专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种理论光谱数据的优化方法、系统及光学测量方法-CN202110736218.3有效
  • 张晓雷;张厚道;施耀明 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2021-06-30 - 2023-07-18 - G06F30/20
  • 本发明提供一种理论光谱数据的优化方法、系统及光学测量方法,该优化方法包括:获取一在X、Y方向均具有周期性结构的样品模型;获取样品模型在X、Y方向上的收敛级次对集合;建立包括至少一个可调参数的级次对不等式,以级次对不等式为约束条件,在收敛级次对集合中提取第一优化级次对集合;基于RCWA算法,获取第一优化级次对集合中级次对集合对应的第一均方误差;将第一均方误差与预先设定的第一阈值比较,提取第二优化级次对集合;基于RCWA算法,获取第二优化级次对集合对应的理论光谱数据。本发明通过级次对不等式对收敛级次对集合进行优化,第二优化级次对集合中级次对的个数少,从而可以减少计算量,提高计算理论光谱数据的效率。
  • 一种理论光谱数据优化方法系统光学测量方法
  • [发明专利]建立理论光谱库的方法及装置、形貌参数测量方法及装置-CN202211047949.8在审
  • 张晓雷;张厚道;梁洪涛;施耀明 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2022-08-30 - 2022-11-29 - G01B11/24
  • 本发明公开了一种建立理论光谱库的方法及装置、形貌参数测量方法及装置,该建立理论光谱库的方法能够提高创建理论光谱库的速度,包括:获取待测量样品的形貌模型,将形貌模型划分为M个分块,并获取每个分块的初始形貌参数;多次浮动每个分块的至少一个初始形貌参数,得到每个分块的多组参考形貌参数;根据每个分块的初始形貌参数,确定每个分块的初始子构型,根据每个分块的多组参考形貌参数,确定每个分块的多个参考子构型,划分为多个片层,得到每个分块的子构型的片层划分结果;得到形貌模型的所有的子构型;得到形貌模型的所有子构型分别对应的片层划分结果;分别计算形貌模型的每个子构型对应的理论光谱,得到形貌模型对应的理论光谱库。
  • 建立理论光谱方法装置形貌参数测量方法
  • [发明专利]光学测量方法-CN202210667770.6在审
  • 梁洪涛;张戎;张厚道;张晓雷;张云;施耀明 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2022-06-14 - 2022-09-20 - G01B11/06
  • 本发明提供了一种光学测量方法,所述光学测量方法包括:获取待测样品的测量光谱;对所述测量光谱进行光滑滤波处理,以得到高频光谱;基于所述待测样品的光学性能参数对所述测量光谱中的变量真空波长建立变量替换函数关系,以获取替换变量;基于所述替换变量,对所述高频光谱进行约化处理,以得到目标高频信号;对所述目标高频信号进行傅里叶变换,以得到傅里叶空间光谱;对所述傅里叶空间光谱进行寻峰,其中最大峰所对应的参数值即为所述待测样品的待测参数的测量结果。本发明直接通过确定所述傅里叶空间光谱最大峰所对应的参数值,并根据所述参数值得到所述待测样品的待测参数,提高了对待测样品的光学参数的准确度。
  • 光学测量方法
  • [发明专利]一种获取理论光谱的方法和形貌参数的测量方法-CN202210826813.0在审
  • 张晓雷;张厚道;梁洪涛;施耀明 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2022-07-14 - 2022-09-06 - G01B11/24
  • 本发明公开了一种获取理论光谱的方法和形貌参数的测量方法,用于提高理论光谱计算效率和形貌参数的测量效率。获取理论光谱的方法包括:获取待测量样品的形貌模型,将形貌模型划分为M个分块,获取每个分块的初始形貌参数,浮动初始形貌参数得到多组参考形貌参数;确定每个分块的初始构型和多个参考构型,每个分块的散射特性矩阵组包括初始构型和多个参考构型分别对应的散射特性矩阵;从形貌模型的底部向顶部的顺序依次从每个分块的散射特性矩阵组中分别选取的任意一个散射矩阵进行逐级合并,得到形貌模型入射区的散射特性矩阵;获取入射区的多个散射特性矩阵;获取入射区的多个反射电场,基于多个反射电场得到待测量样品的多个理论光谱。
  • 一种获取理论光谱方法形貌参数测量方法
  • [发明专利]光学参数测量方法及装置-CN202111546851.2在审
  • 梁洪涛;张戎;张厚道;张云;施耀明 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2021-12-16 - 2022-04-12 - G01B11/00
  • 本发明提供了一种光学参数测量方法及装置,所述方法包括:获取待测样品的测量光谱S,并获得优化谱线T;计算待测参数x的第一初值x1;创建测量光谱S的仿真光谱s和所述s的优化谱线t;计算特征差值M0,并设置所述M0的权重k0,计算特征差值Ma,并设置所述Ma的权重ka,所述M0和所述Ma是跟随所述x变化的变量;计算M的最小值,在所述M取Mmin时,所对应的待测参数x的参数值x2为所述待测参数x的最优解。本发明通过综合考量同一待测样品的不同类型光谱曲线的特性确定出待测参数初值的最优解,提高了对薄膜厚度、OCD等光学参数测量的准确度。
  • 光学参数测量方法装置
  • [发明专利]一种模型理论光谱计算方法和装置-CN202111602467.X在审
  • 张晓雷;张厚道;施耀明 - 上海精测半导体技术有限公司
  • 2021-12-24 - 2022-04-12 - G06F30/20
  • 本发明提供了一种模型理论光谱计算方法和装置。本申请的模型理论光谱计算方法,包括:建立样品形貌模型,并建立XOZ平面坐标系;获取样品形貌模型在XOZ平面坐标系的平面轮廓;在平面轮廓上获取多个采样点,并根据多个采样点构成初始点集;根据初始点集得到Z坐标分层值集合;根据Z坐标分层值集合计算理论光谱。本申请的模型理论光谱计算方法通过获取样品形貌模型在XOZ平面坐标系的平面轮廓,并记录平面轮廓中的多个采样点,根据多个采样点构成初始点集,根据初始点集的Z坐标值进行分层,能够在线形发生改变的地方对样品形貌模型进行分层,之后根据分层值进行理论光谱的计算,在保证精度的同时减少片层的划分数量,能够提升理论光谱计算的速度。
  • 一种模型理论光谱计算方法装置

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