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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]异物检测装置、基板处理装置以及异物检测装置的动作确认方法-CN202180022635.X在审
发明人： 西畑广;志手英男;林圣人;野口耕平;东广大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： G01N21/53 文献下载
摘要：异物检测装置(50)是构成为检测基板处理用的处理液中包含的异物的装置。该异物检测装置具备：处理液流路形成部，其形成供向基板供给的处理液流通的处理液流路；检查液流路形成部，其形成供与处理液不同的检查液流通的检查液流路(65)；照射部(74)，其构成为朝向处理液流路和检查液流路分别照射来自光源的照射光；以及受光部(76)，其构成为分别接受通过照射照射光而从处理液流路射出的光和通过照射照射的而从检查液流路射出的光。
异物检测装置处理以及动作确认方法

[发明专利]液处理装置的运转方法和液处理装置-CN202110326560.6在审
发明人： 西畑广;李贤友 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： B05B13/02 文献下载
摘要：本公开涉及一种液处理装置的运转方法和液处理装置，在使向基板供给处理液来对基板进行处理的液处理装置运转时，可靠且迅速地进行构成装置的流路系统的清洗。实施以下工序：处理工序，利用设置于包括供给路径的流路系统的泵使处理液从处理液供给源向设置有过滤器的所述供给路径的下游侧流通，使处理液从形成所述供给路径的下游端的供给部供给到基板来对该基板进行处理；清洗工序，向所述流路系统供给清洗液来清洗该流路系统；以及供给路径清洗工序，包括在所述清洗工序中，在所述供给路径中的流体的压力损失比所述处理工序中的该压力损失低的清洗用状态下从该供给路径的上游侧向下游侧供给所述清洗液，来清洗该供给路径。
处理装置运转方法

[实用新型]基板处理装置-CN201721064087.4有效
发明人： 西畑广;福田昌弘;田中公一朗;甲斐亚希子 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-08-24 - 公布日： 2018-05-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种基板处理装置。向被支承成可旋转的基板供给第1处理液或第2处理液，对基板进行处理，即使是该基板处理装置用于使基板低速旋转的工序的情况下，也按照类别回收来自基板的处理液。在显影处理装置中，在正型显影处理之际，使分配部上升，将来自晶圆的正型显影液从分配部与固定杯之间向正型用回收口引导，在负型显影处理之际，使分配部下降，将来自晶圆的负型显影液从分配部与外周壁之间向负型用回收口引导。在固定杯的外周端形成有在分配部下降后该分配部的内周侧端落入的台阶，以使在负型显影处理之际负型显影液不被向正型用回收口引导，并且分配部的上表面的角度形成得比台阶的形成上部的倾斜面的角度大。
处理装置

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201710733231.7在审
发明人： 西畑广;福田昌弘;田中公一朗;甲斐亚希子 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-08-24 - 公布日： 2018-03-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种基板处理装置和基板处理方法。在基板处理方法中，向被支承成可旋转的基板供给第1处理液或第2处理液，对基板进行处理，即使是该基板处理方法包括使基板低速旋转的工序的情况下，也按照类别回收来自基板的处理液。在显影处理装置中，在正型显影处理之际，使分配部上升，将来自晶圆的正型显影液从分配部与固定杯之间向正型用回收口引导，在负型显影处理之际，使分配部下降，将来自晶圆的负型显影液从分配部与外周壁之间向负型用回收口引导。在固定杯的外周端形成有在分配部下降后该分配部的内周侧端落入的台阶，以使在负型显影处理之际负型显影液不被向正型用回收口引导，并且分配部的上表面的角度形成得比台阶的形成上部的倾斜面的角度大。
处理装置方法

[发明专利]基板清洗装置和基板清洗方法-CN201410232087.5有效
发明人：大河内厚;吉原孝介;一之宫博;西畑广;内藤亮一郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2014-05-28 - 公布日： 2018-01-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板清洗装置、基板清洗方法。一边使基板旋转一边向基板的中心部依次喷射清洗液和气体，在使喷射清洗液和气体的喷嘴朝向基板的周缘侧移动之后，切换至设定在自第1清洗液喷嘴的移动轨迹偏离的位置上的第2清洗液喷嘴来喷射清洗液，一边喷射清洗液并喷射气体一边使两个喷嘴朝向基板的周缘侧移动，以使自第2清洗液喷嘴的喷射位置起到基板的中心部为止的距离与自气体喷嘴的喷射位置起到基板的中心部为止的距离之间的差逐渐变小的方式使各喷嘴移动。
清洗装置方法

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