专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于制造玻璃纤维的漏板及玻璃纤维的制造方法-CN201980054665.1有效
  • 藤井刚;斋藤真规 - 中央硝子株式会社
  • 2019-08-15 - 2023-09-26 - C03B37/083
  • 本发明的用于制造玻璃纤维的漏板具备底板与多个排列在上述底板上的排出玻璃熔液的喷嘴,其中,上述底板具备水平截面为扁平状的底孔,上述喷嘴具备喷嘴壁与喷嘴孔,所述喷嘴壁沿上述底孔的轮廓从上述底板突出,所述喷嘴孔从上述底孔贯穿至上述喷嘴壁的前端且维持上述底孔的形状,上述喷嘴壁具有没有从上述底板突出的一对缺口,上述一对缺口隔着上述喷嘴孔的长边方向的中心轴相对且相向,上述缺口的宽度为上述喷嘴孔的长边方向的中心轴的长度的10%以上、95%以下。
  • 用于制造玻璃纤维方法
  • [发明专利]用于制造玻璃纤维的嘴头和玻璃纤维的制造方法-CN202210718411.9有效
  • 藤井刚;斋藤真规 - 中央硝子株式会社
  • 2018-02-23 - 2023-08-25 - C03B37/083
  • 本发明涉及用于制造玻璃纤维的嘴头和玻璃纤维的制造方法。用于制造玻璃纤维的嘴头包括:一对长边壁和一对短边壁,该一对长边壁和一对短边壁由铂或铂合金形成;以及嘴孔,其由所述长边壁和短边壁形成,用来排出玻璃熔体。所述嘴孔具有水平截面为扁平状的孔形状,各长边壁在玻璃熔体的排出侧具有缺口,所述缺口的宽度为所述嘴孔的扁平状的孔形状的长边方向中心轴线的长度的10%~55%,所述一对长边壁是以所述嘴孔的所述中心轴线为对称轴对称的形状。利用该嘴头,能够高效地制造具有期望的截面形状的玻璃纤维。
  • 用于制造玻璃纤维嘴头方法
  • [发明专利]保护膜形成用化学溶液-CN201611028598.0有效
  • 斋藤真规;荒田忍;斋尾崇;公文创一;七井秀寿;赤松佳则 - 中央硝子株式会社
  • 2010-10-20 - 2020-09-08 - H01L21/02
  • 本发明涉及保护膜形成用化学溶液。本发明公开了一种晶片的拒水性保护膜形成用化学溶液,其特征在于,其为包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液,所述拒水性保护膜形成剂用于在表面形成有微细的凹凸图案且该凹凸图案的至少凹部表面的一部分包含选自由钛、氮化钛、钨、铝、铜、锡、氮化钽、钌以及硅组成的组中的至少1种物质的晶片的清洗时至少在前述凹部表面形成拒水性保护膜,该拒水性保护膜形成剂为非水溶性的表面活性剂。利用该化学溶液形成的拒水性保护膜可以防止清洗工序中的晶片的图案倾塌。
  • 保护膜形成化学溶液
  • [发明专利]晶片的清洗方法-CN201480054698.3有效
  • 斋藤真规;斋尾崇;公文创一;荒田忍 - 中央硝子株式会社
  • 2014-09-08 - 2018-09-21 - H01L21/304
  • 本发明的晶片的清洗方法是表面形成有凹凸图案且该凹凸图案的凹部表面具有钛、钨、铝、铜、锡、钽和钌之中的至少1种元素的晶片的清洗方法,该方法至少具备:前处理工序,在凹凸图案的至少凹部保持清洗液;保护膜形成工序,在上述前处理工序后,在凹凸图案的至少凹部保持保护膜形成用化学溶液;以及干燥工序,通过干燥而从凹凸图案去除液体,上述保护膜形成用化学溶液是包含拒水性保护膜形成剂的化学溶液,所述拒水性保护膜形成剂用于在至少上述凹部表面形成拒水性保护膜,若上述保护膜形成用化学溶液为碱性则上述清洗液为酸性,若上述保护膜形成用化学溶液为酸性则上述清洗液为碱性。
  • 晶片清洗方法
  • [发明专利]晶片的清洗方法-CN201180063349.4有效
  • 公文创一;斋尾崇;荒田忍;斋藤真规;七井秀寿;赤松佳则 - 中央硝子株式会社
  • 2011-12-20 - 2017-04-12 - H01L21/304
  • [课题]提供在表面具有凹凸图案的晶片的制造方法中用于改善容易诱发图案倾塌的清洗工序的清洗方法。[解决方法]所述清洗方法是表面具有凹凸图案的晶片的清洗方法,其至少具有以下工序用清洗液(8)清洗上述晶片(1)的工序;用拒水性化学溶液(9)置换在清洗后保持于晶片(1)的凹部(4)的清洗液(8)的工序;干燥晶片(1)的工序,上述清洗液(8)包含80质量%以上的沸点为55~200℃的溶剂,通过使上述置换的工序中供给的拒水性化学溶液(9)的温度为40℃以上且低于该拒水性化学溶液(9)的沸点,从而至少使上述凹部表面拒水化。
