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[发明专利]基于同轴干涉的波面测量装置-CN201910331365.5有效
发明人：贾伟;周常河;王津;项长铖;谢永芳;薄启宇 -专利权人：暨南大学
申请日： 2019-04-24 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： G01M11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量装置，包括用于产生干涉条纹场的马赫曾德双光束干涉系统、用于产生同轴干涉的合束元件、采集干涉信号的光探测器、以及用于扫描双光束干涉场的二维移动台和测量位移的激光干涉仪系统。其特点是在传统的马赫曾德双光束干涉仪中引入小尺寸合束元件，使两束相干光产生同轴干涉，通过二维扫描测量该干涉信号的周期变化，实现对马赫曾德双光束干涉场周期的高精度测量，从而推算出双光束波面的分布情况。利用小尺寸合束元件的扫描测量，该发明可以实现大尺寸波面的测量，而不需要相应尺寸的合束元件或参考波面。
基于同轴干涉测量装置

[发明专利]基于两个单脊光栅的5×5点阵衍射光栅-CN201810226783.3有效
发明人：周常河;鲁云开;项长铖 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2018-03-19 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种基于两个单脊光栅的5×5点阵衍射光栅，该光栅是由两个一维单脊光栅上下排列一体构成，且上层光栅的光栅周期方向与下层光栅的光栅周期方向互相垂直，所述的光栅周期均为1.309微米，上层光栅占空比为0.576～0.611，刻蚀深度为1.008～1.072微米，下层光栅占空比为0.5，刻蚀深度为0.873～0.897微米。当TM偏振光垂直入射时，将产生5×5的点阵，总的衍射角度为80°×80°，总的衍射效率大于93％，并且其均匀性优于8％。本发明由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，取材方便，造价小，能批量生产，具有重要的实用前景。
基于两个光栅点阵衍射

[发明专利]一种检测透明材料表面微小颗粒杂质的装置及使用方法-CN201911248661.5在审
发明人：王津;周常河;贾伟;叶宗浩;李俊杰;金戈;项长铖 -专利权人：暨南大学
申请日： 2019-12-09 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：一种检测透明材料表面微小颗粒杂质的装置，包括平行光路模块、偏振照明模块、待测样品和相衬成像模块和图像收集模块，所述待测样品设置于偏振照明模块内，所述相衬成像模块包括第一透镜、相位板、第二透镜和聚焦显微物镜，平行光路模块产生的光速通过偏振照明模块，随后依次通过第一透镜、相位板、第二透镜和聚焦显微物镜形成光斑传输至图像收集模块。
一种检测透明材料表面微小颗粒杂质装置使用方法

[发明专利]完美光学涡旋轨道角动量复用/解复用的光纤耦合装置-CN201710624741.0有效
发明人：余俊杰;吴俊;项长铖;尹正坤;周常河 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2017-07-27 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： G02B6/28 文献下载
摘要：本专利涉及一种完美光学涡旋轨道角动量复用/解复用的光纤耦合装置，该光纤耦合装置主要包括：完美涡旋轨道角动量复用端，空心光纤，及完美涡旋轨道角动量解复用端。所述的光纤耦合装置可以实现多路单模光纤输入信号经过完美涡旋编码光栅耦合进入同一根特殊设计的空心光纤中。此外，所述的光纤耦合装置还可以实现经过空心光纤长距离传输的多路信号经过完美涡旋编码光栅解复用分别耦合进入多路单模光纤实现多路信号解调。这种完美光学涡旋轨道角动量复用/解复用的光纤耦合装置在高速光纤通信方面具有重要的潜在应用价值。
完美光学涡旋轨道角动量解复用光纤耦合装置

[发明专利]一种基于同轴干涉的波面测量系统和方法-CN201910430146.2在审
发明人：贾伟;周常河;王津;项长铖;谢永芳;薄启宇 -专利权人：暨南大学
申请日： 2019-05-22 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量系统，包括：马赫曾德双光束干涉光路、同轴干涉记录单元、二维移动平台、激光干涉仪单元及数据处理单元；待测光学元件设置在所述马赫曾德双光束干涉光路中，所述马赫曾德双光束干涉光路用于产生两束马赫曾德干涉光路，一路作为参考光，另一路作为测量光，其中测量光经过待测光学元件，所述同轴干涉记录单元设置在二维移动平台上，用于将两束马赫曾德干涉光路合路成同轴干涉信号，并记录同轴干涉信号的光强信息，本发明测量波面的尺寸和精度不再受限于分束镜的大小和表面质量，因此在大尺寸波面以及大尺寸光学元件面形测量中具有很好的应用前景。
同轴双光束干涉光路马赫曾德干涉光路二维移动平台干涉波面测量干涉信号光学元件记录单元测量光大尺寸光学元件数据处理单元激光干涉仪光强信息面形测量参考光测量波分束镜波面合路受限记录应用

