与所述半导体衬底之间的间隙;在所述间隙内形成位线。上述方法能够减小晶体管的平面尺寸,提高存储器的存储密度。
  • 半导体结构及其形成方法存储器
  • [发明专利]半导体结构及其形成方法、存储器及其形成方法-CN202010343487.9有效
  • 朱一明;平尔萱 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-04-27 - 2023-08-22 - H01L27/088
  • 本发明涉及一种半导体结构及其形成方法,一种存储器及其形成方法,半导体结构的形成方法包括:提供衬底,所述衬底上形成有牺牲层和位于牺牲层上的有源层;刻蚀有源层和牺牲层至衬底表面,形成若干平行排列的沿第一方向延伸的有源线;在相邻所述有源线之间的开口内填充以形成第一隔离层;刻蚀有源线端部,形成开孔;沿开孔去除牺牲层,在有源线底部与衬底之间形成间隙;在间隙内填充导电材料,形成沿第一方向延伸的位线;对有源线进行图形化,形成分立的若干有源柱,若干有源柱沿第一方向和第二方向阵列排列;在有源柱表面形成半导体柱。上述半导体结构的形成方法有利于提高晶体管的集成度及性能,提高存储器的存储密度。
  • 半导体结构及其形成方法存储器
  • [发明专利]一种移液装置-CN202310437828.2在审
  • 朱一明;周立波;李星火 - 上海科进生物技术有限公司
  • 2022-03-01 - 2023-08-08 - B01L3/02
  • 一种移液装置,包括上壳体、中间壳体和下壳体,在所述上壳体的内侧套设有液量调节套筒,液量调节套筒相对于上壳体旋转移动,还包括驱动杆,驱动杆可相对丝杠螺母上下滑动,驱动杆上设置一凸台与所述丝杠螺母的下端面抵接,在所述中间壳体内设置有速度调节单元,所述驱动杆的下端面抵接有柱塞杆,活塞固定连接在所述柱塞杆上,所述速度调节单元包括通过活塞分隔形成的上控制腔和下控制腔,通过速度调节单元的设置从而控制所述柱塞杆的返回速度,防止工作液进入移液枪内。
  • 一种装置
  • [发明专利]一种医疗器械清洗消毒装置-CN202310744021.3在审
  • 朱一明;周力波;李星火;兰省科 - 上海科进生物技术有限公司
  • 2023-06-25 - 2023-07-28 - B08B3/02
  • 本发明属于医疗器械喷淋式清洗消毒领域,具体涉及一种医疗器械清洗消毒装置,包括柜体,柜体内固定设置暂存槽,暂存槽的上方依次设置有环形壳和喷淋管,喷淋管的喷洒方向朝下,环形壳设置有开口朝上的环形腔,环形壳设置有连通环形腔的滤孔,用于将液体下漏在暂存槽内,暂存槽连通排水管,环形壳的中空部分内穿插有主轴,主轴顶部连接用于驱动其升降的升降驱动装置,底部连接用于驱动其旋转的旋转驱动装置。本发明通过喷淋管对环形壳内的医疗器械首次清洗消毒,并将消毒液、清洗液暂存到暂存槽内,将环形壳下降之后进行旋转,从而实现二次清洗消毒的目的,能够节约水资源消耗,更加环保,并且通过二次清洗消毒,对医疗机械的清洁也更加彻底。
  • 一种医疗器械清洗消毒装置
  • [发明专利]一种实验室容器清洗装置-CN202310537442.9有效
  • 朱一明;周力波;李星火;兰省科 - 上海科进生物技术有限公司
  • 2023-05-15 - 2023-07-18 - B08B9/087
  • 本发明公开了一种实验室容器清洗装置,涉及容器清洗技术领域,解决锥形瓶内壁难以清洗的问题。所述装置包括对接台,固定在对接台上的工形板和固定在工形板内的内管,以及固定在对接台底部的对接件;工形板的一侧转动安装有多个联动板,且所述联动板的外端通过转轴对接有清洁条,本发明通过设计的调节组件对清洁条的位置行对应的调节,从而能够对不同粗度试管内壁进行清洁,再通过推送组件和贴合带相互配合,满足对锥形瓶内壁进行贴合清洁。与现有的清洁刷清洗的方式相比,能够更加贴合于锥形瓶的内壁,使得清洁更全面,效果更佳;与仿形气囊与瓶内壁贴合进行清洗方式相比,能够给瓶内留出较多的空间,用于杂质的刮除后的排出。
