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[发明专利]一种用于增强现实的三维场景实现方法及系统-CN202310377980.6有效
发明人：张浩;赵乃勤;肖家胜;翁沛鑫;赵宇暄;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司;清华大学
申请日： 2023-04-10 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H04N13/363 文献下载
摘要：本发明提供一种用于增强现实的三维场景实现方法及系统，所述方法包括：在设定时间周期内，利用照明系统将组成图像帧的深度层二值图像按照设定时序投射给显示系统；显示系统按照所述设定时间周期变换所述图像帧；显示系统依次接收深度层二值图像进行处理，得到对应深度层图像投影到图像传输系统；图像传输系统接收对应深度层图像后，将对应深度层图像传输到人眼前方，使得对应深度层图像与真实场景叠加；并且利用调焦系统将传输到人眼前方的对应深度层图像投影到空间中的特定深度。上述方法能够满足在AR显示设备中使用层析光场显示法实现三维场景展示，解决现有AR显示设备三维场景显示方法具有的辐辏调节冲突。
一种用于增强现实三维场景实现方法系统

[发明专利]一种具有光栅保护功能的光栅切割裂片方法-CN202310942597.0在审
发明人：郭欣月;董文浩;赵宇暄;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种具有光栅保护功能的光栅切割裂片方法，包括：将光栅基板在光栅一面设置保护层，得到具有保护层的光栅基板；对具有保护层的光栅基板进行切割裂片处理，得到对应的具有保护层的光栅基板片材；根据保护层的不同类别，对具有保护层的光栅基板片材进行相应处理，得到所需的光栅基板片材。本发明提供的具有光栅保护功能的光栅切割裂片方法，在光栅基板进行切割裂片过程中，基板上的光栅具有保护层进行保护，避免对光栅结构造成损坏，大大提高光栅的制作效率，降低光栅的制作成本。
一种具有光栅保护功能切割裂片方法

[发明专利]一种判断光栅尺参考点绝对位置的装置及方法-CN201810069463.1有效
发明人：李星辉;周倩;肖翔;倪凯;王欢欢;冒新宇;曾理江;苏晓;王晓浩 -专利权人：清华大学深圳研究生院
申请日： 2018-01-24 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种判断光栅尺参考点绝对位置的装置及方法，该装置包括光源、分束镜、参考点掩膜、参考点编码带、光电探测器和信号处理计算机，参考点掩膜包括多个宽度相等的第一矩形块，多个第一矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列；参考点编码带包括多组参考点组，每组参考点组包括两个参考点编码区，每个参考点编码区包括多个宽度相等的第二矩形块，多个第二矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列，两个参考点编码区沿着第二矩形块的宽度方向间隔排列，多组参考点组沿着第二矩形块的宽度方向等间距排列，第一矩形块和第二矩形块均能够吸收或反射光线。本发明避免了光栅尺增量位移误差和参考点检测误差的干扰，提高了参考点绝对位置判断的可靠性。
一种判断光栅尺参考绝对位置装置方法

[实用新型]一种基板显影用夹持设备及显影设备-CN202320243688.0有效
发明人：孟祥峰;陈正宇;董文浩;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本实用新型提供一种基板显影用夹持设备及显影设备，其中，基板显影用夹持设备包括第一控制设备、第一定向移动设备以及夹具；所述第一控制设备与所述第一定向移动设备连接；所述第一定向移动设备与所述夹具连接；所述夹具用于夹持基板；所述第一控制设备控制所述第一定向移动设备带动夹具夹持的基板以设定速度浸入显影液中。对于光刻胶曝光量不均一的基板，控制基板不同部分浸没显影液的速度，进而控制基板不同部分浸没显影液的时间，从而使得光刻胶曝光量不均一的基板经显影得到的光栅掩模的占宽比达到相对均一的效果，因此可以提高光栅的衍射效率。
一种显影夹持设备

[发明专利]一种用于增强现实的二值层析三维场景实现方法及系统-CN202310449369.X有效
发明人：张浩;赵乃勤;王晓宇;肖家胜;翁沛鑫;赵宇暄;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司;清华大学
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03H1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种用于增强现实的二值层析三维场景实现方法及系统，方法包括：图像处理系统将三维场景进行深度分隔，得到组成三维场景的深度分隔图像，图像处理系统将深度分隔图像按照全息图算法进行处理，得到与深度分隔图像对应的二值全息图，图像处理系统将二值全息图发送给图像显示系统并控制图像显示系统加载二值全息图，从而在特定空间深度生成二值全息图的衍射像，然后图像传输耦合系统接收二值全息图的衍射像，将二值全息图的衍射像传输到人眼前方，使得二值全息图的衍射像与真实场景叠加。上述二值层析三维场景实现方法，解决了AR设备三维场景展示具有的辐辏调节冲突问题，能够实现在AR设备中使用层析光场显示法进行三维场景展示。
一种用于增强现实层析三维场景实现方法系统