  • 晶片清洗方法
  • [发明专利]保护膜形成用化学溶液-CN201380050128.2在审
  • 荒田忍;公文创一;斋藤真规;斋尾崇 - 中央硝子株式会社
  • 2013-09-12 - 2015-05-27 - H01L21/304
  • [课题]本发明提供如下的形成拒水性保护膜的拒水性保护膜形成用化学溶液,该化学溶液用于改善容易诱发表面形成凹凸图案且该凹凸图案的凹部表面具有钛、钨、铝、铜、锡、钽、以及钌中的至少一种元素的晶片(金属系晶片)的图案倒塌的清洗工序。[解决方法]拒水性保护膜形成用化学溶液,其特征在于,所述化学溶液用于在采用仅由质子性极性溶剂构成的冲洗液或以质子性极性溶剂作为主要成分的冲洗液对前述晶片表面进行冲洗处理的冲洗处理工序的前,通过保持在该晶片的至少凹部,从而在至少该凹部表面上形成拒水性保护膜,该化学溶液包含拒水性保护膜形成剂和溶剂,该拒水性保护膜形成剂为下述通式[1]~[3]所示的至少一种化合物。(R3)b(R4)cNH3-b-c[2];R5(X)d [3];。
  • 保护膜形成化学溶液
  • [发明专利]保护膜形成用化学溶液-CN201180064801.9有效
  • 斋尾崇;公文创一;斋藤真规;荒田忍;七井秀寿;赤松佳则 - 中央硝子株式会社
  • 2011-12-28 - 2013-09-11 - H01L21/304
  • 本发明的课题在于提供一种形成拒水性保护膜(10)的保护膜形成用化学溶液,其用于改善容易诱发表面形成有凹凸图案且该凹凸图案的凹部(4)表面具有钛、钨、铝、铜、锡、钽和钌中的至少1种元素的晶片(金属系晶片)的图案倾塌的清洗工序。[解决方案]一种拒水性保护膜形成用化学溶液,其特征在于,其为包含下述拒水性保护膜形成剂和溶剂的化学溶液,所述拒水性保护膜形成剂用于在前述金属系晶片的清洗工序之后且干燥工序之前在至少凹部(4)表面形成拒水性保护膜(10),该拒水性保护膜形成剂为通式[1]表示的化合物。(R1是一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1~18的1价烃基,R2各自相互独立地是包含一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的碳原子数为1~18的烃基的1价有机基团,a是0至2的整数。)
  • 保护膜形成化学溶液
  • [发明专利]保护膜形成用化学溶液-CN201180028305.8有效
  • 公文创一;斋尾崇;荒田忍;斋藤真规;两川敦;山田周平;七井秀寿;赤松佳则 - 中央硝子株式会社
  • 2011-06-03 - 2013-02-13 - H01L21/304
  • 公开了一种用于在清洗表面具有微细凹凸图案(2)且该凹凸图案(2)的至少一部分含有硅元素的晶片(1)时在该凹凸图案(2)的至少凹部表面形成拒水性保护膜(10)的化学溶液。该化学溶液包含通式:R1aSi(H)bX4-a-b所示的硅化合物A和酸A,该酸A选自由三氟乙酸三甲基硅酯、三氟甲磺酸三甲基硅酯、三氟乙酸二甲基硅酯、三氟甲磺酸二甲基硅酯、三氟乙酸丁基二甲基硅酯、三氟甲磺酸丁基二甲基硅酯、三氟乙酸己基二甲基硅酯、三氟甲磺酸己基二甲基硅酯、三氟乙酸辛基二甲基硅酯、三氟甲磺酸辛基二甲基硅酯、三氟乙酸癸基二甲基硅酯和三氟甲磺酸癸基二甲基硅酯组成的组中的至少1种。
  • 保护膜形成化学溶液
  • [发明专利]可手工涂布的溶胶凝胶膜形成用涂布液-CN200880014943.2无效
  • 斋藤真规;滨口滋生;公文创一;赤松佳则 - 中央硝子株式会社
  • 2008-04-28 - 2010-03-17 - C09D183/04
  • 本发明涉及一种涂布液,其为用于获得溶胶凝胶膜的涂布液,该涂布液含有固体成分和溶剂,该固体成分具有烷氧基硅烷在酸性水溶液中水解和缩聚而获得的氧化硅低聚物,该溶剂具有沸点为100℃以上且粘度为3.5mPa·s以下的有机溶剂和前述酸性水溶液,其中,前述氧化硅低聚物的聚苯乙烯换算的数均分子量为500~4000,涂布液中的固体成分的含量为8~30重量%,固体成分中的氧化硅低聚物的含量为10重量%以上。通过本发明,即使用手工涂布等无需设备就可涂布的涂布方法,也可获得具有硬度、以透明性为首的外观、透视变形、膜厚等方面优良品质的溶胶凝胶膜。
  • 手工溶胶凝胶形成用涂布液

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