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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板处理装置-CN201810620090.2有效
发明人： 赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-06-15 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明的用于进行基板研磨工序的基板处理装置包括研磨基板表面的研磨单元，在将基板放置于基板放置部的状态下，以调节研磨单元的移动速度的方式处理基板。由此，本发明可以获得提高基板平坦化研磨品质并缩短处理时间的效果。
处理装置

[发明专利]刷洗装置-CN201811474003.3有效
发明人： 赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-12-04 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及刷洗装置，刷洗装置包括：清洗刷，其旋转接触基板的表面；扭矩感测部，其感测清洗刷的旋转扭矩；速度控制部，当扭矩感测部感测的清洗刷的旋转扭矩超过预先设置的设置范围时，其使清洗刷的旋转速度变动，借助于此，可以获得提高基板的清洗效率、提高清洗效果的有利效果。
刷洗装置

[发明专利]化学机械式研磨装置的调节器-CN201811397105.X有效
发明人：金泰贤;赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-11-22 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学机械式研磨装置的调节器，包括：调节盘，其用于对研磨垫进行重整；加压部，其用于向调节盘施加轴向加压力；测量部，其用于测量借助于加压部的加压力；控制部，基于测量部测量的加压力，控制调节盘相对于研磨垫的相对速度参数。
化学机械式研磨装置调节器

[发明专利]基板处理装置-CN201811189485.8有效
发明人： 赵珳技;林钟逸 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-10-12 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置，其包括：研磨垫，用于研磨基板的研磨层；承载头，具备与基板的上表面接触的隔膜，将基板压靠在研磨垫上。
处理装置

[发明专利]基板处理装置及方法-CN201811208792.6有效
发明人： 赵珳技;林钟逸 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-10-17 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置，该基板处理装置包括研磨基板的研磨层的研磨垫、测量研磨垫的温度信息的温度测量部、基于研磨垫的温度信息来控制基板的研磨结束时间点的控制部，借助于此，可以获得准确地控制基板的研磨厚度、提高研磨效率的有利效果。
处理装置方法

[发明专利]化学机械抛光装置及其方法-CN201610070647.0有效
发明人： 赵珳技;蔡熙成 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2016-02-01 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明涉及化学机械抛光装置及其方法，该装置包括：抛光头，以使晶片位于下侧的状态对晶片加压并使其旋转；垫高测定部，在化学机械抛光工序过程中，获取抛光垫的半径方向上的表面高度偏差；调节器，具有臂部和调节盘，臂部以铰链轴为中心旋回旋转规定角度，调节盘将抛光垫压向臂部的下侧并进行旋转；控制部，在第二位置上以第二旋回速度对臂部的旋回速度进行调节，第二位置上的抛光垫的高度高于第一位置上的高度，第二旋回速度小于第一旋回速度，由此，通过调节调节盘的旋回速度，能够缓和在抛光垫的不同位置上的表面高度偏差，因此，即便相同的施压力作用于晶片，根据抛光垫的表面高度偏差，摩擦力不同，从而能够按各区域调节晶片的每小时的抛光量。
化学机械抛光装置及其方法

[实用新型]保持环及包括其的载体头-CN201920430432.4有效
发明人： 赵珳技;崔在荣 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2019-04-01 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：公开了一种保持环及包括其的载体头。就根据一个实施例的对基板进行夹紧的载体头的保持环而言，所述保持环设置为对所述被夹紧的基板的边缘区域进行包围，并且可形成相对于所述基板的边缘区域可变化的间距。
保持包括载体

[实用新型]研磨装置用承载头及用于其的隔膜-CN201920012423.3有效
发明人： 赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2019-01-04 - 公布日： 2019-10-08 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本实用新型涉及化学机械式研磨装置的承载头及用于其的隔膜，提供一种研磨装置用承载头的隔膜及具备其的承载头，从对基板的板面加压的隔膜底板的边缘延长形成有隔膜侧面，且在隔膜侧面下侧区域配备有倾斜地延长的倾斜面，如果向最外侧压力腔室施加正压，则倾斜面向下方变形并成为隔膜底板的延长形态。
隔膜承载头隔膜底板研磨装置本实用新型机械式研磨压力腔室侧面侧区域对基板倾斜面板面正压加压变形施加配备

