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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]超临界处理装置-CN201910968081.7有效
发明人：李在晟;崔海圆;崔基勋;科里阿金;许瓒宁;金度宪;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-10-12 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的一实施例提供一种超临界处理装置，包括：器皿，具备在中央形成有第一流体孔的上器皿和在中央形成有第二流体孔的下器皿；以及空间部，在所述上器皿与所述下器皿之间布置基板，在所述上器皿的下部设置有第一引导部，所述第一引导部形成为从所述第一流体孔越向周边侧向下倾斜。
临界处理装置

[发明专利]基板清洁组合物、基板处理方法、以及基板处理设备-CN201811075544.9有效
发明人：崔海圆;姜基文;崔基勋;A·科里阿金;许瓒宁;李在晟;林权泽;金勇勲;李相昊 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种无水基板清洁组合物，基板处理方法和基板处理设备。所述无水基板清洁组合物包括含氟刻蚀化合物、溶解所述刻蚀化合物的溶剂、以及作为含磷化合物的粘结剂。
清洁组合处理方法以及设备

[发明专利]用于处理基板的装置-CN201910852522.7有效
发明人：崔基勋;许瓒宁;金度宪;崔海圆;李在晟;A·科里阿金;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-09-10 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的装置包括：显影室，其通过供应显影溶液对基板执行显影工艺；超临界室，其通过供应超临界流体来处理基板；和传送室，其具有传送单元，该传送单元在显影室与超临界室之间传送基板W。
用于处理装置

[发明专利]基板清洁组合物、基板清洁方法和基板处理装置-CN201910962253.X有效
发明人：崔海园;崔基勋;李在晟;许瓒宁;A·科里阿金;金度宪;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-10-11 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：提供了一种用于清洁基板的组合物。根据一个实施方式，用于清洁基板的组合物包含有机溶剂，该有机溶剂针对聚苯乙烯胶乳的汉森溶解度参数为5以上至12以下。
清洁组合方法处理装置

[发明专利]用于处理基板的装置-CN201910350495.3有效
发明人：李在晟;崔基勋;崔海圆;A·科里阿金;许瓒宁;金度宪;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-04-28 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的装置，其包括在内部具有处理空间的腔室、在所述处理空间中支承所述基板的基板支承单元、以及安装在所述腔室中并调节所述处理空间中的温度的温度调节单元。所述温度调节单元包括加热所述处理空间的加热构件、以及冷却所述处理空间的冷却构件。所述冷却构件位于比所述加热构件更靠近所述腔室的中心轴线。
用于处理装置

[发明专利]旋转头及包括该旋转头的基板处理装置和方法-CN201611011607.5有效
发明人：李知桓;崔重奉;许瓒宁;许弼覠 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2016-11-17 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明涉及一种旋转头、包括所述旋转头的基板处理装置和方法。根据本发明的实施方式，所述旋转头包括放置基板的支撑板和放置在所述支撑板上并支撑所述基板侧部的卡盘销，其中所述卡盘销包括外本体和插入所述外本体中并且具有与所述外主体不同材料的内本体，其中所述外本体和所述内本体中的每个具有第一材料或第二材料中的任一种，并且其中所述第一材料和所述第二材料中的一种材料包括具有比另一种更低的导热性和更好的耐热性的材料。
旋转包括处理装置方法

[发明专利]基板处理设备-CN202010698255.5在审
发明人： 许瓒宁;崔基勋;姜基文;金度宪;李在晟 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-07-20 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的设备包括：处理腔室，在处理腔室中限定有处理空间；支撑单元，用于在处理空间中支撑基板；流体供应单元，用于将超临界流体供应到处理空间；以及控制器，其构造成控制流体供应单元，其中流体供应单元被构造成将超临界流体以第一密度或高于第一密度的第二密度选择性地供应至处理空间中。因此，当使用超临界流体干燥基板时，可以提高基板的干燥效率。
处理设备

[发明专利]处理基板的方法-CN202010672057.1在审
发明人：金度宪;崔基勋;许瓒宁;姜基文 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-07-14 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：公开了一种处理基板的方法。在一个实施例中，将超临界流体供应至腔室中的处理空间，从而处理所述处理空间中的基板。在排放所述处理空间的情况下，将所述超临界流体供应到所述处理空间。当排放所述处理空间时供应的所述超临界流体的温度，高于供应到所述处理空间用于处理所述基板的所述超临界流体的温度。
处理方法

