专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]压力控制方法和装置、光伏设备-CN202010558574.6有效
  • 郑文宁;赵迪;陈正堂 - 北京七星华创流量计有限公司
  • 2020-06-18 - 2023-04-14 - G05D16/20
  • 本发明实施例提供一种压力控制方法和装置、光伏设备,该方法包括以下步骤:S1、实时检测源瓶的压力和气体流量,以获得压力值和气体流量值;S2、基于压力值和气体流量值在单位时间内的波动情况,确认数据模式;S3、根据单位时间内获得的压力值和气体流量值,采用确认出的数据模式和智能计算模型进行计算,以获得调整因子;S4、基于调整因子,对用于计算压力输出值的预设控制算法所使用的控制系数进行修正,以获得新控制系数;S5、采用预设控制算法并使用新控制系数计算获得压力输出值,并输出至被控对象。本发明实施例提供的压力控制方法和装置、光伏设备,能够快速、精确地控制源瓶的压力,减少压力波动对工艺的影响,提高压力控制的响应速度。
  • 压力控制方法装置设备
  • [发明专利]工艺腔室流量控制装置-CN202110929036.8在审
  • 陈正堂;王振东;赵寒阳 - 北京七星华创流量计有限公司
  • 2021-08-13 - 2023-04-04 - F16K1/32
  • 本申请实施例提供了一种工艺腔室流量控制装置。该工艺腔室流量控制装置包括:阀体组件设置于阀座组件上,阀体组件的一端开设有滑动槽,滑动槽的开口与阀座组件内的流体通道连通,滑动槽与阀座组件相对的内壁上开设有导向孔,导向孔与滑动槽同轴设置;阀芯组件可滑动地设置于滑动槽内,阀芯组件的一端开设有同轴设置的导向槽,阀芯组件的另一端能伸入流体通道内,通过控制阀芯组件在流体通道的径向滑动,以调节流体通道的开合度;导向组件设置于导向槽内,导向组件上具有导向柱,所述导向柱与所述导向孔滑动配合,用于对所述阀芯组件进行导向限位。本申请实施例大幅提高流量调节的精确性。
  • 工艺流量控制装置
  • [发明专利]腔室压力控制方法及装置、半导体设备-CN201910314577.2有效
  • 郑文宁;赵迪;陈正堂 - 北京七星华创流量计有限公司
  • 2019-04-18 - 2022-03-18 - G05D16/20
  • 本发明提供一种腔室压力控制方法及装置、半导体设备,该方法包括以下步骤:S1,检测腔室内部的实际压力值;S2,计算实际压力值与预设的目标压力值的差值;判断差值是否超出预设范围,若超出,则进行步骤S3;若未超出,则流程结束;S3,获取控制系数,该控制系数为曲率与预设的PID系数的乘积,该曲率为与当前的气体流量值对应的关于压力和位置参数的曲线中,与执行单元的当前的位置参数值相对应的曲率;S4,基于差值和控制系数计算获得执行单元的位置参数调整量,向该执行单元输出,返回步骤S2。本发明提供的腔室压力控制方法及装置、半导体设备的技术方案,可以精确快速的控制腔室内压力,使之稳定在预设范围内,从而可以提高工艺质量和成品率。
  • 压力控制方法装置半导体设备
  • [发明专利]气体流量调节装置和半导体加工设备-CN202110060548.5在审
  • 杨蕾;陈正堂 - 北京七星华创流量计有限公司
  • 2021-01-18 - 2021-05-07 - H01L21/67
  • 本发明提供一种气体流量调节装置和半导体加工设备,该气体流量调节装置包括:底座结构,在底座结构中设置有气体通道;活塞部件,可移动地设置在底座结构中,用以通过在指定方向上移动来调节气体通道的通气截面面积;旋转驱动源的驱动轴包括位于旋转驱动源外部的连接部分;以及传动结构,其旋转件与驱动轴的连接部分连接,且与移动件螺纹连接,限位组件与移动件连接,用以在旋转件随驱动轴旋转时,限制移动件旋转,以使移动件能够相对于旋转件沿指定方向移动;移动件与活塞部件连接。本发明提供的气体流量调节装置和半导体加工设备,无需对电机要求较高的精度,从而可以降低设备成本,而且可以简化拆卸、调试过程,从而可以提高工作效率。
  • 气体流量调节装置半导体加工设备
  • [发明专利]气体质量流量控制器-CN202010900168.3在审
  • 王振东;陈正堂;赵迪 - 北京七星华创流量计有限公司
  • 2020-08-31 - 2020-11-27 - G05D7/06
  • 本发明实施例提供一种气体质量流量控制器,用于检测流经工艺腔室的气体流量,包括相互独立的流量检测模块和流量调节模块,以及控制模块,其中,流量检测模块设置在工艺腔室的进气端,用于检测该工艺腔室的进气端处的气体流量值,并发送至控制模块;流量调节模块设置在工艺腔室的出气端,用于调节工艺腔室的出气端处的气体流量;控制模块用于根据流量检测模块检测到的气体流量值和流量设定值,控制流量调节模块调节工艺腔室的出气端的气体流量,以使流经工艺腔室的气体流量等于流量设定值。本发明实施例提供的气体质量流量控制器,不仅可以提高控制精度,尤其可以保证温度敏感型气体的流量精度,而且便于拆装和维护。
  • 气体质量流量控制器
  • [发明专利]工艺腔室压力控制装置-CN202010778501.8在审
  • 陈正堂;赵迪;郑文宁 - 北京七星华创流量计有限公司
  • 2020-08-05 - 2020-11-03 - H01L21/67
  • 本申请实施例提供了一种工艺腔室压力控制装置。该压力控制装置与半导体工艺设备的工艺腔室连接,其包括:流体通道具有进气口及出气口;流量传感器与流体通道连通,并且靠近进气口设置,用于检测流体通道内的气流量;压力传感器与流体通道连通,并且靠近出气口设置,用于检测流体通道内的气压值;流量调节机构与流体通道连接,并且位于流量传感器及压力传感器之间,用于调节流体通道的开合度;控制器与用于根据流量传感器检测到的气流量和/或压力传感器检测到的气压值,控制流量调节机构调节流体通道的开合度,以调节工艺腔室内的压力。本申请实施例大幅缩小了体积及降低应用维护成本,并且大幅减少外漏漏点数量。
  • 工艺压力控制装置
  • [发明专利]压力调节阀、压力控制阀以及反应腔室-CN201911300970.2在审
  • 陈正堂;赵迪;郑文宁 - 北京七星华创流量计有限公司
  • 2019-12-17 - 2020-04-21 - F16K1/22
  • 本发明提供的一种压力调节阀,调节阀为三偏心蝶阀,三偏心蝶阀包括具有流道的阀座、设置在流道中的碟片以及密封圈,其中,流道的周壁上设置有凹槽,凹槽的侧壁上设置有第一配合部;密封圈包括支撑部和密封部,支撑部上设置有第二配合部,支撑部设置在凹槽中,且第二配合部与第一配合部向卡合,以防止密封圈从凹槽中脱落,密封部与支撑部连接,用于在碟片关闭时,密封碟片两侧的空间。本发明利用第二配合部与第一配合部相互配合,以将密封圈固定在阀座的流道中,避免密封圈脱落,进而提高压力调节阀的密封性,增加压力调节阀的稳定性。本发明还提供了一种压力控制阀和一种反应腔。
  • 压力调节控制以及反应

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