[发明专利]TE偏振的单脊结构1×5分束光栅-CN201710576263.0有效
发明人： 项长铖;周常河;吴俊 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2017-07-14 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种用于1550纳米波长的TE偏振的单脊结构1×5分束光栅，该光栅的光栅周期为3010～3020纳米，脊宽为1505～1510纳米，刻蚀深度为2270～2278纳米。当1550纳米波长的TE偏振光垂直入射时，其透射光将分成等强度的5束光，其衍射效率大于97％，分束均匀性优于1.5％。本发明TE偏振的单脊结构1×5分束光栅由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，取材方便，造价小，能大批量生产，具有重要的实用前景。
te 偏振结构光栅

[发明专利]全息光栅周期高精度在线测量与调节装置-CN201811318508.0在审
发明人：贾伟;周常河;王津;项长铖;谢永芳;赵冬;薄启宇 -专利权人：暨南大学
申请日： 2018-11-07 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种全息光栅周期高精度在线测量与调节装置，该装置包括用于产生并调节光栅场的双光束全息干涉光路，用于产生同轴干涉的参考光栅和采集干涉信号的光电探测器，以及用于扫描全息光栅场的一维高精度移动台和测量位移的激光干涉仪系统。其特点是在传统全息光路中引入参考光栅，使两束相干光产生同轴干涉，通过测量该干涉信号的周期变化，实现对全息光栅场的高精度在线测量，同时通过准直透镜的二维移动实现全息光栅周期的高精度在线调节。
全息光栅高精度在线测量参考光栅调节装置干涉信号光栅场光路同轴激光干涉仪系统双光束全息干涉高精度移动台光电探测器测量位移传统全息二维移动扫描全息在线调节周期变化准直透镜相干光干涉测量采集引入

[发明专利]基于超透镜的激光直写装置及其激光直写方法-CN201811445709.7在审
发明人：王津;周常河;贾伟;谢永芳;赵冬;项长铖 -专利权人：暨南大学
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于超透镜的激光直写装置及其激光直写方法。将超透镜置于直写基底之上，充分利用超透镜的超分辨成像，使得在超透镜的下表面及其近场范围内的距离可以形成高分辨的图像，缩小聚焦的光斑尺寸，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。利用达曼光栅，可以一次直写多条光栅栅线，提高激光直写的直写并行度。本装置适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
透镜刻写激光直写直写激光直写装置衍射光学元件超分辨成像高密度光栅光斑达曼光栅光栅栅线并行度高分辨下表面基底近场聚焦图像

[发明专利]基于达曼光栅的激光直写装置-CN201811444399.7在审
发明人：王津;周常河;贾伟;谢永芳;赵冬;项长铖 -专利权人：暨南大学
申请日： 2018-11-29 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于达曼光栅激光直写装置。将STED超分辨引入到达曼光栅激光直写光路部分，充分利用STED超分辨成像，将激发光和损耗光的两种空间分布的光斑进行重叠，重叠区域荧光被猝灭，因此只有中心区域很小范围内才能够辐射荧光，实现了超分辨成像，可以产生一个更小的聚焦光斑，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。在此基础上利用达曼光栅，可以一次直写多条光栅栅线，提高激光直写的直写并行度。本装置适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
刻写达曼光栅激光直写装置超分辨成像激光直写荧光直写衍射光学元件高密度光栅光斑光栅光栅栅线聚焦光斑空间分布中心区域重叠区域并行度超分辨激发光损耗光光路猝灭辐射引入

[发明专利]实时三维激光荧光显微成像装置-CN201710034451.0有效
发明人：余俊杰;周常河;项长铖;吴俊 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2017-01-17 - 公布日： 2018-11-20 - 主分类号： G02B21/00 文献下载
摘要：一种实时三维激光荧光成像装置，该装置同时兼容传统明场照明显微成像工作模式。所述实时三维激光荧光成像装置根据功能主要分为激光激发模块、明场成像照明模块、数字探测模块、目镜观察模块，以及控制模块五个部分。利用空间光调制器加载角锥相位，从而在聚焦物镜后场产生高斯贝塞尔照明光场。在探测光路中，通过加入扭曲达曼光栅实现多物面同时成像，将从物镜收集的荧光通过多物面成像技术将多个轴向平面同时成像到电子增强CCD探测面上，从而实现了实时三维荧光成像。这种实时三维荧光成像技术在生物活体组织、活体细胞显微成像方面有重要的实用价值。
实时三维激光荧光显微成像装置

