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[发明专利]异物检测装置、基板处理装置以及异物检测装置的动作确认方法-CN202180022635.X在审
发明人：西畑广;志手英男;林圣人;野口耕平;东广大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： G01N21/53 文献下载
摘要：异物检测装置(50)是构成为检测基板处理用的处理液中包含的异物的装置。该异物检测装置具备：处理液流路形成部，其形成供向基板供给的处理液流通的处理液流路；检查液流路形成部，其形成供与处理液不同的检查液流通的检查液流路(65)；照射部(74)，其构成为朝向处理液流路和检查液流路分别照射来自光源的照射光；以及受光部(76)，其构成为分别接受通过照射照射光而从处理液流路射出的光和通过照射照射的而从检查液流路射出的光。
异物检测装置处理以及动作确认方法

[发明专利]异物检测装置、基板处理装置、异物检测方法和存储介质-CN202180018605.1在审
发明人：林圣人;野口耕平;东广大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： G01N21/85 文献下载
摘要：异物检测装置包括：检测部，其具有流路形成部和测量部，流路形成部形成供对基板供给的处理液流动的处理液流路，测量部能够通过对处理液流路照射来自光源的照射光来接收从该处理液流路射出的出射光；异物判断部，其能够基于出射光的信号强度，判断处理液内是否含有异物；和强度信息获取部，其能够基于信号强度，获取表示出射光中包含的背景光的强度的强度信息。
异物检测装置处理方法存储介质

[实用新型]信息获取系统-CN202220667680.2有效
发明人：牧准之辅;东广大;小西凌 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-03-24 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型涉及信息获取系统。防止位于在基板处理装置处理的基板附近的构件被配置在不适当的位置而产生处理不良的情况。构成一种信息获取系统，其用于获取与对保持于基板保持部的基板进行处理的基板处理装置相关的信息，其中，该信息获取系统构成为包括：基座体，其代替所述基板而由所述基板保持部保持；干涉检测部，其分别包括相对于所述基座体固定的一端侧和相对于所述基座体可动的另一端侧；以及信号获取部，其用于获取根据所述基座体的周边与检测对象构件的干涉引起的所述干涉检测部的变形而变动的信号。
信息获取系统

[发明专利]基片处理装置的信息取得系统和信息取得方法、运算装置-CN202210286399.9在审
发明人：牧准之辅;东广大;小西凌;梶原英树;重本北斗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-03-23 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供一种基片处理装置的信息取得系统和信息取得方法、运算装置，在对基片进行液体处理的基片处理装置中，防止因喷嘴或杯状体相对于基片配置于不合适的位置而导致发生处理不良。信息取得系统用于取得关于基片处理装置的信息，基片处理装置包括：保持基片并使其旋转的基片保持部；向旋转的所述基片的表面供给处理液的喷嘴；和将保持在所述基片保持部上的所述基片包围的杯状体，信息取得系统包括：信息取得体，其能够代替所述基片而被所述基片保持部保持；摄像部，其为了拍摄所述杯状体来取得图像数据而被设置于所述信息取得体；取得部，其基于所述图像数据取得关于所述杯状体的高度的信息。
处理装置信息取得系统方法运算

[发明专利]信息获取系统和信息获取方法-CN202210301606.3在审
发明人：牧准之辅;东广大;小西凌 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-03-24 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明涉及信息获取系统和信息获取方法。防止位于在基板处理装置处理的基板附近的构件被配置在不适当的位置而产生处理不良的情况。构成一种信息获取系统，其用于获取与对保持于基板保持部的基板进行处理的基板处理装置相关的信息，其中，该信息获取系统构成为包括：基座体，其代替所述基板而由所述基板保持部保持；干涉检测部，其分别包括相对于所述基座体固定的一端侧和相对于所述基座体可动的另一端侧；以及信号获取部，其用于获取根据所述基座体的周边与检测对象构件的干涉引起的所述干涉检测部的变形而变动的信号。
信息获取系统方法

