专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]配线及层间连接通孔的形成方法-CN200810211097.5无效
  • 端场登志雄;赤星晴夫;铃木齐;珍田聪 - 日立电线株式会社
  • 2008-08-20 - 2009-03-04 - H05K3/42
  • 本发明提供一种配线及层间连接通孔的形成方法,通过电镀在基板上形成配线或层间连接通孔时,使除去不需要的金属层的操作减轻化。在电镀使用的电镀液中添加添加剂。添加剂具有抑制电镀反应的功能,但具有随着电镀反应的进行其抑制电镀反应的功能减少的特性。添加剂具有使金属的析出过电压增大的功能,但具有随着反应的进行使金属的析出过电压减小的特性。由此,可以使金属在形成于基板上的槽及凹部内有选择地析出。在基板上形成配线或层间连接通孔时,在基板上形成具有规定的表面粗糙度的槽及凹部。
  • 层间连接通形成方法
  • [发明专利]金属结构体及其制造方法-CN200610002424.7无效
  • 端场登志雄;吉田博史;赤星晴夫;铃木齐 - 株式会社日立制作所
  • 2006-01-27 - 2006-09-13 - C25D5/02
  • 本发明涉及用抗蚀剂膜而不用掩模,通过少的工序形成特定图案的金属膜。在基板上具有金属膜的金属结构体的制造方法中,其特征在于,该方法包括:把形成金属膜的部分用具有凹凸形状的导电体其形成的工序;以及通过电镀,在上述导电体上具有凹凸形状的部分优先形成金属膜的工序。在电镀液中,如花青色素那样,可以抑制电镀反应,在电镀反应进行的同时添加失去电镀反应抑制效果的化合物是优选的。在具有凹凸形状的部分,通过电镀可优先形成金属膜。
  • 金属结构及其制造方法

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