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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]评估掩模相关误差源的系统和方法-CN201010134631.4有效
发明人：莱维·法维舍维斯基;瑟基·赫日斯托;埃米尔·莫什·萨基乌;舍缪尔·孟甘 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2010-03-01 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：评估掩模相关误差源，包括(i)接收表示在不同曝光条件下获得的掩模多个图像的数据；(ii)对于掩模每个图像的多个子帧计算每个子帧像素强度函数的值以提供多个计算值；和(iii)响应于计算值和响应于函数对每个误差源的敏感度检测误差源。
评估相关误差系统方法

[发明专利]电子显微镜中的可变速率扫描-CN200910170555.X有效
发明人：阿米尔·肖汉姆;本齐恩·森德;阿朗·利特曼 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2009-09-10 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： G01N23/225 文献下载
摘要：本发明涉及电子显微镜中的可变速率扫描，并特别提供一种用于对表面成像的方法，其包括用初始带电粒子束以第一扫描速率扫描所述表面的第一区域，以便从所述第一区域产生第一二次带电粒子束；以及用所述初始带电粒子束以比所述第一扫描速率快的第二扫描速率扫描所述表面的第二区域，以便从所述第二区域产生第二二次带电粒子束。所述方法还包括在设置成产生响应所述束的信号的检测器处接收所述第一二次带电粒子束和所述第二二次带电粒子束；以及响应所述信号形成所述第一区域和所述第二区域的图像。
电子显微镜中的可变速率扫描

[发明专利]晶圆表面变量的高产量映射-CN200810135874.2无效
发明人：尹政镐;埃弗拉·罗森曼;埃瑞·拉维德;多伦·梅舒拉切;加迪·格林伯格;科比·卡恩;耶胡达·科恩;西蒙·利瓦伊 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2008-07-16 - 公布日： 2010-01-20 - 主分类号： G01N21/958 文献下载
摘要：一种用于表征样品物体的表面的方法，该方法包括：将所述表面划分为由参数变量表征的像素；以及将所述表面的方块限定为所述像素的各个组。该方法进一步包括：以利用具有不同、各种类型偏振的辐射对所述表面进行多个扫描的方式，照射所述像素；以及响应每个所述扫描，检测来自所述像素的返回辐射。对于每个扫描，响应来自每个方块中的所述像素的组的返回辐射，构造所述方块的各个方块标记。还对于每个扫描，使用所述方块的所述各个方块标记确定方块标记变量。响应所述方块标记变量，选择其中一种类型的偏振用于测试物体的随后检查。
表面变量产量映射

[发明专利]用于评估具有重复图形的目标物体的方法和系统-CN200910146037.4无效
发明人：肖穆里克·曼根;迈克尔·本-伊谢;里奥·肖瓦尔 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2009-06-10 - 公布日： 2009-12-30 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种用于评估光刻掩模中放置误差的方法，所述方法包括：提供或接收表示基准元件的一对基准点之间的距离的基准结果；对于来自与所述光刻掩模的多个分离元件相关的多对点的每对点，测量所述对点之间的距离，以便提供多个测量结果；其中测量结果与所述基准结果之间的差异表示相对放置误差；以及响应所述基准结果与每个测量结果之间的关系确定相对放置误差。
用于评估具有重复图形目标物体方法系统

[发明专利]带电粒子束的图案无变化聚焦-CN200810132080.0有效
发明人：尼珥·玆维 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2008-07-24 - 公布日： 2009-11-04 - 主分类号： H01J37/21 文献下载
摘要：本发明公开一种带电粒子束的图案无变化聚焦。一种用于聚焦扫描显微镜的方法，该方法包括以一次带电粒子束扫描晶片的参考单元裸片的第一部位，检测从该部位处发射的二次束，以及基于二次束来计算该部位的第一聚焦等级。该方法包括以一次束来扫描晶片的指定单元裸片的第二部位，同时调制一次束的焦深，参考单元裸片和指定的单元裸片具有全等的布局，第二部位与第一部位对应在位置上矢量地对应；以及响应一次束来检测从第二部位处发射的二次束。该方法还包括基于所检测的从第二部位发射的二次束来计算第二部位的第二聚焦等级；以及利用第一和第二聚焦等级来确定第二部位的一次束的准确聚焦。
带电粒子束图案无变化聚焦

[发明专利]用于评估具有重复图案的物体的方法和系统-CN200810130733.1无效
发明人：史密尔·曼甘;阿米尔·莫什·萨吉夫 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2008-07-14 - 公布日： 2009-08-19 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种用于评估具有重复图案的物体的方法和系统。光学单元的照明光学系统适于以少量辐射扫描包括与其背景光学上不同的多个规则重复的结构元素的重复图案，产生包括多个衍射瓣的衍射图案。采集光学系统适于将来自重复图案的附图聚焦到检测器上。所聚焦的辐射包括单一衍射瓣而不包括其它衍射瓣。灰场检测器响应所聚焦的采集辐射而产生检测信号。光学单元适于在灰场检测器的检测表面保持辐射图案，该辐射图案包括由重复图案产生的第一辐射图案成分和由缺陷产生的第二辐射图案成分，其中所述第一辐射图案成分比第二辐射成分强。
用于评估具有重复图案物体方法系统