[发明专利]信息获取系统和信息获取方法-CN202210303380.0在审
发明人：牧准之辅;东广大;小西凌 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-03-24 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及信息获取系统和信息获取方法。防止位于在基板处理装置处理的基板附近的构件被配置在不适当的位置而产生处理不良的情况。构成一种信息获取系统，其用于获取与对保持于基板保持部的基板进行处理的基板处理装置相关的信息，其中，该信息获取系统构成为包括：基座体，由所述基板保持部保持该基座体来代替保持所述基板；以及多个位置传感器，其为了检测位于所述基座体的外侧的共用的检测对象物的位置，以检测方向互相成为不同方向的方式设于该基座体。
信息获取系统方法

[实用新型]信息获取系统-CN202220667982.X有效
发明人：牧准之辅;东广大;小西凌 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-03-24 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及信息获取系统。防止位于在基板处理装置处理的基板附近的构件被配置在不适当的位置而产生处理不良的情况。构成一种信息获取系统，其用于获取与对保持于基板保持部的基板进行处理的基板处理装置相关的信息，其中，该信息获取系统构成为包括：基座体，由所述基板保持部保持该基座体来代替保持所述基板；以及多个位置传感器，其为了检测位于所述基座体的外侧的共用的检测对象物的位置，以检测方向互相成为不同方向的方式设于该基座体。
信息获取系统

[发明专利]异物检测装置、异物检测方法和存储介质-CN201880007243.4有效
发明人：林圣人;野口耕平;梶原大介;东广大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-01-16 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G01N21/85 文献下载
摘要：本发明提供一种能够高精度地检测在流路部流动的异物的技术。装置包括：流路部(15A～15K)，其构成要被供给到被处理体W的流体流动的流路(17A～17K)；激光照射部(51)，其用于以光路与流路部(15A～15K)中的流体的流动方向交叉的方式对该流路部(15A～15K)内照射激光；设置在从流路部(15A～15K)透射的光路上的受光元件(45A、45B)；检测部(6)，其用于基于从受光元件(45A、45B)输出的信号来检测流体中的异物；和滤光部(57)，其设置在受光元件(45A、45B)与流路部(15A～15K)之间的光路上，遮挡从光照射部(51)对流体照射光而产生的拉曼散射光，并且使瑞利散射光透射而去往受光元件(45A、45B)。
异物检测装置方法存储介质

[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN202110813658.4在审
发明人： 东广大;林圣人;野口耕平 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-07-19 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： B05B9/04 文献下载
摘要：本发明提供一种对流通有要供给到基片的液体的供给路径中的杂质进行光学检测的基片处理装置和基片处理方法。该基片处理装置包括：使要供给到基片的液体流通的供给路径；和杂质检测单元，其基于信号来检测所述液体中的杂质，其中所述信号是由投光部向形成所述供给路径的一部分的流路形成部照射作为近红外线的光而使光从所述流路形成部发出后，受光部接收从所述流路形成部发出的光而得到的信号。根据本发明，能够使基片处理装置应用更多种类的液体。
处理装置方法

[发明专利]药液供给装置和涂敷显影系统-CN202110980343.9在审
发明人：林圣人;野口耕平;梶原大介;东广大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-01-10 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G01N15/14 文献下载
摘要：本发明提供一种药液供给装置和涂敷显影系统，其能够高精度地检测在流路部流动的微小的异物。本发明的药液供给装置包括：供流体流动的流路部；激光照射部，其以光路与上述流路部中的流体的流动方向交叉的方式设置，用于对该流路部内照射来自激光光源的激光，并且上述激光照射部具有光学系统，该光学系统使激光以在与上述流路部的流体的流动方向交叉的方向上变长的方式扁平化；光检测部，其设置在透射上述流路部的光路上，且包含排列在光路的横截面中的长度方向上的多个受光元件；和异物检测部，其将根据上述多个受光元件各自接收的光的强度所对应的电信号的信号电平而得到的信号电平，与规定的信号电平的阈值进行比较，基于比较结果检测上述异物。
药液供给装置显影系统