[实用新型]一种入射空间角度测量系统-CN202320335085.3有效
发明人：孟祥峰;刘瀚笙;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2023-02-24 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G01C1/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种入射空间角度测量系统，包括光学图像投影设备、光学图像传导设备、第一光学图像采集设备以及光学图像处理设备，光学图像投影设备、光学图像传导设备、第一光学图像采集设备以及光学图像处理设备放置在暗室内；光学图像投影设备靠近光学传导设备设置，用于向光学图像传导设备投射第一图像；光学图像传导设备，用于接收所述第一图像，并输出第二图像；第一光学图像采集设备靠近光学图像传导设备设置，用于采集所述第二图像；第一光学图像采集设备与光学图像处理设备连接。相较于现有方式，本实用新型可提高测量结果准确性，提高测量效率，且测量方法在作业现场即可测量，操作便捷。
一种入射空间角度测量系统

[发明专利]一种入射空间角度测量方法及系统-CN202310195340.3有效
发明人：孟祥峰;刘瀚笙;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2023-02-24 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种入射空间角度测量方法及系统，方法包括：光学图像投影设备向光学图像传导设备投射第一图像，光学图像传导设备接收第一图像，并输出第二图像，第一光学图像采集设备采集第二图像，并将所述第二图像发送给光学图像处理设备，光学图像处理设备对第二图像进行处理，得到光学图像投影设备的入射空间角度。相较于现有方式，本发明可提高测量结果准确性，提高测量效率，且测量方法在作业现场即可测量，操作便捷。
一种入射空间角度测量方法系统

[发明专利]一种用于增强现实显示的光栅波导装置及波导系统-CN202310018538.4有效
发明人：石磊;赵宇暄;冒新宇;孟祥峰 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：本发明提供一种用于增强现实显示的光栅波导装置及波导系统，所述光栅波导装置包括基板和至少一个光栅区域；所述光栅区域设置于所述基板；每一个光栅区域的光栅矢量表达为同一个虚拟二维光栅的n个光栅矢量的整数倍的叠加，其中，n为不小于2的整数。光栅波导装置采用这种设计，实现光栅波导方案显示图像保持较高的清晰度。
一种用于增强现实显示光栅波导装置系统

[实用新型]一种显影系统-CN202223173532.4有效
发明人：孟祥峰;赤赫;董文浩;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2022-11-29 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种显影系统，包括：显影罐本体、样品台和搅拌装置；所述显影罐本体为具有开口的腔体结构，用于容纳显影液；所述样品台用于固定待显影样品，并将所述待显影样品放置于所述显影罐本体的腔体内；所述搅拌装置的转子位于所述显影罐本体的腔体内，并与所述样品台以及所述待显影样品间隔设置。通过本实用新型实施例提供的显影系统，搅拌装置的作用下，转子转动且可以带动显影液加速流动，使得显影液内部一直保持流动状态，腔体内各个位置处显影液的浓度相对均匀，从而可以保证显影后样品的质量；显影下来的光刻胶也会随显影液流动而被计时带走，可以避免产生水纹。并且，显影位置处显影液浓度不会明显降低，也可以提高显影效率。
一种显影系统

[实用新型]二维光栅结构-CN202223533283.5有效
发明人：孟祥峰;董文浩;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本实用新型提供一种二维光栅结构，该二维光栅结构包括：多个周期性排列的基本单元，基本单元包括最高单元、最低单元和位于不同平面的中间单元；最高单元的顶面为二维光栅的顶面，最低单元为二维光栅的光栅槽的底面，中间单元的顶面高度位于二维光栅的顶面与二维光栅的光栅槽的底面之间。本实用新型可以自由调节二维光栅的均匀性和衍射效率，改变二维光栅的光能利用率。
二维光栅结构