[发明专利]用于电测试半导体晶片的系统和方法-CN200810174800.X无效
发明人：尤金·T·布洛克 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2008-11-05 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：一种用于电测试半导体晶片的系统，该系统包括(a)至少一个带电粒子束聚焦影响组件和(b)适于收集从晶片散射的带电粒子的至少一个检测器；其中该系统适于用离焦带电粒子束扫描样品的第一区域以便影响第一区域的充电，用聚焦带电粒子束扫描第一区域的至少一部分并检测从该至少一部分散射的电子。该系统在离焦带电粒子束保持影响第一区域的同时，扫描该至少一部分。一种用于电测试半导体晶片的方法，该方法包括用离焦带电粒子束扫描样品的第一区域以便影响第一区域的充电；以及在检测从第一区域的至少一部分散射的电子的同时，用聚焦带电粒子束扫描该至少一部分，在由离焦带电粒子束引起的充电保持影响第一区域的同时，扫描该至少一部分。
用于测试半导体晶片系统方法

[发明专利]用于评价图案的参数中变化的方法和系统-CN200780006139.5无效
发明人：迈克尔·本·伊谢;马克·瓦格纳;艾维夏·巴托夫;盖德·格林伯格;里奥·肖瓦尔;俄斐·吉维尔特泽 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2007-02-01 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： G06K9/00 文献下载
摘要：本发明给出了一种用于评价图案参数的变化的方法和系统，该方法包括：处理表示图案化制品的至少一部分的空间强度图像的数据，以及对于在该图案化制品的所述至少一部分中的预定区域确定空间图像强度的一定函数的值，空间图像强度函数的所述值表示在该图案化制品的所述至少一部分中的图案的至少一个参数的变化或通过使用该图案化制品制造的图案的至少一个参数的变化。
用于评价图案参数变化方法系统

[发明专利]用于缺陷检测的方法和系统-CN200710142879.3无效
发明人：史密尔·曼根;鲍里斯·戈德堡;伊谢·施瓦茨班德;翁·哈伦;迈克尔·本-伊谢;阿米尔·萨吉弗 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2007-08-01 - 公布日： 2009-06-10 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：一种用于掩模版评估的系统、方法和计算机可读媒质，该方法包括：(i)在成像工艺期间，在不同的偏振和可选的干涉测量条件下，得到掩模版的多重图像；以及(ii)响应(i)多重图像和(ii)成像工艺和曝光工艺之间的差别以产生输出航空图像；其中在曝光工艺期间掩模版的图像投射到晶圆上。
用于缺陷检测方法系统

[发明专利]用于评估掩模的被评估图案的方法和系统-CN200810001014.X无效
发明人：伊谢·施瓦茨班德;肖穆里克·曼根;钱姆·布劳德;迈克尔·本-伊谢;加迪·格林伯格 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2008-01-10 - 公布日： 2009-05-20 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：一种用于评估掩模的被评估图案的方法、系统和计算机程序产品，该方法包括：接收呈现被评估图案的图像的多个矩；其中需要呈现多个矩的信息的占用空间基本上小于形成被评估图案的图像的像素信息占用空间；以及处理多个矩以确定被评估图案的至少一个形状参数。
用于评估图案方法系统

[发明专利]用于缺陷检测的方法及系统-CN200710142877.4无效
发明人：迈克尔·本－伊谢;奥赫·格弗泰泽 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2007-07-31 - 公布日： 2008-08-06 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于缺陷检测的系统、方法和计算机程序产品，该方法包括：(i)检索与目标的第一图像的测试像素相对应的第二图像的第二像素；其中第一和第二图像使用不同的获得方法得到；(ii)搜索第二图像的第三像素，从而使得第二像素的邻域与第三像素的邻域相类似；(iii)检索与第三像素相对应的第一图像的第四像素；以及(iv)将测试像素与第四像素进行比较。
用于缺陷检测方法系统

[发明专利]先进的粗糙度测量方法-CN200480040018.9无效
发明人：阿维拉姆·塔母;戴维·科林·蔡司 -专利权人： 以色列商·应用材料以色列公司
申请日： 2004-12-10 - 公布日： 2007-01-31 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明公开了一种评价形状的方法，包括：接收该形状的图像并确定图像中形状边缘上多个点的各自坐标。用非圆形的非直线形状的图形拟合多个点，并确定所述多个点到所述图形的各个距离。根据各个距离计算所述形状粗糙度参数。该方法应用于集成电路关键尺寸(CD)的分析，并尤其用于测量通过诸如电子扫描显微镜(SED)成像的形状和元件的粗糙度。
先进粗糙测量方法

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