[发明专利]异物检测装置和异物检测方法-CN201780007489.7有效
发明人：林圣人;野口耕平;梶原大介;东广大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-01-10 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： G01N15/14 文献下载
摘要：【技术问题】本发明提供一种能够高精度地检测在流路部流动的微小的异物的技术。【技术方案】本发明的异物检测装置包括：供流体流动的流路部；激光照射部，其以光路与上述流路部中的流体的流动方向交叉的方式设置，用于对该流路部内照射来自激光光源的激光，并且上述激光照射部具有光学系统，该光学系统使激光以在与上述流路部的流体的流动方向交叉的方向上变长的方式扁平化；光检测部，其设置在透射上述流路部的光路上，且包含排列在光路的横截面中的长度方向上的多个受光元件；和异物检测部，其将根据上述多个受光元件各自接收的光的强度所对应的电信号的信号电平而得到的信号电平，与规定的信号电平的阈值进行比较，基于比较结果检测上述异物。
异物检测装置方法

[实用新型]基板处理装置和基板处理系统-CN202020143435.2有效
发明人：林圣人;野口耕平;东广大;绪方诚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-01-22 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供基板处理装置和基板处理系统。使光学检测供向基板供给的流体流通的供给路径中的异物的基板处理装置小型化。基板处理装置包括：供给路径，其供向基板供给的流体流通；以及异物检测单元，所述供给路径的局部构成流路形成部，该异物检测单元利用投光部形成有朝向该流路形成部的光，作为其结果，自所述流路形成部发出光，该异物检测单元能够基于受光部接收自所述流路形成部发出的光而得到的信号来检测所述流体中的异物，其中，所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以所述流路形成部为基准的上下左右前后的区域中的不相对的区域。
处理装置系统

[发明专利]基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法-CN202010074294.8在审
发明人：林圣人;野口耕平;东广大;绪方诚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-01-22 - 公布日： 2020-07-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板处理装置、基板处理系统以及基板处理方法。使光学检测供向基板供给的流体流通的供给路径中的异物的基板处理装置小型化。基板处理装置包括：供给路径，其供向基板供给的流体流通；以及异物检测单元，所述供给路径的局部构成流路形成部，该异物检测单元利用投光部形成有朝向该流路形成部的光，作为其结果，自所述流路形成部发出光，该异物检测单元能够基于受光部接收自所述流路形成部发出的光而得到的信号来检测所述流体中的异物，其中，所述异物检测单元中的所述投光部和所述受光部设于以所述流路形成部为基准的上下左右前后的区域中的不相对的区域。
处理装置系统以及方法

[发明专利]基板热处理装置、基板热处理方法以及热处理状态检测装置-CN201510617497.6有效
发明人： 东广大;三坂晋一朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-09-24 - 公布日： 2019-04-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够更可靠地检测热处理状态的异常的基板热处理装置、基板热处理方法以及热处理状态检测装置。热处理单元(U2)包括：热板(20)，其用于载置晶圆(W)；加热器(21)，其用于对载置部上的晶圆(W)进行加热；多个温度传感器(40)，其以与热板(20)上的晶圆(W)的多个部位分别相对应的方式配置；以及控制部(100)。控制部(100)以能执行如下步骤的方式构成，即，根据由多个温度传感器(40)检测出的温度来控制加热器(21)的步骤、计算在将由多个温度传感器(40)检测出的温度视作质量的情况下的相当于重心的温度重心的位置的步骤、根据所述温度重心的位置来检测晶圆(W)的热处理状态的步骤。
热处理装置方法以及状态检测

[发明专利]基板输送装置-CN201480007436.1有效
发明人：林圣人;东广大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-01-31 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：高精度地检测基板与支承体之间的摩擦，上述基板被保持于将多个基板保持成架状的基板保持件，上述支承体支承上述基板的背面来进行输送。该基板输送装置具备载置部，其载置上述基板保持件；基板输送机构，其具备支承上述基板的下表面的支承体以及使上述支承体进退的进退机构，该基板输送机构用于对上述基板保持件进行基板的交接；升降机构，其使上述支承体相对于上述基板保持件升降；声音放大部，其用于放大由于支承体与保持于上述基板保持件的基板之间的接触而产生的接触声音；以及检测部，其用于基于从感知在上述基板保持件中传播的固体传播声音并输出感知信号的振动传感器输出的上述感知信号，来检测上述基板与支承体之间的摩擦。
输送装置

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