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- [发明专利]图案曝光装置以及图案曝光方法-CN202180082822.7在审
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鬼头义昭;加藤正纪
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株式会社 尼康
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2021-12-03
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2023-08-08
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G02B26/12
- 具有在基板上描绘图案的描绘单元的图案曝光装置具有：第1光源装置，其射出第1光束；第2光源装置，其射出第2光束；光束合成部，其将来自第1光源装置的第1光束和来自第2光源装置的第2光束以分别入射到描绘单元的方式进行合成；光束形状变形部，其以使投射到基板上的第1光束所形成的第1点光的形状与第2光束所形成的第2点光的形状相互不同的方式使入射到光束合成部的第1光束与第2光束各自的截面形状相互不同；以及控制装置，其以利用第1点光和第2点光中的任意一方或双方对在基板上描绘的图案的至少边缘部进行描绘的方式进行控制。
- 图案曝光装置以及方法
- [发明专利]处理系统-CN201910510003.2有效
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鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和
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株式会社 尼康
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2015-09-03
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2023-07-28
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G03F7/30
- 本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
- 处理系统
- [发明专利]处理系统-CN201910692841.6有效
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鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和
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株式会社 尼康
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2015-09-03
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2023-05-16
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G03F7/30
- 本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
- 处理系统
- [发明专利]基板处理装置-CN202210005576.1有效
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鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和;木内徹
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株式会社 尼康
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2017-08-07
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2023-05-05
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B65G49/06
- 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
- 处理装置
- [发明专利]图案描绘装置-CN201880052782.X有效
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鬼头义昭;加藤正纪
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株式会社尼康
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2018-09-06
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2023-03-28
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置(EX)，将作为点光(SP’)投射于基板(P)的描绘光束(LBn)的强度，一边根据以多数个像素(PIC)规定的图案的描绘数据进行调变、一边将点光(SP’)的投射位置在基板(P)上沿像素(PIC)的2维排列相对扫描。图案描绘装置(EX)，具备：根据描绘数据，对相对扫描中点光(SP’)照射的曝光像素的各个射出作为描绘光束以既定周期(Tf)振荡的脉冲光的既定数，对相对扫描中不被点光(SP’)照射的非曝光像素的各个则中断既定数脉冲光的射出的光源装置(LS)，以及根据描绘数据，以使对曝光像素中对应图案边缘部的边缘部曝光像素(PIC’)射出的脉冲光的数量，相对既定数增减的方式控制光源装置(LS)的描绘控制装置(200)。
- 图案描绘装置
- [发明专利]处理系统-CN201910384087.X有效
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鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和
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株式会社尼康
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2015-09-03
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2023-02-17
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G03F7/30
- 本发明提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
- 处理系统
- [发明专利]制造系统-CN201680056621.9有效
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加藤正纪;鬼头义昭;奈良圭;堀正和;木内徹
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株式会社尼康
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2016-09-28
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2022-04-08
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H01L21/677
- 本发明的制造系统(10)，是一边将长条的可挠性片材基板(P)搬送于长边方向、一边通过多个处理装置(PR)连续的对该片材基板施以处理，其具备设置在该多个处理装置(PR)中的第1处理装置(PR2)与相邻的第2处理装置(PR3)之间的蓄积部(BF1)，以及于第1处理装置(PR2)中，暂时停止对该片材基板(P)的处理、或该片材基板(P)的搬送时，判定该蓄积部(BF1)的该片材基板(P)的蓄积状态是否满足以预想的该第1处理装置(PR2)的停止时间决定的所需蓄积状态的控制装置(14,18)。
- 制造系统
- [发明专利]基板处理装置-CN202010235350.1有效
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鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和;木内徹
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株式会社尼康
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2017-08-07
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2022-04-01
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B65H23/188
- 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
- 处理装置
- [发明专利]光束扫描装置-CN201780060673.8有效
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加藤正纪;鬼头义昭
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株式会社尼康
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2017-09-04
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2022-04-01
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G03F7/20
- 本发明的描绘单元(Un)具备具有折射能力的fθ透镜系统(FT)，且以与多面镜(PM)的反射面(RP)的角度变化相应的扫描速度使点光(SP)进行扫描，该fθ透镜系统(FT)使经角度可变的多面镜(PM)的反射面(RP)偏向的加工用光束(LBn)入射，并使加工用光束(LBn)于基板P聚光为点光(SP)。描绘单元(Un)具备：光电转换元件(DTo)，其接收朝向多面镜(PM)的反射面(RP)投射的原点检测用激光光束(Bga)的反射光束(Bgb)，并输出表示多面镜(PM)的反射面(RP)成为既定角度的时间点的原点信号(SZn)；及透镜系统(GLb)，其被设定为较fθ透镜系统(FT)的折射能力低的折射能力，且使反射光束(Bgb)于光电转换元件(DTo)聚光为点光(SPr)。
- 光束扫描装置
- [发明专利]图案描绘装置、图案描绘方法、以及元件制造方法-CN201910096369.X有效
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鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;加藤正纪
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株式会社尼康
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2017-03-28
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2022-03-15
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G02B26/12
- 一种曝光装置(EX)，其一面根据图案信息对来自光源装置(LS)的光束(LBn)进行强度调变，一面将光束(LBn)投射至基板(P)上并沿主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上描绘图案，且具备：扫描单元(Un)，其具有光束扫描部，该光束扫描部包含为了实现光束(LBn)的扫描而使光束(LBn)偏向的多面镜(PM)，该光检测器(DTn)对光束(LBn)被投射至基板(P)时产生的反射光进行光电检测；电光学器件(36)，其以于形成于基板(P)上的第1图案(PT1)的至少一部分，重迭地描绘应重新描绘的第2图案(PT2)的至少一部分的方式，根据图案信息而控制光束(LBn)的强度调变；及测量部(116)，其于在基板(P)上描绘第2图案(PT2)的期间，根据自光检测器(DTn)输出的检测信号(PSn)而测量第1图案(PT1)与第2图案(PT2)的相对的位置关系。
- 图案描绘装置方法以及元件制造
- [发明专利]光束扫描装置-CN201780061771.3有效
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加藤正纪;鬼头义昭
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株式会社尼康
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2017-09-04
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2022-01-07
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G02B26/12
- 描绘单元(Un)具备使经角度可变的多面镜(PM)的反射面(RP)偏向的加工用光束(LBn)入射，并使加工用光束(LBn)于基板(P)聚光为点光(SP)的fθ透镜系统(FT)，且根据多面镜(PM)的反射面(RP)的角度变化而使点光(SP)进行扫描。描绘单元(Un)具备：光束送光部(60a)，其将用以检测多面镜(PM)的反射面(RP)成为既定角度的原点的光束(Bga)投射至多面镜(PM)的反射面(RP)；反射镜(MRa)，其使于反射面(RP)反射的光束(Bgb)入射，并反射向反射面(RP)；及检测部(60b)，其基于在反射面(RP)再次反射的光束(Bgd)输出原点信号(SZn)。
- 光束扫描装置
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