专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种硅基MSM光电探测器-CN202210776345.0在审
  • 崔积适;肖洪地 - 三明学院
  • 2022-07-04 - 2022-11-01 - H01L31/108
  • 本发明提供了一种硅基MSM光电探测器,包括:硅衬底波导层,形成在所述硅衬底波导层上方的光吸收层;在所述光吸收层上形成的P型轻掺杂区;与所述P型轻掺杂区连接的N型轻掺杂区;电连接在所述光吸收层第一端部的第一电极,电连接在所述光吸收层第二端部的第二电极,电连接在N型轻掺杂区的第三电极;其中,所述第一电极和所述第二电极配置为在有光信号时产生信号电流,暗电流被所述第三电极输运,解决了MSM结构的探测器存在较大的暗电流问题。
  • 一种msm光电探测器
  • [发明专利]一种锗lab区硅基锗探测器-CN202210776366.2在审
  • 崔积适;肖洪地 - 三明学院
  • 2022-07-04 - 2022-11-01 - H01L31/0224
  • 本发明提供了一种锗lab区硅基锗探测器,包括:硅波导层;第一表面与所述硅波导层接触的光吸收层;与光吸收层第二表面接触的光吸收层slab区,其中,所述光吸收层slab区包括与所述光吸收层的接触的接触部、以及与所述接触部连接的第一延伸部;与所述硅波导层连接的第二延伸部;生长在所述第一延伸部上且远离所述硅波导层的一端的第一电极;生长在所述第二延伸部上且远离所述硅波导层的一端的第二电极。解决了现有技术中硅基锗光电探测器,存在部分光信号被电极吸收,导致探测器的响应度小的问题。
  • 一种lab区硅基锗探测器
  • [发明专利]可转移氧化镓单晶薄膜的制备方法-CN202010998919.X有效
  • 肖洪地;赵冲冲;杨小坤;刘杰 - 山东大学
  • 2020-09-22 - 2022-09-27 - H01L21/02
  • 本发明涉及可转移氧化镓单晶薄膜的制备方法,该方法包括如下步骤:通过电化学刻蚀技术制备纳米多孔GaN薄膜;采用有机金属化学气相沉积技术在纳米多孔GaN薄膜上外延生长氧化镓单晶薄膜;采用PDMS压印技术转移氧化镓单晶薄膜;采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术去除GaN层,完成制备。本方法可制备大面积(cm2)、可转移至任何衬底(如:硅、塑料、金属)上的氧化镓单晶薄膜,不仅规避了机械剥离之缺点,而且还规避了氧化镓单晶衬底热导率差、不导电、价格昂贵、难以光电子集成等难题,所制备的薄膜可用于柔性半导体光电器件。
  • 转移氧化镓单晶薄膜制备方法
  • [发明专利]一种交叉指形电极有源器件及其光器件-CN202210639857.2在审
  • 崔积适;肖洪地 - 三明学院
  • 2022-06-08 - 2022-09-06 - G02F1/01
  • 本发明提供了一种交叉指形电极有源器件及其光器件,包括:衬底层;配置在所述衬底层上的硅波导层,以及配置在所述硅波导层上的硅脊波导层,其中,所述硅波导层和硅脊波导层配置为定向引导电磁波且能够对光进行分束;设置在所述硅波导层第一侧的多个第一电极,设置在所述波导层第二侧且与多个所述第一电极相匹配的多个第二电极,其中,所述第一侧和第二侧相对,其中,所述第一电极和所述第二电极交错设置。基于本发明,通过对硅波导层两侧位置相对的电极进行交错设置,进一步的减小电极之间的寄生电容效应,从而减小高频信号的损耗,提高有源器件的带宽,有效提高光电芯片的带宽和信息传输速率。
  • 一种交叉电极有源器件及其
  • [发明专利]一种具有GaN/纳米空腔的蓝光发光二极管的制备方法-CN201910098470.9有效
  • 曹得重;肖洪地 - 西安工程大学
  • 2019-01-31 - 2020-10-27 - H01L33/16
  • 本发明公开的是一种具有GaN/纳米空腔的蓝光发光二极管的制备方法,具体包括以下步骤:步骤1、在电解液中,对生长在c‑面蓝宝石衬底上的n‑GaN/n+‑GaN周期性结构进行电化学刻蚀,制得纳米多孔GaN;步骤2、采用退火技术将所述纳米多孔GaN转变为具有GaN/纳米空腔周期性结构的GaN薄膜;步骤3、在所述GaN薄膜上依次外延生长n‑GaN层、InGaN/GaN超晶格和多量子阱层以及Mg掺杂p‑GaN层,制得InGaN基蓝光二极管。本发明是一种具有GaN/纳米空腔的蓝光发光二极管的制备方法,能够制备出大面积、高发光效率的InGaN基蓝光发光二极管。
  • 一种具有gan纳米空腔发光二极管制备方法

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