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[发明专利]拒水性保护膜形成剂和拒水性保护膜形成用化学溶液-CN201980012741.2有效
发明人：奥村雄三;近藤克哉;山田周平;两川敦;福井由季 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2019-02-05 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种用于在包含硅元素的晶片的表面形成拒水性保护膜的新型拒水性保护膜形成剂或新型拒水性保护膜形成用化学溶液、以及使用液体状态的该拒水性保护膜形成剂或该化学溶液的晶片表面处理方法。本发明的拒水性保护膜形成剂为选自由下述通式[1]所示的胍衍生物和下述通式[2]所示的脒衍生物组成的组中的至少1种硅化合物。#imgabs0#
水性保护膜形成化学溶液

[发明专利]拒水性保护膜形成用化学溶液、其制备方法和表面处理体的制造方法-CN201980012863.1在审
发明人：奥村雄三;近藤克哉;山田周平;两川敦;福井由季 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2019-02-05 - 公布日： 2020-10-02 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种包含具有各种碱度的新催化成分的新型拒水性保护膜形成用化学溶液及其制备方法、以及使用该化学溶液的表面处理体的制造方法。本发明的拒水性保护膜形成用化学溶液是用于在晶片的表面形成拒水性保护膜的拒水性保护膜形成用化学溶液，所述晶片的该表面包含硅元素，所述拒水性保护膜形成用化学溶液包含：(I)甲硅烷基化剂、(II)下述通式[1]和[2]所示的化合物之中的至少1种含氮化合物、以及(III)有机溶剂。[式[1]、[2]中，R1分别相互独立地选自氢原子、‑C≡N基、‑NO2基、以及一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的烃基，前述烃基任选具有氧原子和/或氮原子，在包含氮原子的情况下，呈现非环状结构。R2选自氢原子、‑C≡N基、‑NO2基、烷基甲硅烷基、以及一部分或全部氢元素任选被氟元素取代的烃基，前述烃基任选具有氧原子和/或氮原子，在包含氮原子的情况下，呈现非环状结构。]
水性保护膜形成化学溶液制备方法表面处理制造

[发明专利]加压输送容器、使用了其的保管方法以及移液方法-CN201410214947.2有效
发明人： 两川敦;山田周平;藤谷昌弘;桥本阳祐;出田知爱;公文创一;斋藤真规;斋尾崇 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2014-05-20 - 公布日： 2018-03-16 - 主分类号： B65D90/00 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在长时间保管保护膜形成用化学溶液、用于配制该化学溶液的保护膜形成用化学溶液组合试剂后，也能够确保该化学溶液或该化学溶液组合试剂等液体的洁净性，且能够抑制该液体的带电的加压输送容器、使用了其的保管方法以及移液方法。一种加压输送容器，其特征在于，其为以保管保护膜形成用化学溶液或保护膜形成用化学溶液组合试剂、且能够通过对内部进行加压来移液的方式构成的加压输送容器，所述保护膜形成用化学溶液用于在表面具有凹凸图案且该凹凸图案的至少一部分包含硅元素的晶圆的该凹凸图案的至少凹部表面形成拒水性保护膜，所述保护膜形成用化学溶液组合试剂通过混合而形成上述保护膜形成用化学溶液。
加压输送容器使用保管方法以及

[发明专利]保护膜形成用化学溶液-CN201180028305.8有效
发明人：公文创一;斋尾崇;荒田忍;斋藤真规;两川敦;山田周平;七井秀寿;赤松佳则 -专利权人：中央硝子株式会社
申请日： 2011-06-03 - 公布日： 2013-02-13 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：公开了一种用于在清洗表面具有微细凹凸图案（2）且该凹凸图案（2）的至少一部分含有硅元素的晶片（1）时在该凹凸图案（2）的至少凹部表面形成拒水性保护膜（10）的化学溶液。该化学溶液包含通式：R1aSi(H)bX4-a-b所示的硅化合物A和酸A，该酸A选自由三氟乙酸三甲基硅酯、三氟甲磺酸三甲基硅酯、三氟乙酸二甲基硅酯、三氟甲磺酸二甲基硅酯、三氟乙酸丁基二甲基硅酯、三氟甲磺酸丁基二甲基硅酯、三氟乙酸己基二甲基硅酯、三氟甲磺酸己基二甲基硅酯、三氟乙酸辛基二甲基硅酯、三氟甲磺酸辛基二甲基硅酯、三氟乙酸癸基二甲基硅酯和三氟甲磺酸癸基二甲基硅酯组成的组中的至少1种。
保护膜形成化学溶液