专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种用于智能道闸控制器的高精密角度传感器-CN201720888960.5有效
  • 葛玉余;徐昕伟 - 杭州智航智能科技有限公司
  • 2017-07-20 - 2018-02-13 - G01B7/30
  • 本实用新型公开了一种用于智能道闸控制器的高精密角度传感器,包括磁感底座和磁感座盖,磁感底座的上端面开设有磁感槽位;磁感槽位的内部表面上均固定有螺栓,螺栓呈三角分布,螺栓上固定安装有角度传感器,在两个螺栓之间安装有控制芯片,检测电路焊接在控制芯片上;磁感座盖通过固定环和固定柱固定在磁感槽位上。本用于智能道闸控制器的高精密角度传感器,方案利用霍尔传感器MLX90316所设计的磁性角度传感器具有非接触式、高精度、高抗干扰等优点,通过对机械结构和硬件电路的分析,找出误差来源,在此基础上编写软件算法,实现角度值的测量,精度能达到0.5°,满足所要求的技术指标,可广泛运用于汽车、电机等工业领域中。
  • 一种用于智能控制器精密角度传感器
  • [外观设计]道闸外壳-CN201630373658.7有效
  • 葛玉余;徐昕伟 - 杭州智航智能科技有限公司
  • 2016-08-08 - 2017-09-26 - 10-07
  • 1.本外观设计产品的名称道闸外壳。2.本外观设计产品的用途本外观设计产品用于闸道门。3.本外观设计产品的设计要点产品的形状和图案。4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片主视图。5.本外观设计仰视图无设计要点,左视图与右视图对称,省略仰视图、右视图。
  • 外壳
  • [发明专利]一种半导体干燥装置及方法-CN201310344323.8在审
  • 徐昕伟;景玉鹏;郭晓龙;于明岩;赵士瑞 - 中国科学院微电子研究所
  • 2013-08-08 - 2015-02-11 - H01L21/67
  • 本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种半导体干燥装置。所述干燥装置,包括:腔室;石英装置,设置于所述腔室内,用于盛载待测硅片;GHz电磁波发生装置,设置于所述腔室内,用于产生交变电场对所述待测硅片进行加热,并且使石英装置中去离子水的温度升高,直到所述待测硅片上的水分完全蒸发。本发明还提供一种半导体干燥方法。本发明采用了GHz电磁波发生装置,GHz电磁波发生装置产生的电磁波可以使水进入一种动能的高蓄积状态,从而打破水分子团簇结构,消除水的表面张力,所以解决了微细结构的纳米图形在干燥过程中发生的断裂、倒伏或粘连等问题。
  • 一种半导体干燥装置方法
  • [发明专利]一种对纳米图形进行紫外清洗的装置及方法-CN201210551939.8无效
  • 赵士瑞;景玉鹏;于明岩;郭晓龙;徐昕伟 - 中国科学院微电子研究所
  • 2012-12-18 - 2013-03-20 - B08B7/00
  • 本发明公开了一种对纳米图形进行紫外清洗的装置及方法,该装置包括:反应腔室(1);设置于腔室内部顶端的紫外灯(2);设置于腔室内部用来固定待清洗硅片(5)的托盘(4);设置于托盘下方的加热管(3);设置于腔室底部且连接于托盘用来带动托盘转动使硅片清洗均匀的电机(6);以及反应腔室外部的控制面板。利用本发明,由于通入氧气,提高了反应腔室的氧气浓度,在紫外线照射下会产生密度更大的臭氧,因此能够彻底去除残留在纳米图形上的高分子聚合物;在承载硅片的托盘下装有旋转的电机,通过对硅片进行旋转来进行加热和紫外辐射,从而使硅片受到均匀的热管加热和紫外辐射,进而使清洗效果相对均匀。
  • 一种纳米图形进行紫外清洗装置方法

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