  • 一种实验室容器清洗装置
  • [发明专利]半导体结构的制备方法-CN202010428539.2有效
  • 朱一明;应战;张强 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2020-05-20 - 2023-07-18 - H10B12/00
  • 本发明提供一种半导体结构的制备方法,其包括:提供具有若干个第一沟槽的衬底,相邻所述第一沟槽之间形成有第一图案;形成第一介质层,所述第一介质层至少覆盖所述第一图案的侧壁;形成第二介质层,所述第二介质层填充所述第一沟槽;隔断所述第一图案形成第二图案;去除所述第二介质层。其优点是:通过至少在第一图案的侧壁上形成第一介质层作为保护层,这样当对第一图案进行刻蚀形成第二图案时,由于第一图案的侧壁始终受到第一介质层的保护,由隔断形成的第二图案所构成的有源区的末端在刻蚀过程中就不容易遭到破坏。
  • 半导体结构制备方法
  • [发明专利]一种细胞培养皿的清洗方法-CN202211219687.9有效
  • 朱一明;李星火;周力波;兰省科 - 上海科进生物技术有限公司
  • 2022-08-01 - 2023-07-07 - B08B9/28
  • 本发明提供一种细胞培养皿的清洗方法,包括:至少一个细胞培养皿,其包括皿体和皿盖,所述的皿体的周向侧壁具有至少一个凹部;至少一个清洗单元;烘干单元;控制单元,其控制清洗单元和烘干单元的工作状态,使细胞培养皿顺次经过清洗单元和干燥单元并被处理;所述的清洗单元或干燥单元接收所述的至少一个细胞培养皿后,将皿体和皿盖相对放置且分别独立固定于清洗单元或干燥单元的夹持部,皿体和皿盖的轴线与重力方向基本垂直;控制清洗喷头或干燥喷头伸入皿体的所述凹部,清洗喷头和干燥喷头向皿盖内表面间歇性喷射流体,至少部分所述的流体接触皿盖内表面后反弹至皿体内表面。该方法减少清洗过程中工作介质的用量,并提高了清洗效率。
  • 一种细胞培养皿清洗方法
  • [发明专利]一种移液装置及调节方法-CN202210190292.4有效
  • 朱一明;周立波;李星火 - 上海科进生物技术有限公司
  • 2022-03-01 - 2023-05-12 - B01L3/02
  • 一种移液装置,该移液装置包括上壳体、中间壳体和下壳体,在所述上壳体的内侧套设有液量调节套筒,液量调节套筒可相对于上壳体旋转移动,在液量调节套筒伸出所述上壳体的一端一体连接有调节滚轮,在所述液量调节套筒另一端套设有从动套筒,从动套筒的底部设置有螺纹,机械计数器通过齿轮组与所述螺纹啮合,所述机械计数器设置在从动套筒的下方。本发明通过合理的移液装置结构设置,减小了移液装置的直径,便于操作人员的长时间握持,同时可以防止工作液进入移液枪内,避免造成不同工作液提取时的污染而影响实验结果分析。
  • 一种装置调节方法
  • [发明专利]一种移液吸嘴清洗灭菌装置及清洗灭菌方法-CN202210249637.9有效
  • 朱一明 - 上海科进生物技术有限公司
  • 2022-03-15 - 2022-11-22 - B08B9/032
  • 本申请实施例涉及一种移液吸嘴清洗灭菌装置及清洗灭菌方法,所述移液吸嘴清洗灭菌装置包括清洗池、设在清洗池内壁上的固定翼、设在固定翼上的清洗板、第二端固定在清洗板上的锥形管、设在清洗池上的第一清洗单元、设在清洗池内的第二清洗单元以及排水单元,清洗板将清洗池内的空间分为下清洗腔和上清洗腔,锥形管的第二端向远离清洗板的方向延伸,远离清洗板的方向上,锥形管的内腔的截面积趋于减小,第一清洗单元能够伸入到上清洗腔内并抵接在清洗板上,第二清洗单元位于下清洗腔内且能够抵接锥形管上,排水单元的两个输入端分别与下清洗腔和上清洗腔连接。本申请实施例公开的移液吸嘴清洗灭菌装置,通过内外侧单独清洗的方式对移液吸嘴进行彻底清洗。
  • 一种移液吸嘴清洗灭菌装置方法

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