|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 13个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]液滴释放装置和液滴释放方法-CN202210262846.7在审
-
三根阳介
-
东京毅力科创株式会社
-
2022-03-17
-
2022-10-04
-
B05B12/08
- 本发明的液滴释放装置和液滴释放方法能够稳定地进行液滴的释放状态的检查。液滴释放装置包括输送机构、多个释放头、检查台、介质输送部和拍摄部。输送机构沿着输送方向输送工件。多个释放头对工件释放功能液的液滴。检查台吸附检查用介质，该检查用介质接收从多个释放头释放的检查用的液滴。介质输送部在与输送方向正交的方向上输送检查用介质。拍摄部拍摄被释放到检查用介质的液滴。检查台具有多个第一分割台和多个第二分割台。多个第一分割台沿着正交的方向彼此连结。多个第二分割台相对于多个第一分割台在输送方向上相邻地配置，且沿着正交的方向彼此连结，多个第二分割台的接缝位于与多个第一分割台的接缝在输送方向上不重叠的位置。
- 释放装置方法
- [发明专利]涂敷装置和涂敷方法-CN201810100699.7有效
-
三根阳介;宫崎一仁
-
东京毅力科创株式会社
-
2018-02-01
-
2022-10-04
-
B05C5/00
- 本发明提供一种能够抑制质量测量器的破损的涂敷装置。在基片上描绘功能液的描绘图案的涂敷装置，其包括：保持上述基片的基片保持部；液滴排出部，其向保持于上述基片保持部的上述基片排出上述功能液的液滴；移动部，其使上述基片保持部与上述液滴排出部在主扫描方向和副扫描方向相对地移动，质量测量部，其包含接收由上述液滴排出部排出的液滴的杯和对存积在上述杯的内部的上述功能液的质量进行测量的质量测量器；和排液部，其将存积在上述杯的内部的上述功能液从上述杯排出。
- 装置方法
- [实用新型]液滴释放装置-CN202220582362.6有效
-
三根阳介
-
东京毅力科创株式会社
-
2022-03-17
-
2022-09-13
-
B05B12/08
- 本实用新型的液滴释放装置能够稳定地进行液滴的释放状态的检查。液滴释放装置包括输送机构、多个释放头、检查台、介质输送部和拍摄部。输送机构沿着输送方向输送工件。多个释放头对工件释放功能液的液滴。检查台吸附检查用介质，该检查用介质接收从多个释放头释放的检查用的液滴。介质输送部在与输送方向正交的方向上输送检查用介质。拍摄部拍摄被释放到检查用介质的液滴。检查台具有多个第一分割台和多个第二分割台。多个第一分割台沿着正交的方向彼此连结。多个第二分割台相对于多个第一分割台在输送方向上相邻地配置，且沿着正交的方向彼此连结，多个第二分割台的接缝位于与多个第一分割台的接缝在输送方向上不重叠的位置。
- 释放装置
- [发明专利]绘制装置和绘制方法-CN201980053167.5在审
-
三根阳介;宫崎一仁
-
东京毅力科创株式会社
-
2019-08-08
-
2021-03-26
-
B05C5/00
- 本发明的实施方式的绘制装置(1)包括多个支承部(51)、移动部(53)、调节部(30、31)和绘制部(32)。多个支承部(51)从下方支承工件。移动部(53)使支承部(51)沿水平方向移动。调节部(30、31)对支承于支承部(51)的工件从下方吹去空气来调节工件的浮起高度。绘制部(32)对工件进行绘制，该工件由调节部(30、31)调节了浮起高度并以支承于支承部(51)的方式移动。调节部(21、30、31、40)包括：在支承部(51)的移动方向上设置在比绘制部(32)靠上游侧处的第1调节部(30)；和设置在绘制部(32)的下方的、比第1调节部(30)高精度地调节工件的浮起高度的第2调节部(31)。
- 绘制装置方法
- [发明专利]液滴释放装置-CN202010552402.8在审
-
三根阳介
-
东京毅力科创株式会社
-
2020-06-17
-
2020-12-29
-
B05B13/02
- 本发明提供一种液滴释放装置。实施方式的液滴释放装置包括输送机构、释放头、第1介质输送部、第2介质输送部和摄像部。输送机构沿输送方向输送工件。释放头对工件释放功能液的液滴。第1介质输送部在与输送方向正交的方向上输送能够接收从释放头释放的检查用的液滴的第1检查用介质。第2介质输送部在正交的方向上输送第2检查用介质，该第2检查用介质能够接收从释放头释放的检查用的液滴，并与第1检查用介质在输送方向上并排配置。摄像部拍摄释放到第1检查用介质的液滴和释放到第2检查用介质的液滴。本发明能够高效地进行液滴的释放状态的调整。
- 释放装置
- [发明专利]减压干燥装置-CN201010516316.8无效
-
池田文彦;三根阳介;大西辰己;永田广
-
东京毅力科创株式会社
-
2010-10-18
-
2011-05-25
-
H01L21/00
- 本发明提供一种减压干燥装置，通过滚轮搬送高效、安全且顺畅地进行基板的搬入、搬出，在减压干燥处理中通过任意粗度的销对基板进行支承，并尽可能抑制在基板上的涂敷膜附着基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(12)将进行被处理基板(G)的平流搬送的滚轮搬送路径(38B)引入到腔室(40)内，利用基板升降机构(60)在腔室(40)内使基板(G)通过升降销(62)进行上下。而且，在比升降销(62)的销前部稍低(通常10mm以下)的位置上水平设置有遮蔽板(100)，能够通过遮蔽板升降机构(102)使该遮蔽板(100)的高度位置可变。
- 减压干燥装置
- [发明专利]减压干燥装置和减压干燥方法-CN201010277683.7有效
-
池田文彦;三根阳介;大西辰己
-
东京毅力科创株式会社
-
2010-09-07
-
2011-04-13
-
G03F7/38
- 本发明提供一种减压干燥装置和减压干燥方法，能够在对被处理基板上的涂敷膜迅速地进行减压干燥处理的工艺和缓慢地进行减压干燥处理的工艺之间有选择性地进行切换。在该减压干燥单元(214)中，气流控制部(260)包括：位于下部腔室(224)的沿Y方向相对的侧壁224(2)、224(4)的内侧、并配置在载置台(230)的两侧的第一分隔板(262A、262B)；使该第一分隔板(262A、262B)在第一高度位置和第二高度位置之间升降移动的第一升降机构(264)。而且，气流控制部(260)包括：配置在载置台(230)的周围或旁边的、横截面呈コ字状的第二分隔板(276)；使该第二分隔板(276)在第三高度位置和第四高度位置之间升降移动的第二升降机构(278)。
- 减压干燥装置方法
- [发明专利]基板处理装置和涂敷装置以及涂敷方法-CN200810174786.3有效
-
筱崎贤哉;大塚庆崇;中满孝志;池本大辅;三根阳介
-
东京毅力科创株式会社
-
2008-11-05
-
2009-05-13
-
H01L21/00
- 本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法，其特征在于：在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧)的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R)，具有：分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面)和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R)；沿着搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R)；使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。
- 处理装置以及方法
|