[发明专利]用于处理基板的方法-CN201910653248.0在审
发明人：崔海园;A·科里阿金;郑址洙;崔基勋;李在晟;许瓒宁;金度宪 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2020-01-31 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种基板处理方法包括：通过将显影流体涂覆到经过曝光工艺和后烘工艺的基板而对所述基板执行显影工艺；将冲洗流体涂覆到经过所述显影工艺的所述基板；以及将涂覆有所述冲洗流体的所述基板移动到高压腔室且通过使用超临界流体处理所述基板。
基板涂覆冲洗流体显影工艺超临界流体处理高压腔室基板处理基板移动曝光工艺显影流体后烘

[发明专利]基板处置装置和基板处置方法-CN201810659255.7在审
发明人：崔海圆;崔基勋;姜基文;许瓒宁;A·科里阿金;李在晟 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-06-25 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明涉及基板处置装置和基板处置方法。基板处置装置包括第一处理室，其构造为向在基板上执行曝光处理之后被运送到第一处理室中的基板供给显影液，第二处理室，其构造为通过超临界流体处置基板，进给机械手，其构造为将基板从第一处理室递送到第二处理室；以及控制器，其构造为控制进给机械手，使得在由第一处理室供给的显影液驻留在基板上的状态下，基板被传送到第二处理室。
基板第一处理室处置装置机械手显影液进给超临界流体基板供给曝光处理控制器驻留运送

[发明专利]回收单元、利用该回收单元的基体处理设备和回收方法-CN201410126255.2有效
发明人：郑恩先;金禹永;许瓒宁 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种基体处理设备。该基体处理设备包括处理室和回收单元，在处理室中通过使用作为超临界流体提供的流体将保留在基体上的有机溶剂溶解以干燥基体，回收单元包括将有机溶剂与从处理室排出的流体分离以回收流体的回收器。回收器包括具有用于吸收有机溶剂的吸收剂存储其中的空间的柱状体，将从处理室排出的流体供给至柱状体的空间内的供给管，将在柱状体中与有机溶剂分离的流体排出的排出管，将净化气体供给至柱状体以便将有机溶剂与吸收剂分离的气体供给管，以及将包含有机溶剂的净化气体排出至柱状体的外部的排出管。
回收单元利用基体处理设备方法

[发明专利]再循环单元以及衬底处理设备-CN201410124436.1有效
发明人：郑仁一;郑恩先;许瓒宁;朴正善;金性洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2014-03-28 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理设备。该衬底处理设备包括干燥室，在该干燥室中通过使用作为超临界流体提供的流体溶解残留在衬底上的有机溶剂以干燥衬底；将流体供应到干燥室中的供应单元；和再循环单元，其包括用于从由干燥室排放的流体中分离有机溶剂以再循环流体的分离器，该再循环单元将再循环流体供应到供应单元中。所述分离器包括其中引入包含第一浓度有机溶剂的流体的蒸馏器；加热从蒸馏器排放的包含第二浓度有机溶剂的流体的加热单元，该加热单元将蒸发的包含第三浓度有机溶剂的流体供应到蒸馏器中；使从蒸馏器排放的包含第四浓度有机溶剂的流体液化的冷凝单元。有机溶剂具有在浓度上依次降低的第二浓度、第一浓度、第三浓度和第四浓度。
再循环单元以及衬底处理设备

[发明专利]基板处理装置-CN201510409339.1在审
发明人：崔重奉;金性洙;许瓒宁;权五珍 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2015-07-13 - 公布日： 2016-01-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种基板处理装置，所述装置包括：处理容器，所述处理容器的顶端是开放的；基板支撑单元，所述基板支撑单元放置于处理容器中以支撑基板；处理液供应单元，所述处理液供应单元将处理液供应至放置于基板支撑单元上的基板；以及加热单元，所述加热单元放置于基板支撑单元中以加热基板。所述加热单元包括：加热元件和反射元件，所述反射元件将来自加热元件的热量向上反射。
处理装置

[发明专利]处理基板的设备和方法-CN201210227992.2有效
发明人：郑恩先;金禹永;许瓒宁;朴正善 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2012-07-02 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了处理基板的设备和方法，更具体地涉及使用超临界流体处理基板的设备和方法。该处理基板的设备包括：处理室，在所述处理室中，余留在基板上的有机溶剂使用被提供为超临界流体的流体溶解以干燥所述基板；和再生单元，有机溶剂在所述再生单元中与从处理室排出的流体分离以再生所述流体。
处理设备方法

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