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[发明专利]阴影掩模张紧方法和设备-CN201580035532.1有效
发明人： 布莱恩·阿瑟·布奇 -专利权人：阿德文泰克全球有限公司
申请日： 2015-04-17 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在阴影掩模张紧系统和方法中，将具有第二组对准特征件的对象定位在具有第一组对准特征件的阴影掩模的一侧上，使得所述对象和所述阴影掩模能够彼此独立地移动，并且所述第一组对准特征件与所述第二组对准特征件未最终对准。然后，将张力施加到阴影掩模上，以使第一组对准特征件与第二组对准特征件最终对准。所述阴影掩模的对准特征件可包括所述阴影掩模的至少一个沉积孔。
阴影掩模张紧方法设备

[发明专利]通用对准适配器-CN201680001950.3在审
发明人：戴维·N·蒙托;布莱恩·阿瑟·布奇;童圣智;田村信彦;惠滕·E·小利特尔 -专利权人：阿德文泰克全球有限公司
申请日： 2016-10-26 - 公布日： 2018-07-03 - 主分类号： H01J29/07 文献下载
摘要：在阴影掩模张紧方法和设备中，由支撑框架支撑的阴影掩模定位在阴影掩模框架与一组致动器之间，阴影掩模的一部分延伸跨过支撑框架与阴影掩模框架之间的间隙。在编程控制器的控制下，使一组致动器同时地将阴影掩模的一部分的多个间隔开的部位偏移到间隙中，以使阴影掩模的对准孔与定位成观察对准孔的相机的视场中的预定位置对准。然后，将阴影掩模固接到阴影掩模框架。
阴影掩模支撑框架对准孔致动器方法和设备程控制器通用对准预定位置适配器偏移视场张紧对准跨过相机观察延伸支撑

[发明专利]平坦化共用载体框架上的多个阴影掩模的设备和方法-CN201710012937.4在审
发明人： 布莱恩·阿瑟·布奇;戴维·N·蒙托;童圣智 -专利权人：阿德文泰克全球有限公司
申请日： 2017-01-09 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种多掩模对准系统和多掩模对准方法。在用于多掩模对准的设备和方法中，提供了包括贯通载体的孔口的载体。对于每个孔口，包括对准特征的组合的框架和阴影掩模定位在由载体支撑的间隔件上，使得组合的框架和阴影掩模的阴影掩模与孔口粗略对准。接着，每个组合的框架和阴影掩模移到与间隔件间隔开的位置，于是在控制器的控制下，对准系统单独对准每个组合的框架和阴影掩模，以将组合的框架和阴影掩模的对准特征与关联于组合的框架和阴影掩模的参考对准特征对准。每个组合的框架和阴影掩模随后返回到间隔件上的位置，此后每个组合的框架和阴影掩模固定到载体上。在实例中，可以同时对准全部的组合的框架和阴影掩模。
平坦共用载体框架阴影设备方法

[发明专利]用于大面积沉积的小掩模铺设技术-CN201580013400.9在审
发明人： 布莱恩·阿瑟·布奇;斯科特·阿龙·劳尔 -专利权人：阿德文泰克全球有限公司
申请日： 2015-03-06 - 公布日： 2016-11-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：在物理气相沉积(PVD)方法中，在相同沉积室或容器中可以经由第一数量的阴影掩模将呈第一布置的多个材料图案沉积在基板的不同部分上，或者可以使用相同的阴影掩模一次将一个图案沉积在基板的不同部分上。在另一沉积室或容器中可以经由第二数量的阴影掩模将呈第二布置的多个材料图案沉积在基板的部分上。呈第二布置的多个材料图案的各个材料图案被沉积为不与呈第一布置的多个材料图案中的一个材料图案重叠。
用于大面积沉积小掩模铺设技术