[发明专利]用于加工变化槽深光栅的挡板装置和光栅刻蚀加工设备-CN202211577213.1在审
发明人：孟祥峰;董文浩;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2022-12-05 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于加工变化槽深光栅的挡板装置和光栅刻蚀加工设备，属于光学元件加工技术领域，为了解决现有技术中衍射光栅光导成像不均匀的问题，所述用于加工变化槽深光栅的挡板装置包括左右设置的左挡板机构(1)和右挡板机构(2)，左挡板机构(1)含有左挡板(11)，右挡板机构(2)含有右挡板(21)，左挡板(11)和右挡板(21)之间能够形成纵向通孔(3)，纵向通孔(3)的大小、形状和位置均能够改变。从而可以加工出光学设计计算出来的光栅槽深度和深度分布，有效的改善了衍射光栅光导成像均匀性。
用于加工变化光栅挡板装置刻蚀设备

[发明专利]表面浮雕光栅衍射光波导的母版制作方法、光波导和设备-CN202211426075.7有效
发明人：孟祥峰;董文浩;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本申请属于增强现实技术领域，具体涉及一种表面浮雕光栅衍射光波导的母版制作方法、光波导和设备，其中的方法包括：在基板表面形成正性光刻胶层，得到具有均匀光刻胶掩膜的基板；该具有均匀光刻胶掩膜的基板上设有目标结构区域，使用光刻掩膜板遮挡目标结构区域，对具有均匀光刻胶掩膜的基板进行接触曝光和显影处理，得到目标结构区域有光刻胶掩膜的基板；对目标结构区域有光刻胶掩膜的基板进行干涉曝光显影，得到目标结构区域有光栅掩膜的基板；对目标结构区域有光栅掩膜的基板进行刻蚀，得到目标结构区域有光栅结构的基板。该方法解决了刻蚀过程中使用挡板导致的光栅结构缺失和光栅结构边缘槽深偏浅、刻蚀面积缩小的问题，提高了光栅加工精度。
表面浮雕光栅衍射波导母版制作方法设备

[实用新型]一种多角度转接工件台-CN202222374918.5有效
发明人：董文浩;冒新宇;孟祥峰 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2022-09-07 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种多角度转接工件台，属于离子束刻蚀技术领域，解决了现有技术中工件台无法快速调整刻蚀角度的问题。本实用新型包括冷却台、底盘、工作台、固定块、第一压条和第二压条，冷却台上设有底盘和固定块，底盘上设有工作台，固定块包括第一半固定块和第二半固定块，第一压条与第一半固定块和工作台连接，第二压条与第二半固定块和工作台连接。本实用新型的转接工件台操作简便，角度调整迅速，散热效率高。
一种角度转接工件

[发明专利]一种光栅对准方法、光栅结构加工方法及光波导镜片-CN202211068205.4有效
发明人：孟祥峰;董文浩;冒新宇 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2022-09-02 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本申请提供了一种光栅对准方法、光栅结构加工方法及光波导镜片，该光栅对准方法包括：准备制备有二维光栅结构的基板；使具有相干性的第一平行光和第二平行光形成的干涉条纹至少照射二维光栅结构的部分区域；探测干涉条纹照射在二维光栅结构上所形成的莫尔条纹；根据探测得到的莫尔条纹，调整第一平行光和/或第二平行光以形成满足预设条件的曝光用干涉条纹，其中，满足预设条件的曝光用干涉条纹的周期的大小和方向与二维光栅结构的每一个周期的大小和方向均一致；将满足预设条件的曝光用干涉条纹与已有光栅结构的周期进行对准，使后续构造的光栅结构与该已有二维光栅结构的周期对准，提高了光栅的对准精度和光栅的加工精度。
一种光栅对准方法结构加工波导镜片

[实用新型]一种应用于各类基板半切的新型半切装置-CN202221569908.0有效
发明人：孙佳欣;冒新宇;董文浩 -专利权人：北京至格科技有限公司
申请日： 2022-06-22 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： C03B33/03 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种应用于各类基板半切的新型半切装置，包括底板、用于对基板进行切割的切割组件、设置在底板上用于调整切割组件切割位置的导轨组件、以及设置在底板上用于承载基板的基板底座，所述导轨组件包括设置在底板上的Y导轨、设置在Y导轨上的X导轨以及设置在X导轨上的Z导轨，所述切割组件包括夹块和由夹块夹持的玻璃刀，所述夹块固定在Z导轨的滑动块上，所述基板底座设置在底板上，所述基板底座包括一定位板和设置在定位板上的若干个承载台，在所述基板底座上设置有压力传感器，所述压力传感器连接有一示数装置，能够实现适用于不同材质基板的裂片需求，防止出现压力过小无法裂开划痕，或因压力过大导致基板碎裂的现象。
一种应用于各类基板半切新型装置

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