[实用新型]基板处理装置-CN201821060805.5有效
发明人：林钟逸;赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-07-05 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板处理装置，该基板处理装置用于进行基板的研磨工序，其包括：研磨垫，用于研磨基板的上表面；研磨头，具备与研磨垫上表面接触的隔膜，相对于基板进行移动，从而可以提高研磨稳定性及研磨准确度。
基板处理装置研磨上表面研磨垫基板本实用新型准确度研磨基板研磨头隔膜移动

[实用新型]基板研磨装置-CN201821185874.9有效
发明人：林钟逸;赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-07-25 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： B24B37/20 文献下载
摘要：公开一种基板研磨装置。基板研磨装置包括：基板移送部，其以使得基板的被研磨面朝向上部的状态连续移送多个基板；研磨模块，其设置于所述基板移送部的上部，并设置有用于研磨所述基板的研磨垫；以及基板支撑部，其设置于所述基板移送部的下部，在隔着所述基板移送部的状态下，在所述基板的背面支撑所述基板。
基板移送部基板基板研磨装置研磨基板支撑部多个基板研磨垫研磨面背面支撑

[实用新型]压力检测装置及包含其的基板研磨系统-CN201821330472.3有效
发明人：权宁奎;赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-08-17 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：公开了压力检测装置及包含其的基板研磨系统。根据一个实施例的对基板进行夹紧并移动的基板载体的压力检测装置配置于所述基板载体的移动路径上，通过所述基板载体得到加压，由此可以检测所述基板载体的压力。
基板载体压力检测装置基板研磨移动路径对基板夹紧加压检测移动配置

[实用新型]基板研磨装置-CN201821330473.8有效
发明人：崔东圭;林钟逸;赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-08-17 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：公开一种基板研磨装置。根据一个实施例的基板研磨装置包括：基板支撑单元，其支撑基板；以及研磨单元，其研磨所述基板，在所述基板的研磨过程中，所述基板支撑单元或研磨单元可以进行移动，以便使得所述基板的研磨部位发生变化。
基板研磨装置研磨基板基板支撑单元研磨单元支撑基板移动

[发明专利]基板处理装置-CN201811189975.8在审
发明人： 赵珳技;林钟逸 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-10-12 - 公布日： 2019-05-07 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置，其包括：研磨垫，用于研磨基板的研磨层；承载头，用于将基板压靠在研磨垫上；控制部，基于由温度测量部测量的温度信息，控制基板的研磨结束时间点。
基板处理装置研磨垫结束时间点温度测量部控制基板温度信息研磨基板研磨承载头基板压研磨层测量

[实用新型]化学机械式研磨装置的承载头及其隔膜-CN201820904981.6有效
发明人： 赵珳技 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-06-12 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本实用新型提供一种能够高精度地调节晶片的研磨厚度的化学机械式研磨装置的承载头及其隔膜，所述隔膜包括：底板，其由可挠性弹性材质构成，用于对晶片的板面加压；侧面，其由可挠性弹性材质构成，在所述底板的边缘向上方折弯形成；第二膜瓣，其从所述侧面朝向外侧延伸；第三膜瓣，其从所述侧面的上端朝向上方延伸后朝向外侧延伸。
隔膜底板机械式研磨弹性材质外侧延伸承载头可挠性侧面晶片膜瓣本实用新型研磨上端板面折弯加压延伸

[实用新型]基板处理装置-CN201820075312.2有效
发明人： 赵珳技;林钟逸;崔光洛 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-01-17 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： B24B49/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种基板处理装置，基板处理装置包括：输入部，其用于输入针对基板的特性数据；研磨部，其根据由特性数据决定的研磨因素对基板进行研磨；监控部，其对基板的厚度信息进行监控；因素调节部，其以与基板的厚度信息相对应的形式对研磨因素进行调节，据此，可以获得如下有利效果：准确地对基板的研磨厚度进行控制，使得研磨效率提高。
研磨基板处理装置对基板厚度信息特性数据基板本实用新型研磨效率因素调节监控部研磨部监控

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