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[发明专利]接合装置和接合方法-CN202210521583.7在审
发明人：牧哲也;大西辰己;稻益寿史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-05-13 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及接合装置和接合方法。提供一种提高基板彼此的接合精度的技术。接合装置包括第1保持部、第2保持部、第1干涉仪、壳体、气体供给部和气流控制盖。第1保持部对第1基板进行吸附保持。第2保持部对第2基板进行吸附保持。第1干涉仪通过向第2保持部或与第2保持部一起在第1水平方向上移动的第1物体照射光，从而测量到第2保持部或第1物体为止的第1水平方向上的距离。壳体收纳第1保持部、第2保持部和第1干涉仪。气体供给部设于壳体的侧面，向壳体的内部供给气体。气流控制盖设于壳体的内部，将自气体供给部供给来的气体的流动的一部分朝向自第1干涉仪照射的光的第1路径转换方向。
接合装置方法

[发明专利]减压干燥装置-CN201010516316.8无效
发明人：池田文彦;三根阳介;大西辰己;永田广 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-10-18 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种减压干燥装置，通过滚轮搬送高效、安全且顺畅地进行基板的搬入、搬出，在减压干燥处理中通过任意粗度的销对基板进行支承，并尽可能抑制在基板上的涂敷膜附着基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(12)将进行被处理基板(G)的平流搬送的滚轮搬送路径(38B)引入到腔室(40)内，利用基板升降机构(60)在腔室(40)内使基板(G)通过升降销(62)进行上下。而且，在比升降销(62)的销前部稍低(通常10mm以下)的位置上水平设置有遮蔽板(100)，能够通过遮蔽板升降机构(102)使该遮蔽板(100)的高度位置可变。
减压干燥装置

[发明专利]减压干燥装置和减压干燥方法-CN201010277683.7有效
发明人：池田文彦;三根阳介;大西辰己 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-09-07 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： G03F7/38 文献下载
摘要：本发明提供一种减压干燥装置和减压干燥方法，能够在对被处理基板上的涂敷膜迅速地进行减压干燥处理的工艺和缓慢地进行减压干燥处理的工艺之间有选择性地进行切换。在该减压干燥单元(214)中，气流控制部(260)包括：位于下部腔室(224)的沿Y方向相对的侧壁224(2)、224(4)的内侧、并配置在载置台(230)的两侧的第一分隔板(262A、262B)；使该第一分隔板(262A、262B)在第一高度位置和第二高度位置之间升降移动的第一升降机构(264)。而且，气流控制部(260)包括：配置在载置台(230)的周围或旁边的、横截面呈コ字状的第二分隔板(276)；使该第二分隔板(276)在第三高度位置和第四高度位置之间升降移动的第二升降机构(278)。
减压干燥装置方法

[发明专利]基板处理方法-CN200910007671.X无效
发明人：白石雅敏;寺田尚司;麻生丰;大西辰己;真锅英二 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-02-20 - 公布日： 2009-08-26 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法，其是在溶解光致抗蚀剂图案而形成所希望的抗蚀剂图案的回流处理中，能够提高生产效率，降低成本的基板处理方法。在溶解在基板(G)上形成的光致抗蚀剂图案(206)，形成新的光致抗蚀剂图案的基板处理方法中实行以下步骤：将作为底膜的蚀刻掩模使用的上述光致抗蚀剂图案(206)在纯水(W)中暴露规定时间的步骤；向上述基板(G)上吹付空气，除去上述纯水(W)的步骤；和将上述光致抗蚀剂图案(206)暴露于溶剂气氛中进行溶解，对规定区域进行掩模的步骤。
处理方法