专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于振荡负阻特性的低功耗单端反射放大器电路-CN202110920111.4有效
  • 吕红亮;陈旭;夏敏杰;赵冉冉;戚军军;张玉明;张义门 - 西安电子科技大学
  • 2021-08-11 - 2023-06-30 - H03F1/34
  • 本发明提供的一种基于振荡负阻特性的低功耗单端反射放大器电路,通过确定工作频率区间并选择在工作频率区间的射频信号,在符合偏置条件的直流偏置电压下工作,产生负电阻对接收的射频信号进行负放大;将负阻放大模块放大的射频信号在选频模块,负阻放大模块、以及反馈模块之间形成的闭环回路中反馈,以维持负阻放大模块持续工作;对射频信号持续进行负阻放大并输出。本发明采用E类振荡器的设计原理,实现负阻特性的反射放大功能,功耗能够达到个位数的毫瓦级别,功耗低,利于应用于射频识别系前端;并且反射放大器电路结构简单,使用单个晶体管设计负阻放大,不会额外占用过多的芯片面积,更加方便集成,更加方便适用于射频识别系统中。
  • 一种基于振荡特性功耗反射放大器电路
  • [发明专利]单层MoS2-CN202110686636.6有效
  • 吕红亮;贾紫骥;孙佳乐;吕智军;张玉明;张义门 - 西安电子科技大学
  • 2021-06-21 - 2023-04-18 - H01L29/88
  • 本发明公开了一种单层MoS2‑Si基隧穿二极管及其制备方法,涉及半导体技术领域,该方法包括:提供第一衬底,并在第一衬底的一侧表面制备SiO2隔离区,得到第一衬底结构;获取第二衬底,第二衬底包括预先生长得到的单层MoS2;利用外延层转印技术,将单层MoS2转移至第一表面;图形化所述单层MoS2,形成单层MoS2沟道层;在第一表面淀积形成第一电极和第二电极,使第二电极与SiO2隔离区及单层MoS2沟道层直接接触,获得制作完成的单层MoS2‑Si基隧穿二极管。本发明提供的单层MoS2‑Si基隧穿二极管及其制备方法能够降低界面缺陷密度,进而抑制陷阱辅助隧穿,并从工艺角度改善器件的亚阈值摆幅。
  • 单层mosbasesub
  • [发明专利]半导体器件大信号特性的表征方法-CN202110535092.3有效
  • 吕红亮;程林;戚军军;严思璐;张玉明;张义门 - 西安电子科技大学
  • 2021-05-17 - 2022-09-09 - G06F30/373
  • 本发明公开了一种半导体器件大信号特性的表征方法,该方法包括:获取半导体器件,并建立大信号模型拓扑;根据预设直流经验基模型、预设交流经验基模型和大信号模型拓扑,确定经验基宏模型;获取预先采集得到的大信号特性测试数据,并对经验基宏模型中的待拟合参数进行参数估计,得到第一参数;对第一参数进行调谐,得到第二参数;根据第二参数,对经验基宏模型进行优化,并根据优化后的经验基宏模型表征半导体器件的大信号特性。此种设计方式无需将半导体器件电流模型分为本征和非本征两部分,并且能够避免建立繁琐的耗尽电荷模型,使其提取过程更加便捷,进而节省计算机硬件资源和计算时间,同时也有利于保证待拟合参数的拟合精度。
  • 半导体器件信号特性表征方法
  • [发明专利]一种多软件协同的大规模集成电路电磁热一体化设计方法-CN202110256878.1在审
  • 吕红亮;严思璐;戚军军;郭袖秀;张玉明;张义门 - 西安电子科技大学
  • 2021-03-09 - 2021-07-09 - G06F30/32
  • 本发明涉及一种多软件协同的大规模集成电路电磁热一体化设计方法,包括:获取集成电路中有源器件的模型参数;得到有源器件的温度分布结果;得到预设方向的温度分布曲线,预设方向为集成电路中有源器件间热耦合最严重的方向;对温度分布曲线进行函数拟合得到集成电路有源器件自热温升函数和耦合温升函数;获取集成电路中各个有源器件的功耗值;在集成电路的版图文件标注有源器件的器件编号和有源器件的功耗值;利用自热温升函数和耦合温升函数分别计算得到集成电路中所有有源器件的自热温升和热耦合温升;将电热耦合产生的热耦合温升加入集成电路中再次进行仿真得到考虑了集成电路电磁热耦合效应影响后的集成电路电特性仿真结果。本发明能够精确提取出集成电路中各个有源器件工作状态下的自热温升值与电热耦合效益带来的热耦合温升值,分析更细致,精度更高。
  • 一种软件协同大规模集成电路电磁一体化设计方法
  • [发明专利]基于迭代算法的芯片温度分析方法-CN201710259562.1有效
  • 吕红亮;武岳;李少军;张玉明;张义门;杨施政 - 西安电子科技大学
  • 2017-04-20 - 2020-10-30 - G06F30/23
  • 本发明公开了基于迭代算法的芯片温度分析方法,涉及集成电路分析技术领域,通过在有限元软件中建立单个器件热学分析模型,能够快速地得到其温度分布曲线,并且结合MATLAB软件拟合了温度分布函数,利用温度叠加原理,把函数表达式编程到温度计算过程中,避免了传统有限元方法的对整个芯片建立实体模型和网格划分过程,能够简单、快速和高效地实现大规模芯片电路的温度分析。在MATLAB编程中利用迭代算法,将耦合温升所带来的影响等效为环境温度的变化,根据等效后的环境温度得到新的自热温升和耦合温升,从而得到新的温度分布,随后不断地进行迭代计算,直到满足收敛条件,相比于非迭代算法,精度明显提高,能够有效地减小误差。
  • 基于算法芯片温度分析方法

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