[发明专利]可调贝塞尔光束产生装置及其高阶圆环达曼光栅的设计方法-CN201510242132.X有效
发明人：余俊杰;周常河;贾伟;卢彦聪;项长铖 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2015-05-13 - 公布日： 2018-06-19 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种可调贝塞尔光束产生装置及其高阶圆环达曼光栅的设计方法，可调贝塞尔光束产生装置依次包括：光纤耦合输出激光器、耦合输出光纤、光纤耦合输出镜、准直透镜、高阶圆环达曼光栅、第一透镜、环形振幅滤波片、圆形转盘和第二透镜9。所述的环形振幅滤波片是装配在所述的圆形转盘上，所述圆形转盘可以绕其中心轴自由转动。本发明可在一定程度上调节所产生的贝塞尔光束的横向分辨率和轴向焦深。可以广泛用于大景深成像、激光粒子捕获及自聚焦伺服系统等场合。 1
光束产生装置达曼光栅圆形转盘高阶可调圆环透镜光纤耦合滤波片耦合输出光纤横向分辨率输出激光器激光粒子伺服系统准直透镜大景深输出镜中心轴自聚焦焦深轴向捕获成像装配

[发明专利]衍射光相位可控的二维达曼光栅-CN201510174137.3有效
发明人：卢炎聪;周常河;余俊杰;贾伟;李树斌;李燕阳;王津;项长铖 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2015-04-14 - 公布日： 2018-03-06 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种衍射光相位可控的二维达曼光栅，将一个周期分为许多相同的矩形单元，通过优化各个矩形单元的相位延迟来获得所需要的远场衍射光分布。特别的，所述单元的相位延迟是二值分布的，所述的衍射光相位可控的二维达曼光栅能使单色平面波在远场形成特定衍射级次的衍射光光强相等。本发明一方面可以大幅度提高衍射光的效率,另一方面还可以实现分束不同级次之间的二元相位控制，在相干通信和相干检测等领域具有重要的应用价值。
衍射相位可控二维光栅

[发明专利]产生完美涡旋阵列的二维编码相位光栅-CN201510210527.1有效
发明人：余俊杰;周常河;贾伟;卢彦聪;项长铖 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2015-04-28 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种产生完美涡旋阵列的二维编码相位光栅，该光栅为纯相位结构光栅中编码载入涡旋相位和角锥相位而成，所产生的衍射光场的不同衍射级次上携带有不同拓扑荷的涡旋相位和不同发散度的角锥相位。通过所述二维编码相位光栅在其傅立叶变换面上可以同时产生多个携带不同拓扑荷的环形光斑阵列，并且这些环形光斑大小相等。这种具有不同拓扑荷、相同大小的环形完美涡旋在光纤通信轨道角动量复用方面具有重要的应用前景。
产生完美涡旋阵列二维编码相位光栅

[发明专利]1×2高效率反射式光栅-CN201510165518.5有效
发明人：王津;周常河;麻健勇;曹红超;卢炎聪;李民康;项长铖 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2015-04-03 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种中心波长为1064纳米TE偏振的1×2高效率反射式光栅，其结构为熔融石英基底上依次镀上铬膜、金膜和熔融石英膜，在熔融石英膜层上刻蚀矩形槽光栅，未被刻蚀的熔融石英膜层为连接层，光栅周期为2304～2308纳米，占空比为0.34～0.36，光栅深度为570～590纳米，连接层厚度133～143纳米。本发明在TE偏振光垂直入射时，可以实现中心波长1064纳米消零级且±1级衍射效率高于96％。本发明可以由多光束激光并行直写装置结合自感应耦合等离子深刻蚀工艺以及镀膜技术加工而成，取材方便，加工简单，具有重要的实用前景。
高效率反射光栅

[发明专利]基于锥形金属-电介质多层光栅结构的偏振无关宽带吸收器-CN201610049732.9在审
发明人：吴俊;周常河;李民康;项长铖 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2016-01-25 - 公布日： 2016-06-08 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种用于红外波段的基于锥形金属-电介质多层光栅结构的偏振无关宽带吸收器，包括自上而下的金属-电介质多层光栅、金属薄膜反射层和电介质衬底；所述的金属-电介质多层光栅的周期d为1640～1645纳米，该金属-电介质多层光栅由N对金属光栅和电介质光栅叠加组成，且占空比由上而下逐渐增加。当TE和TM偏振光垂直入射时，其在红外波段一个较宽的波带范围的入射光将被吸收，偏振无关吸收率超过90％的带宽大于2微米，并且在很大的入射角范围内可以维持很高的偏振无关吸收，具有很大的角度无关性，可以广泛用于热光伏器件和红外隐身等领域。结合微电子深刻蚀工艺加工而成，取材方便，造价小，能大批量生产，具有重要的实用前景。
基于锥形金属电介质多层光栅结构偏振无关宽带吸收

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